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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > "Carbon tetrafluoride"に関連した英語例文

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"Carbon tetrafluoride"を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 13



例文

The mixed gas of carbon tetrafluoride (CF4) and oxygen (O2) is used as gas species.例文帳に追加

ガス種として四弗化炭素(CF_4)および酸素(O_2)の混合ガスを用いる。 - 特許庁

To provide a body provided with a MFI type zeolite membrane capable of separating sulfur hexafluoride or carbon tetrafluoride from a gaseous mixture containing sulfur hexafluoride (SF_6) or carbon tetrafluoride (CF_4) by selectively permeating sulfur hexafluoride or carbon tetrafluoride through the MFI type zeolite membrane.例文帳に追加

六フッ化硫黄(SF_6)又は四フッ化炭素(CF_4)を含有する混合ガスから、六フッ化硫黄又は四フッ化炭素をMFI型ゼオライト膜に選択的に透過させることにより、六フッ化硫黄又は四フッ化炭素を分離することができるMFI型ゼオライト膜配設体を提供する。 - 特許庁

The fluorine contained in the oxygen takes the form of fluoro-resin constituting atoms such as carbon tetrafluoride or polyethylene tetrafluoride.例文帳に追加

この場合、フッ素は、四フッ化炭素やポリ四フッ化エチレンなどのフッ素樹脂の構成原子として酸素中に含有させる。 - 特許庁

Using a gas scavenger consisting of fluorine gas such as carbon tetrafluoride preferably, recovered raw material metal fluoride is refined.例文帳に追加

好ましくは四フッ化炭素などのフッ素系ガスからなる気体スカベンジャーを用いて、回収した原料フッ化金属の精製を行う。 - 特許庁

例文

A carbon tetrafluoride gas is supplied into a reaction chamber 15 containing the wafer W to generate plasma, and after a polysilicon layer on a surface of the wafer W is subjected to plasma etching using the plasma, a chlorine gas and then an ammonia gas are supplied into the reaction chamber 15.例文帳に追加

ウエハWを収容する反応室15内へ四フッ化炭素ガスを供給してプラズマを生じさせ、該プラズマがウエハW表面のポリシリコン層にプラズマエッチングを施した後、反応室15内に塩素ガスを供給し、次いで反応室15内にアンモニアガスを供給する。 - 特許庁


例文

In a vacuum vessel, metal fluoride such as magnesium fluoride (MgF_2) is heated and evaporated, further, fluorine-based gas such as carbon tetrafluoride (CF_4) is introduced therein, and a fluorine-based polymerized coating is formed on the surface of a base material by a composite ion plating process using plasma polymerization.例文帳に追加

真空容器内で、フッ化マグネシウム(MgF_2)等の金属フッ化物を加熱蒸発させるとともに、四フッ化炭素(CF_4)等のフッ素系ガスを導入し、プラズマ重合を用いた複合式イオンプレーティング法により基材の表面にフッ素系重合膜を形成する。 - 特許庁

The elastomer molding having the coating film of a fluorine-based resin obtained by the formation has ≤100 N fixing strength to a metal in an environment from 200 to 300°C and ≤1.0 wt.% weight loss ratio by irradiation with mixed plasma of oxygen and carbon tetrafluoride.例文帳に追加

これにより得られたフッ素系樹脂の被膜を有するエラストマー成形体は、200℃から300℃の環境下において、金属との固着力が100N以下であり、酸素と四フッ化炭素との混合プラズマ照射による重量減少率が1.0重量%以下である。 - 特許庁

The elastomer molded body having the fluororesin film that is obtained by this has a value of100 N as a sticking strength with a metal under the environment of 200-300°C and a weight decrease ratio of ≤1.0 wt.% when irradiated with a mixed plasma of oxygen and carbon tetrafluoride.例文帳に追加

これにより得られたフッ素系樹脂の被膜を有するエラストマー成形体は、200℃から300℃の環境下において、金属との固着力が100N以下であり、酸素と四フッ化炭素との混合プラズマ照射による重量減少率が1.0重量%以下である。 - 特許庁

To provide an excimer lamp of high illuminance and high illuminance stability suppressing consumption of fluorine ions, and the excimer lamp excelling in illuminance stability without a fall in efficiency even if using gas such as chemically stable sulfur hexafluoride, carbon tetrafluoride or nitrogen trifluoride as a fluorine ion source.例文帳に追加

フッ素イオンの消耗を抑制することができ、高照度で、かつ照度安定性の高いエキシマランプを提供すること、更には、フッ素イオン源として化学的に安定な六フッ化硫黄、四フッ化炭素、または三フッ化窒素といったガスを用いたとしても、効率を低下させず、照度安定性が良好なエキシマランプを提供することである。 - 特許庁

例文

The excimer lamp, consisting of a discharge vessel made by providing a sealing material to an arc tube not containing silica, and at least a pair of external electrodes provided in separation at an outside face of the arc tube, has rare gas and fluoride sealed in the discharge vessel, the fluoride consisting of sulfur hexafluoride, carbon tetrafluoride, or nitrogen trifluoride.例文帳に追加

本発明に係るエキシマランプは、シリカを含まない発光管に封止材を設けてなる放電容器と、該発光管の外面に離れて設けられる少なくとも一対の外部電極と、からなるエキシマランプにおいて、前記放電容器に希ガスとフッ化物とを封入し、前記フッ化物が六フッ化硫黄,四フッ化炭素又は三フッ化窒素からなることを特徴とする。 - 特許庁

例文

The washing treatment tank 10 is held to a pressure reduced state (reduced up to 70 Pa in this embodiment) through an exhaust port 15, a filter 16 and an exhaust vacuum pump 17 and, in this state, the sectors 1 are washed while reaction gas G comprising a mixture of oxygen and carbon tetrafluoride is ejected from the shower electrode 12 to generate plasma.例文帳に追加

そして、前記洗浄処理槽10内を、排気孔15,フィルタ16,排気真空ポンプ17を介して減圧状態(この実施形態では、70Paまで減圧させる)にし、この状態で、前記セクター1をプロファイル面1aに、前記シャワー電極12から酸素と四フッ化炭素との混合体から成る反応ガスGを噴射させながらプラズマを発生させて洗浄させる。 - 特許庁

To provide a filling method of low-temperature liquefied gas for filling low-temperature liquefied gas such as nitrogen trifluoride, nitrogen, oxygen, argon, sulfur hexafluoride, anhydrous hydrogen chloride, anhydrous hydrogen bromide, carbon tetrafluoride, and ethane haxafluoride requiring high purity into a high pressure gas container by a simple process using little amount of energy without altering the purity.例文帳に追加

高純度が要求される三フッ化窒素、窒素、酸素、アルゴン、六フッ化硫黄、無水塩酸、無水臭化水素、四フッ化炭素及び六フッ化エタンなどの低温液化ガスを、純度の変質を起こすことなく少ないエネルギーを用いて簡単な工程によって、高圧ガス容器へ充填することが可能な、低温液化ガスの充填方法を提供すること。 - 特許庁

例文

To provide a method of charging a low temperature liquefied gas capable of charging a low temperature liquefied gas which is to be made highly pure, such as nitrogen tetrafluoride, nitrogen, oxygen, argon, sulfur hexafluoride, anhydrous hydrogen chloride, anhydrous hydrogen bromide, carbon tetrafluoride and ethane hexafluoride by a simple process in which the liquefied gas does not deteriorate and small energy is consumed.例文帳に追加

高純度が要求される三フッ化窒素、窒素、酸素、アルゴン、六フッ化硫黄、無水塩酸、無水臭化水素、四フッ化炭素及び六フッ化エタンなどの低温の液化ガスを、変質を起こすことなく、少ないエネルギーを用いて簡単な工程によって高圧ガス容器への充填可能な、低温液化ガスの充填方法の提供。 - 特許庁

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