| 例文 |
"electron-beam processing"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 16件
ELECTRON BEAM PROCESSING MACHINE例文帳に追加
電子ビーム加工機 - 特許庁
ELECTRON BEAM PROCESSING DEVICE例文帳に追加
電子線処理装置 - 特許庁
ELECTRON BEAM PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
電子ビーム処理装置 - 特許庁
ELECTRON BEAM PROCESSING METHOD例文帳に追加
電子ビーム加工方法 - 特許庁
CHAMBER EQUIPMENT FOR ELECTRON BEAM PROCESSING DEVICE例文帳に追加
電子ビーム処理装置用のチャンバー設備 - 特許庁
POSITION COMPENSATION DEVICE AND ELECTRON BEAM PROCESSING DEVICE例文帳に追加
位置補正装置及び電子ビーム加工装置 - 特許庁
ELECTRON BEAM PROCESSING DEVICE, CONTROL METHOD, AND PROGRAM例文帳に追加
電子ビーム加工装置、制御方法及びプログラム - 特許庁
ELECTRON BEAM PROCESSING MATERIAL AND METHOD OF MANUFACTURING RUGGED STRUCTURE USING THE SAME例文帳に追加
電子線加工材料およびそれを用いた凹凸構造体の製造方法 - 特許庁
The electron-beam processing is previously performed on the polyimide film surface so as to be activated.例文帳に追加
ポリイミドフィルム表面にはあらかじめ電子線処理を施して活性化しておく。 - 特許庁
To provide an electron beam processing method and an electron beam processing system in which deterioration in the k value of an insulating film and lowering of chemical resistance can be suppressed.例文帳に追加
絶縁膜のk値の悪化や耐薬品性の低下を抑制することができる電子ビーム処理方法及び電子ビーム処理装置を提案することを目的としている。 - 特許庁
METHOD FOR DETECTING END POINT OF MODIFICATION OF FILM, ITS END POINT DETECTING DEVICE AND ELECTRON BEAM PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
膜改質の終点検出方法、その終点検出装置及び電子ビーム処理装置 - 特許庁
To provide an electron beam processing device capable of preventing deviation of an ion beam to the center, and of keeping a cooling effect of an acceleration grid.例文帳に追加
イオンビームの中央への偏りを防止するとともに、加速グリッドの冷却効果を維持できる電子ビーム加工装置を提供する。 - 特許庁
To provide a target mark member, having micromarks used for focus adjustment or measurement of the shape of the beam, in an electron beam processing system.例文帳に追加
電子ビーム処理装置において電子ビームの焦点調整又はビーム形状の測定に用いられる、微細なマークを有するターゲットマーク部材を提供する。 - 特許庁
To provide an electron beam processing machine that can make a pulse beam to high frequency and optionally control a maximum or minimum value of the pulse beam, thereby allowing high quality welding.例文帳に追加
パルスビームを高周波化できるとともに、パルスビームの最大値や最小値の値を任意にコントロールでき、品質の高い溶接を可能にする電子ビーム加工機を得ることである。 - 特許庁
To provide a position compensation device which can follow and compensate a very high speed positional displacement like the vibration of machine or the like and detecting the displacement with very small detection error, and to provide an electron beam processing device using the same.例文帳に追加
機械振動などの高速位置変位に対しても追従して補正が可能であり、かつ、その変位の検出誤差が非常に小さい位置補正装置及びそのような位置補正を用いた電子ビーム加工装置を提供すること。 - 特許庁
The halo component in a corrected part of a white defect, re-deposition near a black defect or deposition near a white defect is removed by an electron beam processing device without damages in the corrected part of the white defect or black defect by a mask defect correcting device using ion beams or by a mask defect correcting device using electron beams.例文帳に追加
イオンビームを用いたマスク欠陥修正装置や電子ビームを用いたマスク欠陥修正装置による白欠陥もしくは黒欠陥の修正個所に対して、ダメージのない電子ビーム加工装置で白欠陥修正個所のハロー成分や黒欠陥周辺の再付着もしくは白欠陥周辺の付着を除去する。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|