re-depositionとは 意味・読み方・使い方

In a magnetron sputtering film deposition method for producing a thin film by which the film deposition is performed by masking a part of a target, the mask includes an area where the re-adhesion (deposition) amount on the target is larger than the sputtering amount of the target, and includes an area where the sputtering amount of the target is comparable with the re-adhesion (deposition) amount on the target.例文帳に追加

薄膜作製を行うマグネトロンスパッタ成膜方法で、ターゲットの一部をマスクして成膜を行う成膜方法において、マスクが、ターゲットのスパッタ量よりもターゲット上への再付着（堆積）量が多い領域を含み、かつ、ターゲットのスパッタ量とターゲット上への再付着（堆積）量とが拮抗する領域を含むことを特徴とする成膜方法。 - 特許庁

(c) conditions of re-deposition of biological material in a recognized depository institution and conditions for making the deposited material available to the public,例文帳に追加

(c) 適格の寄託機関への生物学的材料の再寄託の要件，及び寄託材料を公衆の利用に供するための要件 - 特許庁

To surely remove a re-deposition layer formed on the side face of a resist mask in a main pole processing by using an ion milling.例文帳に追加

イオンミリングを用いて主磁極加工する際、レジストマスク側面に生成する再付着層を確実に除去する。 - 特許庁

To provide a deposition method and a re-sputtering method capable of suppressing overhang of a frontage of a trench and/or a hole.例文帳に追加

トレンチおよび／またはホールの間口のオーバーハングを抑制することができる成膜方法およびリスパッタリング方法を提供すること。 - 特許庁

This edge profile prevents the re-deposition of residual particles during semiconductor processing steps.例文帳に追加

このようなエッジプロファイルは、また半導体工程段階間に残余粒子の再付着を抑制できるように構成される。 - 特許庁

When the film deposition temperature reaches H2, Si_2H_6 gas is re-introduced into the chamber and the Si layer is grown epitaxially on the SiGe layer.例文帳に追加

そして、成膜温度がＨ２に達すると、Ｓｉ_2Ｈ_6ガスをチャンバに再び導入し、Ｓｉ層をＳｉＧｅ層上にエピタキシャル成長させる。 - 特許庁

To provide a nanoparticle that neither causes flocculation nor deposition, is re-dispersable in water, and is excellent in water dispersibility even if it is dried from a water dispersion liquid.例文帳に追加

水分散液から乾燥しても、凝集、溶着を起こさず、水に再分散が可能で、水分散性の良好なナノ微粒子を提供する。 - 特許庁

To improve the yield in a manufacturing process by preventing a tunnel barrier layer between magnetic layers due to a re-deposition occurring at etching from being short-circuited.例文帳に追加

エッチング時に発生する再堆積による磁性層間のトンネルバリア層のショートを防止し、製造工程での歩留りの向上を図る。 - 特許庁