re-depositedとは 意味・読み方・使い方

To provide a semiconductor integrated circuit which suppresses the deposition of re-deposited contaminants to prevent short-circuit failures.例文帳に追加

再付着物の堆積が抑制され、短絡不良が防止できる半導体集積回路を提供することである。 - 特許庁

To provide a capacity-coupling type plasma treatment device for sputtering film deposition in which ion flux is uniformly deposited on a surface of a substrate at high concentration, but not re-deposited on a target.例文帳に追加

基板表面で均一・高濃度のイオンフラックスを形成し、またターゲットへの再堆積を生じる事のない、スパッタ成膜用の容量結合型プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

The milling step includes steps of injecting accelerated gas particles and re-depositing the deposited metallic film to cause the particles to strike the deposited film.例文帳に追加

ミーリング段階は、加速されたガス粒子を注入させ、粒子が蒸着されている金属薄膜を打つようにして蒸着された金属薄膜を再蒸着させる。 - 特許庁

This aqueous gas shift reaction catalyst comprises a metal oxide on which at least one metal selected from a metal group A (Pt, Pd, Ni, Ir, Rh, Co, Os, Ru, Fe, Re, Tc, and Mn) and at least one metal selected from a metal group B (Au, Ag, and Cu) are deposited.例文帳に追加

金属種群Ａ（Pt, Pd, Ni, Ir, Rh, Co, Os, Ru, Fe, Re, Tc,Mn）から選ばれる少なくとも１種と金属種群Ｂ（Au, Ag, Cu）から選ばれる少なくとも１種とが、金属酸化物上に担持されていることを特徴とする水性ガスシフト反応用触媒に関する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus in which a thin film, which does not possess film defects to be generated by sudden boiling or re-evaporation, can be deposited when a phosphor of a radiation image transformation panel is deposited by a vapor deposition method and to provide a method for depositing the phosphor of the radiation image transformation panel by using the vapor deposition apparatus.例文帳に追加

放射線画像変換パネルの蛍光体を蒸着法で成膜するときに、突沸や再蒸発による膜欠陥がない薄膜を作製することを可能とする蒸着装置、及び、該成膜方法を用いた放射線画像変換パネルの蛍光体の成膜方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Even when the vapor of the evaporation material is deposited on the first and second supporting parts 33a_1 and 33a_2, and both ends of the lid part 31a in the vicinity thereof, the temperature of the parts is not dropped, the deposited evaporation material is re-evaporated, and never precipitated on both ends of the lid part 31a.例文帳に追加

従って、第１、第２の支持部３３ａ_1、３３ａ_2や、その近傍の蓋部３１ａの両端部に蒸発材料の蒸気が付着しても、その部分の温度は低くならないので付着した蒸発材料は再蒸発し、蓋部３１ａの両端部に析出することはない。 - 特許庁

To prevent re-attachment of a cathode material in consideration of etching process, in which the cathode for mounting an etching object is also etched and the cathode material is re-deposited on the etching object, when the etching object is etched by a plasma apparatus.例文帳に追加

プラズマ装置を用いて被エッチング物の表面をエッチングする際に、被エッチング物を載置している陰電極も同時にエッチングされ、この陰電極物質がイオン化して被エッチング物に付着する現象が起ることに鑑み、このような陰電極物質の再付着を防止する。 - 特許庁

To prevent re-diffusion into a chamber due to sputtering of an ion bombardment surface of an ion recovering device and/or deposited substances on the ion bombardment surface.例文帳に追加

イオン回収装置のイオン衝突面および／またはイオン衝突面に堆積した物質のスパッタリングによるチャンバ内への再拡散を防止する。 - 特許庁