| 意味 | 例文 (9件) |
ごちゃまかすの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9件
見合いや婚礼などの一生を決める祝いの席では、その場だけ取り繕ってごまかす意味の「茶を濁す」ことを忌み嫌うことから、祝いの席ではお茶を用いず、代わりの飲み物として桜湯を用いることが多い。例文帳に追加
During once-in-a-lifetime events, such as ceremonies involving marriage, sakurayu is used in place of green tea because tea is used in the saying 'cha o nigosu,' which has the meaning of glossing over something or making things look right only on the surface and therefore gives green tea a negative image. - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
武田別働隊は、上杉軍のしんがりを務めていた甘糟隊を蹴散らし、昼前（午前12時頃）には八幡原に到着した。例文帳に追加
Takeda's separate troops routed Amakasu's troops, which brought up the rear of Uesugi's forces, and reached Hachimanbara before the noon (around 12 AM). - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
ガス吸着材を大豆皮、菜種粕、胡麻粕、綿実粕、コットンハル、大豆殻の焼成物から構成する。例文帳に追加
The gas adsorbent is made of a burned material of soybean skins, rapeseed meal, cottonseed meal, cotton hulls, and soybean hulls. - 特許庁
ＴＣＰエッチャーを用い、エッチングガスの供給制御機構１９では塩素ガス及び酸素ガスの系の混合ガス、ここでは塩素ガス、酸素ガス、ヘリウムガスを含む混合ガスの比率を調整してチャンバー１１内に供給し、プラズマ化する。例文帳に追加
In the supply control mechanism 19 of etching gas, the ratio of the mix gas of chlorine gas and oxygen gas, mix gas including chlorine gas, oxygen gas and helium gas here is adjusted by using a TCP etcher, and gas is supplied into a chamber 11 and is made into plasma. - 特許庁
そのインストールの説明が細か過ぎると感じたときは、Documentation Resources(日本語訳)にあるQuick Installation Guideを試してみてください(あなたのアーキテクチャにそのような文書があれば)。 選べることはまだあります。例文帳に追加
If you feel that the current installation instructions are too elaborate, feel free to use our Quick Installation Guide available from our Documentation Resources if your architecture has such a document available. - Gentoo Linux
半導体基板に絶縁膜を形成する方法は、半導体基板を真空チャンバ内に載置する第１工程と、前記真空チャンバ内に窒素と酸素とアルミニウムアルコキシドを供給する第２工程と、前記真空チャンバ内に供給した窒素と酸素とアルミニウムアルコキシドの混合気をプラズマ化する第３工程を備えている。例文帳に追加
A method of forming an insulation film on a semiconductor substrate includes: a first process for placing the semiconductor substrate in a vacuum chamber; a second process for supplying nitrogen, oxygen, and aluminum alkoxide into the vacuum chamber; and a third process for turning the mixed air of the nitrogen, oxygen, and aluminum alkoxide supplied into the vacuum chamber into a plasma state. - 特許庁
液体の燃料又は還元剤を噴射する噴射ノズル１２と、噴射ノズルから噴射される燃料又は還元剤の少なくとも一部が吸着する多孔質材料２２と、多孔質材料に吸着した燃料又は還元剤をプラズマ化するプラズマ化装置２５とを有する燃料又は還元剤添加装置とする。例文帳に追加
This fuel or reducing agent adding device has an injection nozzle 12 for injecting the liquid fuel or the reducing agent, a porous material 22 for adsorbing at least a part of the fuel or the reducing agent injected from the injection nozzle, and a plasma forming device 25 for turning the fuel or the reducing agent adsorbed to the porous material into plasma. - 特許庁
少なくともロール外周面をゴム製ロール材にて構成し、該ゴム製ロール材を研磨してなる紙葉類搬送用ゴムロールをアルカリにて洗浄して、前記研磨により付着した研磨滓を前記ロール外周面から除去することを特徴とする紙葉類搬送用ゴムロールの洗浄方法。例文帳に追加
The method for washing the rubber roll for feeding paper sheets is characterized in that at least the outer peripheral surface of the rubber roll is constituted of a rubber roll material and the rubber roll for feeding paper sheets obtained by grinding the rubber roll material is washed with an alkali washing liquid and the ground refuse bonded by the grinding is removed from the outer peripheral surface of the roll. - 特許庁
希ガスを含むスパッタリングガスを真空チャンバ１内へ２ヶ所以上の場所から導入し、ターゲット２の周囲から導入するスパッタリングガスの分子量を、基板５１の周囲から導入するいずれのスパッタリングガスの分子量と比べて大きくすると共に、ターゲット２の周囲に、スパッタリングガスをプラズマ化する導入ガス用プラズマ源１３を設ける。例文帳に追加
In a sputtering method, a sputtering gas containing a noble gas is introduced from two or more points into a vacuum chamber 1, a molecular weight of the sputtering gas introduced from around the target 2 is controlled to be larger than those of any sputtering gasses introduced from around a substrate 51, and also an introduction gas plasma source 13 is provided around the target 2 to convert the sputtering gas into plasma. - 特許庁
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