「堆積」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

燃焼装置とその煙道灰堆積防止方法例文帳に追加

COMBUSTION EQUIPMENT AND METHOD OF PREVENTING ACCUMULATION OF FLUE ASH - 特許庁

（ａ）半導体基板の上に絶縁膜を堆積させる。例文帳に追加

(a) An insulation film is deposited on a semiconductor substrate. - 特許庁

窒化チタンの厚膜を堆積する方法例文帳に追加

METHOD FOR DEPOSITING THICK FILM OF TITANIUM NITRIDE - 特許庁

陰極および陰極アーク堆積用陰極の製造法例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD FOR CATHODE AND CATHODE FOR CATHODIC ARC DEPOSITION - 特許庁

堆積マガジンの貯蔵部の補充を行うための装置例文帳に追加

DEVICE FOR REPLENISHING STORAGE PART OF PILE MAGAZINE - 特許庁

潤滑油のピストンアンダークラウン堆積性試験装置例文帳に追加

LUBRICATING OIL SEDIMENTATION TESTING DEVICE OF PISTON UNDER CROWN - 特許庁

ＣＶＤによるγ−Ａｌ２Ｏ３の堆積例文帳に追加

DEPOSITION OF GAMMA-Al2O3 BY CVD - 特許庁

石英バーナ及びガラス微粒子堆積体の製造方法例文帳に追加

QUARTZ BURNER, AND METHOD OF PRODUCING GLASS PARTICULATE DEPOSIT - 特許庁

そして半導体基板１全面に窒化膜６を堆積する。例文帳に追加

A nitride film 6 is deposited over the entire semiconductor substrate 1. - 特許庁

Ｔａ２Ｏ５および高ｋ誘電体の原子層堆積例文帳に追加

ATOMIC LAYER DEPOSITION OF Ta2O5 AND HIGH-k DIELECTRIC - 特許庁

結束された鋼管の内面堆積物清掃装置例文帳に追加

APPARATUS FOR CLEANING DEPOSIT OF THE INSIDE OF A BUNDLED STEEL PIPE - 特許庁

パルスＲＦプラズマを用いたＴＥＯＳ酸化物の堆積例文帳に追加

DEPOSITION OF TEOS OXIDE USING PULSE RF PLASMA - 特許庁

半導体基板の表面に金属層を堆積する方法例文帳に追加

PROCESS FOR DEPOSITING METALLIC LAYER ON SURFACE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE - 特許庁

電解堆積有機絶縁膜を用いた配線形成方法例文帳に追加

WIRING FORMING METHOD USING ELECTROLYSIS DEPOSITION ORGANIC INSULATING FILM - 特許庁

高効率プラズマガス中凝縮クラスター堆積装置例文帳に追加

CONDENSED CLUSTER DEPOSITING DEVICE IN HIGH EFFICIENCY PLASMA GAS - 特許庁

ガラス微粒子堆積方法及び装置例文帳に追加

GLASS PARTICULATE DEPOSITION METHOD AND APPARATUS - 特許庁

スパッタ堆積のための改善された銅ターゲット例文帳に追加

CU TARGET IMPROVED FOR SPUTTERING DEPOSITION - 特許庁

高誘電率誘電体膜を堆積する方法例文帳に追加

METHOD OF DEPOSITING DIELECTRIC FILM HAVING HIGH DIELECTRIC CONSTANT - 特許庁

ガラス微粒子堆積体の製造方法及び装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING GLASS PARTICULATE DEPOSIT - 特許庁

その後、周期的堆積、化学気相堆積、又は、物理的気相堆積技術を用いて、タングステンのバルクフィルが核形成層上に堆積されてもよい。例文帳に追加

A tungsten bulk fill may then be deposited on the nucleation layer employing cyclical deposition, chemical vapor deposition or physical vapor deposition techniques. - 特許庁

ガラス微粒子堆積体の製造方法及び製造装置例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD AND MANUFACTURING APPARATUS FOR GLASS PARTICULATE DEPOSIT - 特許庁

アモルファスカーボン層の堆積方法例文帳に追加

METHOD OF DEPOSITING AMORPHOUS CARBON LAYER - 特許庁

低誘電率を有する誘電体膜の堆積方法例文帳に追加

METHOD FOR DEPOSITING LOW DIELECTRIC CONSTANT DIELECTRIC FILM - 特許庁

ガラス微粒子堆積体の熱処理装置例文帳に追加

HEAT TREATMENT APPARATUS FOR GLASS PARTICULATE DEPOSIT - 特許庁

高有効仕事関数で電極を堆積する方法例文帳に追加

METHOD FOR DEPOSITING ELECTRODE WITH HIGH EFFECTIVE WORK FUNCTION - 特許庁

実施の形態は、銅イオンの堆積に関する。例文帳に追加

The embodiment includes the deposition of copper ions. - 特許庁

次に、酸化膜７を半導体基板１上に堆積する。例文帳に追加

An oxide film 7 is deposited on the semiconductor substrate 1. - 特許庁

循環堆積による金属ケイ素窒化物膜の調製例文帳に追加

PREPARATION OF METAL SILICON NITRIDE FILM VIA CYCLIC DEPOSITION - 特許庁

堆積チャンバにおける酸化からの導電体の保護例文帳に追加

PROTECTION OF CONDUCTOR FROM OXIDATION IN DEPOSITION CHAMBER - 特許庁

付臭剤の水素タンク下部への堆積を抑制する。例文帳に追加

To suppress deposition of odorant to a bottom part of a hydrogen tank. - 特許庁

金属層を均一に堆積させるための有孔陽極例文帳に追加

PERFORATED ANODE FOR UNIFORMLY DEPOSITING METAL LAYER - 特許庁

半導体基板に金属を無電界堆積する装置例文帳に追加

APPARATUS FOR ELECTROLESS DEPOSITION OF METAL ONTO SEMICONDUCTOR SUBSTRATE - 特許庁

薄膜堆積用分子線源用るつぼ例文帳に追加

CRUCIBLE USED IN SOURCES OF MOLECULAR BEAM FOR DEPOSITING THIN FILM - 特許庁

ガラス微粒子堆積体の製造装置例文帳に追加

APPARATUS FOR MANUFACTURING GLASS PARTICULATE DEPOSIT - 特許庁

TiO_２膜106上に、TiN金属膜107を堆積させる。例文帳に追加

A TiN metal film 107 is deposited on the TiO_2 film 106. - 特許庁

プラズマ電極及びプラズマ化学気相堆積装置例文帳に追加

PLASMA ELECTRODE AND PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM - 特許庁

半導体素子の銅薄膜堆積装置例文帳に追加

APPARATUS FOR DEPOSITING COPPER THIN FILM FOR SEMICONDUCTOR ELEMENT - 特許庁

ガラス微粒子堆積体の製造方法例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD OF PARTICULATE GLASS DEPOSIT - 特許庁

半導体堆積膜の形成方法及びその形成装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR FORMING SEMICONDUCTOR DEPOSITING FILM - 特許庁

ＲＲＡＭ薄膜堆積のためのバッファ層形成方法例文帳に追加

BUFFER LAYER FORMING METHOD FOR RRAM THIN FILM DEPOSITION - 特許庁

酸化プラズマを用いた低誘電率膜の堆積方法例文帳に追加

METHOD OF DEPOSITING LOW DIELECTRIC FILM USING OXIDIZING PLASMA - 特許庁

シリコン化合物によるシリコン含有層の堆積例文帳に追加

SILICON-CONTAINING LAYER DEPOSITION WITH SILICON COMPOUND - 特許庁

基板上の堆積層を硬化させるシステム及び方法例文帳に追加

SYSTEM AND METHOD FOR CURING DEPOSITED LAYER ON SUBSTRATE - 特許庁

パティキュレート堆積量推定装置例文帳に追加

PARTICULATE DEPOSITION AMOUNT ESTIMATING DEVICE - 特許庁

真性アモルファスシリコン層の堆積に先立ち、誘電絶縁材料の層を堆積する第１の堆積操作により、同じＣＶＤチャンバ内で基板上に連続して堆積することにより行われる。例文帳に追加

The method is carried out by sequentially depositing a layer of dielectric insulating material on the substrate in the same CVD chamber by means of a first deposition operation prior to the deposition of the intrinsic amorphous silicon layer. - 特許庁