| 意味 | 例文 (999件) |
成下の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 49953件
以下の（Ａ）〜（Ｃ）成分を構成成分とする硬化性樹脂組成物。例文帳に追加
A curable resin composition includes the following components (A) to (C). - 特許庁
下記成分（Ｘ）と、下記成分（Ｘ）１００重量部に対して、下記成分（Ｙ）０．００１〜３重量部と、下記成分（Ｘ）１００重量部に対して、下記成分（Ｚ）０．００１〜３重量部とを含有するプロピレン重合体組成物。例文帳に追加
The propylene polymer composition includes: a component (X); and 0.001 to 3 pts.wt of a component (Y) and 0.001 to 3 pts.wt of a component (Z), based on 100 pts.wt of the component (X). - 特許庁
下記（ａ）成分、下記（ｂ）成分及び下記（ｃ）成分が含有されてなることを特徴とする硬化性無機質組成物、及び、下記（ａ）成分及び下記（ｃ）成分を乾式混合した後、下記（ｂ）成分を混合して得た硬化性無機質組成物を賦形し、硬化させることを特徴とする無機質成形体の製造方法。例文帳に追加
The hardenable inorganic composition contains (a) Al2O3-SiO2 powder, (b) an aqueous solution of an alkali metallic silicate and (c) at least one dispersing auxiliary selected from the group consisting of alcohols, glycols and ketones. - 特許庁
Ｃ：0.01％以下、Mn：0.45％以下、Si：0.1 ％以下、Ｐ：0.105 ％以下、Ｓ：0.01％以下、sol.Al：0.08％以下、Ｎ：0.003 ％以下、Ti：0.003 ％以上0.06％以下、Nb：0.003 ％以上0.05％以下、Ｂ：0.0001％以上0.005 ％以下を含有し、かつ、下記(1) 式を満足する組成を有する溶鋼を、下記(2) 式を満足する条件で連続鋳造して、製造する。例文帳に追加
Molten steel having a composition containing ≤0.01% - 特許庁
なお、「下津林番条」（昭和6年成立）と「下津林番条町」（平成3年成立）はともに存続している。例文帳に追加
Both 'Shimotsubayashi Banjo' (established in 1931) and 'Shimotsubayashi Banjo-cho' (established in 1991) still exist. - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
光架橋硬化のレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成組成物例文帳に追加
RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR FORMING OPTICAL CROSSLINKING/CURING RESIST UNDERLAYER FILM - 特許庁
レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びパターン形成方法例文帳に追加
COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, RESIST UNDERLAYER FILM, AND PATTERN FORMATION METHOD - 特許庁
基材１２の上に下地層１４を形成し下地層１４の上に画像形成層１６を形成する。例文帳に追加
An undercoat layer 14 is formed on a substrate 12, and an imaging layer 16 is formed on the undercoat layer 14. - 特許庁
下記成分（Ａ１）及び下記成分（Ａ２）を含有してなるゴム変性芳香族ビニル系樹脂組成物。例文帳に追加
The rubber-modified aromatic vinyl-based resin composition contains the components (A1) and (A2). - 特許庁
レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びパターン形成方法例文帳に追加
COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAY FILM, RESIST UNDERLAY FILM AND PATTERN FORMING METHOD - 特許庁
下記３成分を含むエポキシ樹脂組成物。例文帳に追加
The epoxy resin composition includes the following three components. - 特許庁
ポリカルボシランを含むレジスト下層膜形成組成物例文帳に追加
COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAY FILM CONTAINING POLYCARBOSILANE - 特許庁
多層レジストプロセス用下層膜形成組成物例文帳に追加
UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR MULTILAYER RESIST PROCESS - 特許庁
多核フェノールを含むレジスト下層膜形成組成物例文帳に追加
RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING POLYNUCLEAR PHENOL - 特許庁
スルホンを含有するレジスト下層膜形成組成物例文帳に追加
RESIST UNDERLAY FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING SULFONE - 特許庁
下記（Ａ）〜（Ｄ）成分を含有するシャンプー組成物。例文帳に追加
The shampoo composition contains the following components (A) to (D). - 特許庁
電子線硬化のレジスト下層膜形成組成物例文帳に追加
ELECTRON BEAM CURABLE RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION - 特許庁
下記の（Ａ）、（Ｂ）成分からなる熱硬化性樹脂組成物。例文帳に追加
The invention relates to the thermosetting resin composition comprising following components (A) and (B). - 特許庁
下記成分（A）〜（C）を含有する歯磨用組成物。例文帳に追加
This tooth-brushing composition contains the following (A) to (C) components. - 特許庁
下記成分（I）および（II）を含有する水溶性樹脂組成物。例文帳に追加
This water-soluble resin composition comprises the following components (I) and (II). - 特許庁
リソグラフィー用下層膜形成組成物例文帳に追加
UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY - 特許庁
下記成分（ａ）〜（ｃ）を含んでなる封止用液状組成物。例文帳に追加
The sealing liquid composition comprises the following components (a) to (c). - 特許庁
成膜温度を低下させ、成膜速度を増大させる。例文帳に追加
To lower a film formation temperature, and to increase a film formation speed. - 特許庁
レジスト下層膜形成材料及びパターン形成方法例文帳に追加
MATERIAL FOR FORMING RESIST UNDERLAY FILM, AND PATTERN FORMING METHOD - 特許庁
インク組成物及び下図作成方法例文帳に追加
INK COMPOSITION AND PREPARATION OF DRAFT - 特許庁
多層レジストプロセス用下層膜形成組成物例文帳に追加
COMPOSITION FOR FORMING LOWER LAYER FILM FOR MULTILAYERED RESIST PROCESS - 特許庁
レジスト下層用組成物及びパターン形成方法例文帳に追加
COMPOSITION FOR RESIST BASE LAYER AND METHOD FOR FORMATION OF PATTERN - 特許庁
下記（Ａ）〜（Ｄ）成分を含有するシャンプー組成物。例文帳に追加
The hair rinsing composition contains the following components (A) to (D). - 特許庁
下記の（Ａ）を主成分とする樹脂組成物である。例文帳に追加
The resin composition consists essentially of the following (A). - 特許庁
レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜、レジスト下層膜の形成方法、及びパターン形成方法例文帳に追加
COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, RESIST UNDERLAYER FILM, METHOD FOR FORMING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING PATTERN - 特許庁
レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜、レジスト下層膜の形成方法、及びパターン形成方法例文帳に追加
COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERFILM, RESIST UNDERFILM, METHOD FOR FORMING THE RESIST UNDERFILM, AND METHOD FOR FORMING PATTERN - 特許庁
梁下金具１５は、下取付フランジ３０と下保持フランジ３１とを備え、下保持フランジ３１に下ボルト穴３４を形成してなる。例文帳に追加
The lower metal 15 is provided with a lower mounting flange 30 and a lower holding flange 31 that has a lower bolt hole 34. - 特許庁
次に、上下導通部４、５を含むベース板１の下面に下層下地金属層４１を含む下層配線４２を形成する。例文帳に追加
Then, on the bottom face of the base plate 1 containing the vertical continuity portions 4 and 5, the lower-layer interconnection 42 containing a lower-layer base metal layer 41 is formed. - 特許庁
半導体下地層に下部配線を形成し、下部配線および半導体下地層を覆って層間絶縁膜を形成する。例文帳に追加
Lower interconnections are formed on a semiconductor underlying layer and an interlayer insulation film is formed to cover the lower interconnections and the semiconductor underlying layer. - 特許庁
下部犠牲層３０の上には、下貫通孔１２を有する下薄膜５が形成され、下薄膜５の上には、上部犠牲層３４が形成される。例文帳に追加
A lower thin film 5 having a lower through hole 12 is formed on the lower sacrifice layer 30, and an upper sacrifice layer 34 is formed on the lower thin film 5. - 特許庁
下部コア層１０上に下部磁極層１１を形成して、前記下部コア層１０と下部磁極層１１間に段差を形成する。例文帳に追加
A lower magnetic pole layer 11 is formed on the lower core layer 10 and a level difference is formed between the lower core layer 10 and the lower magnetic pole layer 11. - 特許庁
下地材２上に、吊子下部構成体８を複数配列し、これらの吊子下部構成体８を下地材２に固着する。例文帳に追加
The plurality of components 8 are arranged on the substrate material 2, and fixed to the substrate material 2. - 特許庁
大字下鳥羽は昭和6年、「下鳥羽」を冠称する24町に編成された。例文帳に追加
Oaza Shimotoba was reorganized into 24 towns prefixing the name 'Shimotoba' in 1931. - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
彼らの下に編成された非自由民に下人、従者、所従らがいた。例文帳に追加
Non-free people organized under them included low-ranked people, servants, and retainers. - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
触媒は、下地層と、該下地層上に形成された白金層とを有する。例文帳に追加
The catalyst has a primary layer and a platinum layer formed on the primary layer. - 特許庁
抗下痢症組成物及びその含有物と下痢症予防方法例文帳に追加
ANTIDIARRHEA COMPOSITION AND MATERIAL INCLUDING THE SAME AND METHOD FOR PROPHYLAXIS OF THE DIARRHEA - 特許庁
壁下地の下地枠３ａ、３ｂに嵌合溝７ａ、７ｂを形成しておく。例文帳に追加
Fitting grooves 7a, 7b are formed in base frames 3a, 3b of a wall backing material. - 特許庁
土壌・地下水浄化組成物及び土壌・地下水の浄化方法例文帳に追加
SOIL-GROUNDWATER PURGING COMPOSITION AND PURIFYING METHOD OF SOIL-GROUNDWATER - 特許庁
下層膜用重合体、下層膜用組成物及び半導体の製造方法例文帳に追加
POLYMER FOR UNDERLAYER FILM, COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR - 特許庁
レジスト下層膜用組成物及びこれを用いたレジスト下層膜例文帳に追加
COMPOSITION FOR RESIST UNDERLAYER FILM AND RESIST UNDERLAYER FILM USING THE SAME - 特許庁
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