| 意味 | 例文 (999件) |
成下の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 49953件
サポートロール２０８の化学組成を、重量％でＣ：０．１％以下，Ｓｉ：３％以下，Ｍｎ：１％以下，Ｃｒ：１％以下，Ｎｉ：１％以下，Ｍｏ：１％以下，残部実質的にＦｅより成る組成とする。例文帳に追加
The chemical composition of a support roll 208 is composed of, by weight, C of 0.1% or less, Si of 3% or less, Mn of 1% or less, Cr of 1% or less, Ni of 1% or less, Mo of 1% or less, and the balance substantial Fe. - 特許庁
下記成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）を含む水性エマルション。例文帳に追加
An aqueous emulsion includes the components (A), (B), and (C). - 特許庁
下記（１）〜（３）成分および（４）又は（５）成分を含む樹脂組成物。例文帳に追加
This resin composition comprises the following components (1) to (3) and (4) or (5). - 特許庁
下記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を含有してなるエポキシ樹脂組成物。例文帳に追加
This epoxy resin composition comprises the following (A) and (B) components. - 特許庁
以下の成分（１）から成分（３）を含む生体モデル作製用組成物。例文帳に追加
The composition for manufacturing the living body model includes the following component (1) to (3). - 特許庁
下記成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び溶剤（Ｃ）を含有する離型剤組成物。例文帳に追加
The mold releasing agent composition contains a component (A), a component (B) and a solvent (C). - 特許庁
ピストン１を上部形成体２と下部形成体３とから形成する。例文帳に追加
This piston is includes an upper forming portion 2 and a lower forming portion 3. - 特許庁
下記成分（Ａ）をシート成形してなる熱成形用シート。例文帳に追加
The sheet for thermoforming is made by forming a component (A) described below to a sheet. - 特許庁
以下の成分（Ａ）および（Ｂ）を含有する絶縁膜形成用組成物。例文帳に追加
Composition for forming insulating film includes the elements (A) and (B) explained below. - 特許庁
下記の（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を含有する樹脂組成物およびその用途。例文帳に追加
This resin composition contains the following components (A) and (B). - 特許庁
レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法例文帳に追加
COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM AND PATTERN FORMING METHOD - 特許庁
下記の５成分より構成される脂肪族ポリエステル樹脂組成物。例文帳に追加
The aliphatic polyester resin composition comprises following five ingredients. - 特許庁
下記成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）を含む水性エマルション。例文帳に追加
The aqueous emulsion includes a component (A), a component (B), and a component (C) below. - 特許庁
下層膜形成用組成物及びそれを用いたパターン形成方法例文帳に追加
COMPOSITION FOR FORMING LOWER LAYER FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME - 特許庁
レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法例文帳に追加
RESIST LOWER LAYER FILM FORMING COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD - 特許庁
レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法例文帳に追加
COMPOSITION FOR FORMING RESIST LOWER LAYER FILM, AND PATTERN FORMING METHOD - 特許庁
下記の（Ａ）成分および（Ｂ）成分を含有する粘性水系組成物とする。例文帳に追加
The viscous aqueous composition includes the following (A) and (B) components. - 特許庁
パターン形成方法及びレジスト下層膜形成用組成物例文帳に追加
PATTERN FORMING METHOD AND COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAY FILM - 特許庁
レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法例文帳に追加
COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAY FILM AND PATTERN FORMING METHOD - 特許庁
下記（ａ）成分の単独、または下記（ａ）成分と下記（ｂ）成分とを含むことを特徴とする顔料分散剤。例文帳に追加
The pigment dispersant contains the following (a) constituent alone or the following (a) constituent and the following (b) constituent. - 特許庁
第２の成形部分を成形するにあたり、第２の下方成形型５が第１の下方成形型４の役割を引き継ぎ、第１の下方成形型４は、先に第２の下方成形型５が行ったようにして初期位置に戻る。例文帳に追加
On forming a second forming part, the second lower forming pattern 5 takes over the role of the first lower forming pattern 4, and the first lower forming pattern 4 returns to the initial position as the second lower forming pattern 5 performed previously. - 特許庁
レジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、パターン形成方法、フラーレン誘導体例文帳に追加
RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL, METHOD FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, PATTERNING METHOD, AND FULLERENE DERIVATIVE - 特許庁
下部電極膜９を形成した後、下部電極膜９上に強誘電体膜１０を形成する。例文帳に追加
After a lower electrode film 9 is formed, the ferroelectric film 10 is formed on the lower electrode film 9. - 特許庁
レジスト下層膜形成方法、これを用いたパターン形成方法、及びレジスト下層膜材料例文帳に追加
METHOD FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, PATTERNING PROCESS USING THE SAME, AND RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL - 特許庁
半導体基板上に下地膜を形成し（Ｓ１）、下地膜上にレジスト膜を形成する（Ｓ２）。例文帳に追加
A base film is formed on a semiconductor substrate (S1), and a resist film is formed on a base film (S2). - 特許庁
ナフタレン誘導体、レジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法及びパターン形成方法例文帳に追加
NAPHTHALENE DERIVATIVE, RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL, RESIST UNDERLAYER FILM FORMING METHOD, AND PATTERN FORMING METHOD - 特許庁
レジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、パターン形成方法例文帳に追加
RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL, RESIST UNDERLAYER FILM FORMING METHOD AND PATTERN FORMING METHOD - 特許庁
また、前記シート状金属基板に下地リブを形成し、リブを前記下地リブ上に形成する。例文帳に追加
A ground rib is formed on the sheet-form metal substrate and a rib is formed on top of the ground rib. - 特許庁
レジスト下層膜用組成物の製造方法およびレジスト下層膜用組成物例文帳に追加
PRODUCTION OF COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM OF RESIST AND COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM OF RESIST - 特許庁
基板上に、下部クラッド層を形成し、下部クラッド層上にコア膜を形成する。例文帳に追加
A lower clad layer is formed on a substrate, a core film is formed on the lower clad layer. - 特許庁
皮下埋込ポート構成部品用の成形金型、皮下埋込ポート及びその製造方法例文帳に追加
MOLDING MOLD FOR CONSTITUTIONAL PART OF SUBCUTANEOUS IMPLANTABLE PORT, SUBCUTANEOUS IMPLANTABLE PORT, AND METHOD OF MANUFACTURE THEREOF - 特許庁
版下フィルムデータ作成用端末装置１３１〜１３４では、版下フィルムデータが生成される。例文帳に追加
The terminal equipment 131 to 134 for creating block copy film data generate block copy film data. - 特許庁
半導体基板上に下地膜を形成する下地膜形成部２が設けられている。例文帳に追加
There is provided a base film formation unit 2 for forming a base film on a semiconductor substrate. - 特許庁
複合微生物の培養生成物を有効成分とする血糖降下剤および血糖降下機能食品例文帳に追加
HYPOGLYCEMIC AGENT AND HYPOGLYCEMIC FUNCTIONAL FOOD COMPRISING CULTIVATION PRODUCT OF COMPLEX MICROORGANISM AS ACTIVE INGREDIENT - 特許庁
下記の（Ａ）を主成分とし、下記の（Ｂ）を含有する発泡性重合体組成物とする。例文帳に追加
The expandable polymer composition is mainly composed of the component (A) below and contains the component (B) below. - 特許庁
遊技機用合板の下穴形成方法及び遊技機用合板の下穴形成装置例文帳に追加
METHOD AND APPARATUS FOR FORMING BEFOREHAND HOLE FOR PLYWOOD FOR GAME MACHINE - 特許庁
トラフに下地層を形成し、その下地層上にアルキド樹脂を塗布して保護層を形成。例文帳に追加
A substrate layer is formed on the trough, and alkyd resin is applied onto the substrate layer to form the protective layer. - 特許庁
靴下の任意の多色模様を形成できる多色靴下編成方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for knitting a multicolor sock, allowing any multicolor pattern of the sock to be formed. - 特許庁
符号化装置２は、生成された下地画像を符号化して、下地符号を生成する。例文帳に追加
The coding apparatus 2 codes the generated background image to generate a background code. - 特許庁
下コグ形成部２０にはベルト長手方向に沿って下コグ２４が形成されている。例文帳に追加
A lower cog 24 along a longitudinal direction of the belt is formed on the lower cog forming section 20. - 特許庁
メタリック塗膜の下地用塗膜は、メタリック塗膜の下地形成塗料を用いて形成される。例文帳に追加
The primer film for the metallic film is obtained by using the primer-forming coating for the metallic film. - 特許庁
落下強度（％）＝篩上に残った成形体重量／落下させた成形体重量×１００例文帳に追加
Drop strength (%) = Molded body weight remaining on a sieve/Molded body weight to make to fall × 100. - 特許庁
電子写真感光体の下引き層形成用塗布液及び下引き層形成用塗布液の製造方法例文帳に追加
COATING LIQUID FOR UNDERCOATING LAYER FORMATION IN ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR, AND PRODUCTION METHOD FOR THE SAME - 特許庁
レジスト下層膜用組成物、これを用いたレジスト下層膜及び基板のパターン形成方法例文帳に追加
COMPOSITION FOR RESIST UNDERLAY FILM, AND RESIST UNDERLAY FILM AND METHOD FOR FORMING PATTERN ON SUBSTRATE BOTH USING COMPOSITION - 特許庁
上面部２１に上凸部３１を形成し、下面部２３に下凸部３２を形成する。例文帳に追加
An upper projection part 31 is formed on the upper surface part 21 and a lower projection part 32 is formed on the lower surface part 23. - 特許庁
下記（Ａ）成分からなる層、及び、下記（Ｂ）成分からなる層を少なくとも備えてなる多層シート。例文帳に追加
This multi-layer sheet includes at least, a layer composed of the following (A) component, and a layer composed of the following (B) component. - 特許庁
無機質基材用下地処理組成物、および該組成物を用いた無機質基材の下地処理方法例文帳に追加
GROUND-TREATING COMPOSITION FOR INORGANIC BASE MATERIAL, AND METHOD FOR TREATING GROUND OF INORGANIC BASE MATERIAL BY USING THE COMPOSITION - 特許庁
下記の（Ａ）成分を主成分とし、下記の（Ｂ）成分および（Ｃ）成分を含有するゴム組成物である。例文帳に追加
This rubber composition is characterized by containing the following component (A) as a main component and further containing the following components (B) and (C). - 特許庁
下記成分（Ａ）と成分（Ｂ）との重合体からなる成形体であって、前記重合体がさらに下記成分（Ｃ）を含有する透明成形体。例文帳に追加
The transparent molded product comprises a polymer of the following components (A) and (B) and the polymer further contains the following component (C). - 特許庁
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