例文 (521件) |
描線法の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 521件
荷電粒子線描画装置および荷電粒子線描画方法例文帳に追加
FOR CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY DEVICE AND CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY METHOD - 特許庁
荷電粒子線描画装置および荷電粒子線描画方法例文帳に追加
CHARGED PARTICLE BEAM DRAWER AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD - 特許庁
法線マップデータ生成方法、描画処理方法および描画処理装置例文帳に追加
NORMAL MAP DATA GENERATING METHOD, AND DRAWING PROCESSING METHOD AND PROCESSOR - 特許庁
描画データの作成方法、描画データの変換方法及び荷電粒子線描画方法例文帳に追加
PRODUCING METHOD OF DRAWING DATA, CONVERTING METHOD OF DRAWING DATA AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD - 特許庁
電子線描画データ作成方法、マスク製造方法および描画装置例文帳に追加
ELECTRON BEAM LITHOGRAPHIC DATA CREATING METHOD, MASK MANUFACTURING METHOD, AND LITHOGRAPHIC APPARATUS - 特許庁
描画装置、液状体の描画方法、配線基板の製造方法例文帳に追加
DRAWING APPARATUS, DRAWING METHOD OF LIQUID BODY AND METHOD FOR MANUFACTURING WIRING SUBSTRATE - 特許庁
電子線描画における描画方法及び矩形領域分割方法例文帳に追加
DRAWING METHOD AND RECTANGULAR REGION DIVIDING METHOD IN ELECTRON BEAM DRAWING - 特許庁
電子線描画描画用パターンデータ作成方法、電子線描画用パターンデータ作成装置および電子線描画装置例文帳に追加
METHOD AND APPARATUS FOR GENERATING PATTERN DATA FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM - 特許庁
荷電粒子線またはレーザビームを用いた描画方法と描画装置例文帳に追加
LITHOGRAPHIC METHOD AND APPARATUS USING CHARGED PARTICLE BEAM OR LASER BEAM - 特許庁
描画パターンの検証方法および電子線描画装置例文帳に追加
VERIFICATION METHOD OF IMAGE DRAWING PATTERN AND ELECTRON-BEAM WRITING APPARATUS - 特許庁
印刷配線基板の描画装置、描画方法及びコンピュータプログラム例文帳に追加
PLOTTER OF PRINTED WIRING BOARD, PLOTTING METHOD AND COMPUTER PROGRAM - 特許庁
荷電粒子線露光装置および直描用マスク並びに描画方法例文帳に追加
CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM AND MASK FOR DIRECT PLOTTING AND PLOTTING METHOD - 特許庁
電子線描画方法、マスクデータの生成方法及び電子線描画用マスクの形成方法例文帳に追加
ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD, METHOD OF GENERATING MASK DATA AND METHOD OF FORMING MASK FOR ELECTRON BEAM DRAWING - 特許庁
電子線描画装置、電子線描画方法、原盤製造方法、及び情報記録媒体製造方法例文帳に追加
ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE, ELECTRON BEAM DRAWING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING DISK, AND METHOD OF MANUFACTURING INFORMATION RECORDING MEDIUM - 特許庁
電子線描画装置、電子線描画方法、フォトマスクの製造方法および半導体装置の製造方法例文帳に追加
ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, METHOD, AND MANUFACTURE OF PHOTOMASKS AND SEMICONDUCTOR DEVICES - 特許庁
荷電粒子線描画データの作成方法、荷電粒子線描画データの変換方法及び荷電粒子線描画方法例文帳に追加
METHOD OF CREATING CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING DATA, METHOD OF CONVERTING CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING DATA, AND METHOD OF DRAWING CHARGED PARTICLE BEAM - 特許庁
荷電粒子線直描データ作成方法、荷電粒子線直描データ検証方法、荷電粒子線直描データ表示方法及び露光装置例文帳に追加
DATA PREPARATION METHOD, DATA VERIFICATION METHOD, DATA DISPLAY METHOD AND EXPOSURE SYSTEM FOR CHARGED PARTICLE BEAM DIRECT WRITING - 特許庁
電子線描画装置、電子線描画方法及び半導体装置の製造方法例文帳に追加
ELECTRON-BEAM DRAWING DEVICE, ELECTRON-BEAM DRAWING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁
電子線描画装置、電子線を用いた描画方法及び電磁コイルの製造方法例文帳に追加
SYSTEM AND METHOD FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTROMAGNETIC COIL - 特許庁
荷電粒子線描画データの作成方法及び荷電粒子線描画データの変換方法例文帳に追加
METHOD FOR MAKING CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING DATA AND METHOD FOR CONVERTING CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING DATA - 特許庁
現像装置、現像方法、荷電粒子線描画装置および荷電粒子線描画方法例文帳に追加
DEVELOPING DEVICE, DEVELOPING METHOD, CHARGED PARTICLE BEAM PLOTTING DEVICE, AND CHARGED PARTICLE BEAM PLOTTING METHOD - 特許庁
描画中でも描画パターンの検証が可能な描画パターンの検証方法および電子線描画装置を得る。例文帳に追加
To provide a verification method of an image drawing pattern capable of verifying the image drawing pattern even during image drawing, and to provide an electron-beam writing apparatus. - 特許庁
没線描法という,日本画の技法例文帳に追加
a technique of Japanese-style painting, called "painting without outline" - EDR日英対訳辞書
端面膜除去方法および電子線描画方法例文帳に追加
METHOD FOR REMOVING EDGE FILM AND METHOD FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY - 特許庁
電子線描画用マスクブランクス、電子線描画用マスクおよび電子線描画用マスクの製造方法例文帳に追加
MASK BLANK FOR ELECTRON BEAM PLOTTING, MASK FOR ELECRON BEAM PLOTTING AND MANUFACTURE OF MASK FOR ELECTRON BEAM PLOTTING - 特許庁
線描画装置および線描画方法、ならびに線描画プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体例文帳に追加
DEVICE AND METHOD FOR LINE DRAWING, AND COMPUTER- READABLE RECORDING MEDIUM WHERE LINE DRAWING PROGRAM IS RECORDED - 特許庁
試料に電子線を照射してパターン回路等を描画する電子線描画装置において、電子線が試料に照射されているかどうかを描画中に判定できる電子線描画装置または描画方法を提供すること。例文帳に追加
To provide an electron beam lithography apparatus or lithographing method capable of discriminating during lithographing whether or not an electron beam is emitted onto a test piece, the electron beam lithography apparatus emitting an electron beam to the test piece to lithograph thereon a pattern circuit or the like. - 特許庁
電子線描画データ作成方法、作成装置及び作成プログラム並びに電子線描画装置例文帳に追加
METHOD, DEVICE, AND PROGRAM FOR CREATING ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY DATA AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY EQUIPMENT - 特許庁
電子線描画データ編集方法、編集装置及び編集プログラム並びに電子線描画装置例文帳に追加
METHOD, DEVICE, AND PROGRAM FOR EDITING ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY DATA AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY EQUIPMENT - 特許庁
電子線描画データの検証方法、検証装置及び検証プログラム並びに電子線描画装置例文帳に追加
METHOD FOR VERIFYING ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY DATA, VERIFYING DEVICE, VERIFICATION PROGRAM, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHIC DEVICE - 特許庁
電子線描画データの検図方法、検図装置及び検図プログラム並びに電子線描画装置例文帳に追加
METHOD FOR CHECKING DRAWING OF ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY DATA, DRAWING CHECKING DEVICE, DRAWING CHECKING PROGRAM, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHIC DEVICE - 特許庁
電子線描画装置、電子線描画装置の温度制御方法、および回路パターン製造装置例文帳に追加
ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY DEVICE, METHOD OF CONTROLLING TEMPERATURE THEREOF, AND CIRCUIT PATTERN MANUFACTURING DEVICE - 特許庁
電子線描画装置および電子線描画装置のセトリングタイム測定方法例文帳に追加
ELECTRON BEAM LITHOGRAPHIC DEVICE AND METHOD OF MEASURING ITS SETTLING TIME - 特許庁
電子線やレーザ描画用の描画データのデータ量を低減させ、描画データ作成時間や描画時間を短縮する描画データ作成方法および描画方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for creating drawing data and a drawing method by which a data amount of the drawing data for electron-beam or laser drawing is decreased and the period of time of creating the drawing data or the drawing time is shortened. - 特許庁
毛筆の墨線だけで描く東洋絵画の技法例文帳に追加
a method of Oriental painting in which only black ink is used to draw figures with a brush - EDR日英対訳辞書
電子線描画用マスク及びその製造方法例文帳に追加
MASK FOR DRAWING ELECTRON BEAM AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁
電子線描画システムおよびその制御方法例文帳に追加
ELECTRON BEAM DRAWING SYSTEM AND CONTROL METHOD THEREOF - 特許庁
電子線直描装置とその制御方法例文帳に追加
ELECTRON BEAM DIRECT DRAWING EQUIPMENT AND ITS CONTROLLING METHOD - 特許庁
電子線直接描画装置及びその調整方法例文帳に追加
ELECTRON BEAM DIRECT DRAWING DEVICE AND ITS REGULATING METHOD - 特許庁
実験値から描いた曲線の保存を改善する方法例文帳に追加
METHOD FOR IMPROVING STORAGE OF CURVE DRAWN FROM EXPERIMENTAL VALUE - 特許庁
電子線描画方法およびその装置例文帳に追加
ELECTRON BEAM DRAWING METHOD AND DEVICE - 特許庁
はんだ描画装置および配線基板の製造方法例文帳に追加
SOLDER DRAWING DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING WIRING BOARD - 特許庁
電子線描画装置における基板固定方法例文帳に追加
SUBSTRATE FIXING METHOD FOR ELECTRON BEAM IMAGE DRAWING DEVICE - 特許庁
レーザ走査による導電線パターンの描画方法例文帳に追加
DRAWING METHOD OF CONDUCTIVE WIRE PATTERN BY LASER SCANNING - 特許庁
荷電粒子線描画装置および物品の製造方法例文帳に追加
CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE - 特許庁
電子線描画装置および試料位置の補正方法例文帳に追加
ELECTRON BEAM DRAWER AND CORRECTING METHOD FOR SAMPLE POSITION - 特許庁
荷電粒子線描画装置、および、物品の製造方法例文帳に追加
CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD - 特許庁
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