「描線法」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

電子線描画装置を用いて極小なパターンを描画する際、テスト描画による試行錯誤無しに、良好な極小パターンが描画できる電子線描画用パターンデータの作成方法及びそれに用いる近接効果補正方法、そのデータを用いたパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide: a generation method of pattern data for electron beam drawing, which can draw an excellent minute pattern without using a trial-and-error method by test drawing, in drawing a minute pattern using an electron beam drawing device; a proximity effect correction method used for it; and a pattern formation method using the data. - 特許庁

スフマートという,境界線をぼかして描く絵画技法例文帳に追加

a method of painting using tones that shade into one another without sharp outlines, called sfumato  - EDR日英対訳辞書

輪郭線を中心にした「白描」に対立する技法である。例文帳に追加

It is the opposite technique of 'Hakubyo plain sketch' focusing on the outline.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

電子銃のコンディショニング方法および電子線描画装置例文帳に追加

ELECTRON GUN CONDITIONING METHOD AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY - 特許庁

電子線描画方法および高密度記録のための円盤状担体例文帳に追加

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD AND DISK-SHAPED CARRIER FOR HIGH-DENSITY RECORDING - 特許庁

配線描画方法も前記同様の処理機能を備えた。例文帳に追加

The method for drawing wiring includes a processing function similar to the processing function. - 特許庁

情報処理システム、描画線処理方法、およびコンピュータプログラム例文帳に追加

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, PLOTTING LINE PROCESSING METHOD, AND COMPUTER PROGRAM - 特許庁

ＣＡＤ装置、オフセット線描画方法、及びＣＡＤプログラム例文帳に追加

CAD DEVICE, OFFSET LINE DRAWING METHOD, AND CAD PROGRAM - 特許庁

電子線描画データの作成検証方法及び作成検証装置例文帳に追加

GENERATION/VERIFICATION METHOD AND SYSTEM FOR ELECTRON BEAM DRAWING DATA - 特許庁

電子線描画方法および高密度記録のための円盤状担体例文帳に追加

METHOD OF ELECTRON BEAM DRAWING, AND DISK-LIKE SUBSTRATE FOR HIGH-DENSITY RECORDING - 特許庁

荷電粒子線描画装置、およびそれを用いた物品の製造方法例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING ARTICLE USING THE SAME - 特許庁

荷電粒子線描画用部分一括パターンの作成方法例文帳に追加

FORMING METHOD OF CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING PARTIAL-BATCH PATTERN - 特許庁

近接Ｘ線リソグラフィのパターン描画方法およびマスク例文帳に追加

PATTERN DRAWING METHOD AND MASK FOR CONTACT X-RAY LITHOGRAPHY - 特許庁

電子線直接描画装置のフィールド接続調整方法例文帳に追加

METHOD OF ADJUSTING FIELD CONNECTION OF ELECTRON BEAM DIRECT DRAWER - 特許庁

接合用部材及び接合方法並びに荷電粒子線描画装置例文帳に追加

MEMBER FOR JUNCTION, JUNCTION METHOD, AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING DEVICE - 特許庁

鉄道線路のような法線方向にも模様を有する複雑なパタン太線を表示画面上に描画する場合であっても、描画速度の低下を抑制し得るパタン太線描画装置及びパタン太線の描画方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a device and a method for plotting a pattern thick line capable of suppressing the lowering of a plotting speed even when a complicated pattern bold line having a pattern also in a normal direction as in a railroad line is plotted on a display screen. - 特許庁

電子線放出源、電子線放出源の製造方法および電子線描画装置例文帳に追加

ELECTRON BEAM EMISSION SOURCE, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRON BEAM EMISSION SOURCE AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM - 特許庁

本発明は電子線描画装置の描画異常検出方法に関し、描画材料表面のゴミ等による描画異常検出が可能な検出方法を提供することを目的としている。例文帳に追加

To provide a method of detecting drawing abnormalities in an electron beam drawing apparatus that enables the detection of drawing abnormalities due to dust or the like on the surface of a drawing material. - 特許庁

前進差分法を利用して曲線の太線を描画するにあたり、単純な演算によって微小線分の接続点に隙間が生じない太線を高速に描画できる図形描画装置を提供する。例文帳に追加

To provide a graphic rendering device that can quickly render a thick line free from gaps at connection points of short segments by simple computation when rendering a thick curve by a forward difference method. - 特許庁

近代日本画壇の巨匠であり、今日「朦朧体」と呼ばれる、線描を抑えた独特の没線描法を確立した。例文帳に追加

He was a great master of the Japanese art world and established, what is today called 'Moro-tai' (painting technique), a unique Bossen gaho (painting technique) with vague line drawing.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

比較的時間を要することなく精度の良い流線を解析領域に描画することが可能な流線描画方法を得る。例文帳に追加

To obtain a streamline plotting method by which a streamline with excellent precision is plotted in an analysis area with a comparatively short time. - 特許庁

１０ｎｍ以下の微細パターンの電子線描画を可能とする原子間力電子線描画法の提供。例文帳に追加

To provide a method of drawing an interatomic force electron beam line which draws an electron beam line of a detailed pattern of 10 nm or less. - 特許庁

Ｘ線ＣＴ装置の疾患描出能評価用ファントムおよびそれを用いたＸ線ＣＴ装置の疾患描出能の評価方法例文帳に追加

PHANTOM FOR EVALUATION OF ABILITY OF DEPICTION WITH X-RAY CT DEVICE,AND LESION DEPECTION ABILITY EVALUATION METHOD FOR X-RAY CT DEVICE USING THE SAME - 特許庁

描画方法、インクジェットヘッド、描画装置、ならびにプリント配線板の製造方法およびカラーフィルタの製造方法例文帳に追加

DRAWING METHOD, INKJET HEAD, DRAWING APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING PRINTED BOARD AND METHOD OF MANUFACTURING COLOR FILTER - 特許庁

多重描画用の描画データを作成した後に、その描画データの多重度について確実且つ迅速に検証できる電子線描画データの検証方法、検証装置及び検証プログラム並びに電子線描画装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a verification method of electron beam lithography data for surely and rapidly verifying the multiplicity of drawing data after creating the lithography data for multiplex lithography; and to provide a verification device, a verification program, and an electron beam lithographic device. - 特許庁

多重描画用の描画データのデータ量を低減させ、その作成時間や描画時間も短縮することが可能な電子線描画データ作成方法、作成装置及び作成プログラム並びに電子線描画装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a method, device, and program for creating electron beam lithography data by which the creation time or plotting time of lithography data for multiple plotting can be shortened by reducing the amount of the data, and to provide electron beam lithography equipment. - 特許庁

描画するピクセル座標の算出が容易で、所望の太線幅の円を高速に描画することが可能な図形描画方法および図形描画装置を提供する。例文帳に追加

To provide a graphic plotting method and a graphic plotting device capable of easily calculating pixel coordinates to be plotted and fast plotting a circle with a desired thick line width. - 特許庁

対象図形が複雑な図形であっても、多くの時間を要することなく、対象図形に対して平行する閉じたループ線を描画することが可能な図形描画装置、図形描画方法および図形描画プログラムを提供する。例文帳に追加

To provide a graphic drawing apparatus, a graphic drawing method and a graphic drawing program that can draw a closed loop line parallel to a target graphic without taking much time even if the target graphic is a complicated graphic. - 特許庁

極細線が描けない安価なレーザ描画機で、狭ピッチのグレーティングを描いたのと同等の回折光を実現することができるホログラム描画方法及びホログラムを提供する。例文帳に追加

To provide a hologram drawing method capable of realizing a diffracted light equivalent to that used for drawing gratings of narrow pitches, with a low-cost laser drawing machine which cannot draw extra fine lines, and a hologram. - 特許庁

２度描画される画素を発生させずに、指定された太線で所望の図形を描画するための描画データを生成することができる描画データ生成方法及びデータプロセッサを提供する。例文帳に追加

To provide a method for generating drawing data for drawing a desired figure with a thick line having a predetermined width without generating pixels to be drawn twice, and to provide a data processor. - 特許庁

高い描画位置精度を得ることができる電子線描画装置、電子線描画方法、それを用いたフォトマスクの製造方法およびこのフォトマスクを用いた半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam lithography system of high lithographic position accuracy, an electron beam lithography, a photomask manufacturing method by the use of them, and a semiconductor device manufacturing method by the use of the photomask. - 特許庁

インクジェット装置を用いた描画配線方法において、速やかに実用的な回路を描画する手法を提供することである。例文帳に追加

To provide a means to fast and practically draw circuits in a drawing wiring method using an inkjet device. - 特許庁

コンピュータによる仮想縄文線の描画方法及びその描画方法によって作成された縄文模様例文帳に追加

METHOD OF DRAWING VIRTUAL STRAW-ROPE-PATTERN LINE BY COMPUTER AND STRAW-ROPE PATTERN PREPARED BY THE METHOD - 特許庁

非描画部分の発生を防止することができ、描画像全体からみて描画ムラや筋の形成、ＬＥＲの悪化などという現象の発生を防止することができる電子線描画における描画方法及び矩形領域分割方法を提供する。例文帳に追加

To provide a drawing method and a rectangular region dividing method in electron beam drawing capable of preventing generation of a non-drawing portion and preventing occurrence of problems such as drawing irregularity or formation of stripes in the entire drawn image and degradation in LER (line edge roughness). - 特許庁

複合ＤＡコンバータを用いた電子線のフォーカス調整方法、及び、電子線描画装置例文帳に追加

METHOD FOR FOCUSING ELECTRON BEAM USING COMPOSITE DA CONVERTER AND ELECTRON BEAM WRITING APPARATUS - 特許庁

電子線描画用デ—タの処理方法、電子線露光用マスク及び記録媒体例文帳に追加

PROCESSING OF DATA FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY, ELECTRON EXPOSURE MASK AND STORAGE MEDIUM - 特許庁

信号出力装置，パターン描画装置，結線検査装置，及び結線検査方法例文帳に追加

SIGNAL OUTPUT DEVICE, PATTERN DRAWING DEVICE, AND APPARATUS AND METHOD FOR INSPECTING CONNECTION - 特許庁

インクジェット装置を用いた配線の描画において、立体配線を行う方法を提供する。例文帳に追加

To provide solid wiring method in the drawing of wiring employing an ink jet device. - 特許庁

基材に対して電子ビームを少なくとも曲線的に走査することにより前記基材の描画を行う電子ビーム描画方法である。例文帳に追加

The method for electron-beam lithography is for plotting the base material by scanning the base material with an electron beam at least in a curved line. - 特許庁

サブサブフィールドの境界線における接続精度の向上が図れる描画方法および描画システムを提供することにある。例文帳に追加

To provide a drawing method and system in which connection accuracy can be enhanced on the border line of sub-subfield. - 特許庁

ステージの移動距離の累計を短縮して描画工程の効率を向上させるような電子線描画データの作成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of generating electron beam lithography data which can improve efficiency of the lithography process by shortening the accumulated moving distance of stage. - 特許庁

多重描画を省略したパターンについては、電子線のドーズ量を多くすることなどの方法によって描画の調整をする。例文帳に追加

With respect to a pattern for which multiple plotting is omitted, the plotting is adjusted by increasing the dose quantity of an electron beam, or the like. - 特許庁

電子ビーム描画装置を利用してパターンを描画するための露光線量決定方法及び露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure dose determination method for drawing a pattern using an electron beam drawing device, and to provide an exposure device. - 特許庁

ビームを直線と直線とをつなぐようにして走査してビーム描画を行う際に所望の描画形状を精度よく得ることができるビーム描画方法を提供する。例文帳に追加

To provide a beam drawing method for accurately obtaining a desired drawing shape when performing beam drawing by scanning a beam so as to connect straight segments. - 特許庁

描画対象物を複数のシェルとして重ね合わせて描画する画像処理装置において、色計算にあって、与えられた法線ベクトル、視線ベクトルに基づいてマップから得た透過度を補正する描画部１４を設ける。例文帳に追加

The picture processor for plotting a target to be plotting by superposing a plurality of shells is provided with a plotting part 14 for correcting transmittance obtained from a map on the basis of normal vectors and sight line vectors provided for color calculation. - 特許庁