「描線法」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

直接描画露光法によるレジストパターンの形成を、十分な感度及び解像度で行うことが可能な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造法を提供すること。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition capable of performing formation of a resist pattern by a direct drawing exposure method with sufficient sensitivity and resolution, and to provide a photosensitive element, a resist pattern forming method and a method for manufacturing a printed wiring board using the composition. - 特許庁

描画システム、およびこれを用いた液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法例文帳に追加

PLOTTING SYSTEM, AND MANUFACTURING METHOD FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THE SAME, ORGANIC EL DEVICE, ELECTRON EMISSION DEVICE, PDP DEVICE, ELECTROPHORETIC DISPLAY DEVICE, COLOR FILTER AND ORGANIC EL, AND FORMING METHOD FOR SPACER, METALLIC WIRING, LENS, RESIST AND LIGHT DIFFUSING BODY - 特許庁

他のグラフィカルフィーチャ(例えばテキストを囲む境界線)は、この長方形と交差してはならない。 .LPXFontSetに存在しない文字集合がある場合には、それのテキストが実際に描画される際の寸法を表すように、該当する各文字に対する寸法はXCreateFontSetが返すデフォルト文字列から得る。例文帳に追加

Other graphical features,for example, a border surrounding the text, should not intersect this rectangle.When the XFontSet has missing charsets, metrics for each unavailable character are taken from the default string returned by XCreateFontSet so that the metrics represent the text as it will actually be drawn. - XFree86

基板掘り込みタイプのレベンソン型位相シフトフォトマスクを作製のための、描画装置用フォトマスクデータの補正方法であって、位相シフトマスク製造プロセスの製造余裕度を向上させることができ、且つ、線状パタンの実際の幅と長さを考慮した方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method which can improve the degree of production margin in a phase shift mask manufacturing process and takes the actual width and length of a linear pattern into consideration as a correcting method for photomask data for a drawing device for manufacturing a substrate digging type Levenson phase shift photomask. - 特許庁

直接描画露光においても高感度であり、解像度、密着性及び剥離特性がいずれも良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition which has high sensitivity for direct drawing exposure and which has favorable resolution, adhesion and peeling property, and to provide a photosensitive element, a resist pattern forming method, and a method for manufacturing a printed wiring board which uses the photosensitive resin composition. - 特許庁

吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができるとともに、スループット（生産能率）の向上が図れる液滴吐出装置、液滴吐出システム、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、金属配線形成方法および電子機器を提供すること。例文帳に追加

To provide an apparatus and a system for liquid droplet discharging, which can form (draw) a pattern with discharged liquid droplets with high precision and improve the throughput (production efficiency), an electrooptical device, a method for manufacturing the electrooptical device, a method for forming a metal wire, and electronic equipment. - 特許庁

保護フィルムで被覆した感光性エレメントを長期間放置しておくことによる感度の低下変化が少なく、直接描画露光でも高感度である感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive element having high sensitivity, even in direct plotting exposure with a less degradation change of sensitivity, even when leaving the photosensitive element coated with a protective film over a long period and to provide a method for forming a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board. - 特許庁

指あるいは治具を用い、織物の中心線付近でシェニール糸を屈曲させシェニール糸に弛みを発生させない配置法、および、シェニール糸を配した織物の両端をヨコ方向に引っ張り左右対称の弧を描くシェニール糸の配置法を用いる。例文帳に追加

The weaving method by a handloom comprises using an arrangement method with which a chenille yarn is bent in the vicinity of the central line of a woven fabric and is made not to cause a looseness by using a finger or a tool and an arrangement method of chenille yarn with which both the ends of a woven fabric provided with a chenille yarn are pulled in the weft direction to draw a symmetrical arc. - 特許庁

電子線でレジストにパターンを描画する際に、基材の表面位置の検出を精度良く行なうためのナノインプリントモールド用基材の処理方法と、高精度の凹凸パターンを備えたナノインプリントモールドを製造するための製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide: a method of processing a base material for a nano-imprint mold, which is used for accurately detecting the surface position of the base material when drawing a pattern on a resist by means of an electron beam; and a method of manufacturing a nano-imprint mold having a highly accurate irregular pattern. - 特許庁

十分な発色性、描線濃度をもちながら、機械的強度（曲げ強度、引張強度、衝撃強度等）に優れた焼成色鉛筆芯及びその製造方法、特に、シャープペンシル用色鉛筆芯、木軸色鉛筆芯用に好適な焼成色鉛筆芯及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide fired lead for colored pencils having excellent mechanical strengths (flexural strength, tensile strength, impact strength and the like) in addition to sufficient color development and satisfactory concentration of the line drawn therewith and a method of producing the same, particularly provide the fired colored lead that is suitable for sharp pencils and wood tube colored lead core pencils and a method of producing the same. - 特許庁

十分な発色性、描線濃度をもちながら、機械的強度、即ち、曲げ強度、引張強度、衝撃強度等に優れた焼成色鉛筆芯及びその製造方法、特に、シャープペンシル等のホルダー用に好適な焼成色鉛筆芯及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a baked color pencil lead having a sufficient color develop ment and line-drawing density and excellent mechanical strength, i.e., flexural strength, tensile strength, impact strength, etc., and its manufacture process, especially a baked color pencil lead suitable for holders of sharp pencils, etc., and its manufacture process. - 特許庁

レジスト層の下に導電化層を形成してレジスト層にパターンを描画する際の電子線の散乱を低減することにより、パターンの高さ不良やパターン幅のばらつきを低減し、以ってより微細なパターン形状を精度よく形成可能なスタンパの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a stamper capable of reducing a height defect of a pattern and fluctuation of a pattern width and accurately forming a more minute pattern shape by reducing scattering of an electron beam when a conductive layer is formed under a resist layer to draw a pattern on the resist layer. - 特許庁

本発明はレジスト直描方式によるレジストパターンの形成に用いられるレジストインクにおいて、粘度の制約が少なく、厚いレジストパターンを容易に形成できるレジストインクを提供し、それを用いたレジストパターン、導体パターン、プリント配線板の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide resist ink which is used for the formation of a resist pattern by a direct resist drawing method, and with which a thick resist pattern can be formed easily by receiving less restriction from the viscosity of the ink; and to provide methods of manufacturing resist pattern, conductor pattern, and printed wiring board using the resist ink. - 特許庁

水平線描写を利用したグラフィック出力加速命令語を利用して二次元グラフィックイメージの出力処理機能を向上させられる命令語基盤グラフィック出力加速機能の含まれたグラフィックデコーダ、そのグラフィック出力加速方法及び映像再生装置を提供する。例文帳に追加

To provide a graphic decoder including a command based graphic output accelerating function, a graphic output accelerating method therefor, and an image reproducing apparatus, which improve an output processing function of two-dimensional graphic images to be improved by utilizing a graphic output accelerating command utilizing horizontal line drawing. - 特許庁

強化材（３）と母材（５）とからなる複合材料（１）の表面の強化材の周囲に微小なグリッド（２）を描き、強化材を押し出してとりはずし電子線モアレ法により残留ひずみを測定し、その残留ひずみより残留応力を求める。例文帳に追加

A micro grid 2 is drawn in the periphery of a reinforcement 3 on the surface of the composite material 1 comprising the reinforcement 3 and a base material 5, the reinforcement is pushed out to be removed, the residual strain is measured therein by an electron beam moire method, and the residual stress is measured based on the residual strain. - 特許庁

コマンド生成機能部は、頂点データと属性データ（色データ、法線データ、テクスチャ座標データなど）を所定関係のオフセット値で種類別にストアするレジスタを備え、また描画データの組合せに対応したコマンド生成プログラムの各々を、上記のオフセット値と機械的に対応付けて格納している。例文帳に追加

According to this command, the geometry processing part 206 performs coordinate transformation from a 3D coordinate system to a 2D coordinate system and luminance calculation, and transfers the coordinate result to a rendering processing part 207 later. - 特許庁

十分な発色性、描線濃度を持ちながら、塗布感を孔の大きさや分布、若しくは材料種によって硬くも軟らくも自由に設定でき、機械的強度（曲げ強度、引張強度、衝撃強度等）にも優れる化粧料及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To prepare a cosmetic which can freely set a hard or soft feeling of application by the size and the distribution of pores or the kinds of materials while having sufficient color development and drawn line density, and excels in mechanical strengths (flexural strength, tensile strength, impact strength, and the like) as well, and a manufacturing method therefor. - 特許庁

第５の曲面ミラー５１の分離角度は１０゜であり、この分離角度による描画面上でのビーム列の湾曲を打ち消すため、回折分岐素子４０は入射光と回折面の法線とが一致する状態を基準に７．５゜傾いて配置されている。例文帳に追加

The separation angle of the mirror 51 is 10° and the element 40 is arranged to be inclined by 7.5° by setting a state where incident light is aligned with the normal of a diffraction surface as reference in order to compensate the curve of the beam line on the plotting surface by the separation angle. - 特許庁

部分一括露光範囲（電子線描画装置によりあらかじめ決まっている露光範囲）に合わせて、ロジック回路で使用されるライブラリ（ある決まった動作をする基本単位）をこの範囲の中に１つずつ入れ込むことにより、部分一括法に最適なライブラリおよびステンシルマスクが構成できる。例文帳に追加

The libraries (basic units to make certain determined action) used in logic circuits put in compliance with a partial simultaneous exposure range (the exposure range previously determined by an electron beam lithography system) are put into this range by one each, by which the libraries or stencil masks optimum for the partial simultaneous method may be constituted. - 特許庁

十分な発色性、描線濃度をもちながら、機械的強度、即ち、曲げ強度、引張強度、衝撃強度等に優れた焼成色鉛筆芯のうち、特に、シャープペンシル等のホルダー用に好適な焼成色鉛筆芯の製造方法に関する。例文帳に追加

To provide a method for producing a calcinated color pencil lead excellent in mechanical properties such as a bending strength, tensile strength, impact strength, etc., in spite of having a sufficient color-developing property and line-drawing concentration, and especially suitable for a holder such as a propelling pencil, etc. - 特許庁

赤外線レーザーによる直接描画が可能で、長期保存後及びランニング処理時の何れにおいても、現像カスや印刷汚れを生じることなく、高感度かつ高耐刷性を有するネガ型平版印刷版の製版方法を提供する。例文帳に追加

To provide a plate making method of a negative planographic printing plate which is capable of direct drawing with an infrared laser, generates neither development scum nor printing stain even after long-term storage and even in running processing, and has high sensitivity and high printing durability. - 特許庁

活性エネルギー線を照射することにより硬化する接着剤層を有する導電性金属付きプラスチックフィルムをマイクロリソグラフ法により導電性金属で描かれた幾何学図形を有し、その開口率が５０％以上となるようにした電磁波シールド性接着フィルム。例文帳に追加

This electromagnetic wave shielding adhesive film is formed, by emitting an active energy ray to harden a plastic film, having an adhesive agent layer with a conductive metal and drawing a geometric figure made of a conductive metal through microlithography, so that its opening ratio becomes 50% or larger. - 特許庁

硬化速度が極めて速く、かつエネルギー線により、鮮明なパターン露光あるいは直接描画に好適に用いることが可能で、かつ基板との密着性に非常に優れた、ネガ型レジスト材料および該ネガ型レジストを用いた画像パターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a negative resist material, which has an extremely high curing rate, is appropriately applicable to clear pattern exposure or direct drawing with the use of an energy ray, and has extremely good adhesiveness with a base material and to provide an image pattern forming method using the negative resist. - 特許庁

本発明は、高精度にDACアンプのセトリング特性を評価することが可能なDACセトリング特性評価方法及びDACセトリング特性評価装置と、DACセトリング特性の異常を高精度に検出することが可能な電子線描画装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus for evaluating DAC settling characteristics capable of highly accurately evaluating settling characteristics of a DAC amplifier, and an electron beam lithography device capable of highly accurately detecting abnormality in the DAC settling characteristics. - 特許庁

基板及び遮光膜を有するマスクブランクスを形成し、マスクブランクス上にレジストを塗布形成し、形状の異なる第１及び第２端子をマスクブランクスの接地に用いてパターニングを行うことを特徴とする電子線描画方法。例文帳に追加

The electron beam lithography method comprising the steps of: forming a substrate and the mask blanks having a light-shielding film; applying a resist on the mask blanks; and patterning by using a first and a second terminal respectively having different shapes for the grounding of the mask blanks. - 特許庁

主としてシャープペンシル用色鉛筆芯、木軸色鉛筆芯に関し、更に詳しくは、十分な発色性、描線濃度を持ちながら、機械的強度（曲げ強度、引張強度、衝撃強度等）に優れた焼成色鉛筆芯及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a color pencil lead mainly for mechanical pencils and wood pencils, more specifically, to provide a baked color pencil lead having high mechanical strength (including flexural strength, tensile strength and impact strength) while having sufficient color developability and drawn line density, and to provide a method for producing the color pencil lead. - 特許庁

第１〜第４弾性部材を、一対のシート材間に、それぞれ異なる曲線形状を描くように精度良く固定でき、各部のフィット性が向上した使い捨ておむつを安定的且つ効率的に製造可能な使い捨ておむつの製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a manufacturing method for a disposable diaper, which enables first-fourth elastic members to be precisely fixed across a pair of sheet materials in such a manner as to draw different curved shapes, respectively, and which enables the stable and efficient manufacture of the disposable diaper enhancing the fittedness of each part. - 特許庁

レジスト直描方式を用いたレジストパターンの形成に用いられるレジストインクおいて、レジストパターンがアルカリ水溶液にて容易に短時間で剥離できるレジストインクを提供し、それを用いたレジストパターン、導体パターン、プリント配線板の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide resist ink that is used for forming a resist pattern which can be peeled easily in a short time with an aqueous alkali solution by a direct resist drawing method, and to provide methods of manufacturing resist pattern, conductor pattern, and printed wiring board using the resist ink. - 特許庁

石鹸を使用してもすぐに線画が消失することなく、線画を保つことができ、また、レーザー光により石鹸内部に残留する水分を気体爆発させて空洞を形成し線画を描画していることから、石鹸の成分を変質させず、石鹸の品質を維持しやすい石鹸の内部加工方法及び石鹸加工品を提供することにある。例文帳に追加

To provide a method for processing inside of a soap keeping lines and drawings without immediately losing the lines and drawings even when the soap is used, wherein as moisture remaining inside the soap is caused gas-explosion by laser beam to form hollows and to draw lines and drawings, so no soap ingredient is deteriorated and soap qualities are easily kept. - 特許庁

一般的な文書データ作成ソフト又は描画ソフトを用いて作成されたデータに基づいて切断線データを生成し、カッティングプリンタ又はカッティングプロッタにおいて、生成された切断線データに基づく切断線を切断させる切断制御装置、切断制御プログラムおよび切断制御方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a cutting control apparatus, a cutting control program and a cutting control method which produce cutting line data on the basis of data generated by using general document data generating software or plotting software and cut a cutting line according to the cutting line data generated in a cutting printer or a cutting plotter. - 特許庁

本発明の膜パターンの形成方法は、膜形成成分を含有した液体からなる液滴を、基板上の所定の膜形成領域に吐出して膜パターンを形成する膜パターンの形成方法であって、所定の粒径を有する液滴（標準液滴）１００で連続して描画してなる配線１０１の凹部分（窪み部分）１０２を埋めるように小径の液滴１０３を吐出し、なめらかな配線を構成する。例文帳に追加

The film pattern forming method jets out liquid drops of liquid containing a film forming component to a prescribed film forming region on a substrate to form a film pattern, and jets out liquid drops 103 of small diameters so as to bury recesses (dents) 102 of a wire 101 formed by the continuous drawing of liquid drops (standard drops) 100 with prescribed particle diameters so as to configure the smooth wire. - 特許庁

所定の解像度でラスタライズされたラスターデータに電子変倍処理、つまり、デジタルデータに電子変倍処理を実施することなく、露光装置において、基板上に所望の線幅を有するプリント配線パターンを描画することができる画像記録システム、画像記録方法、変換装置および変換方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide an image recording system, an image recording method, a conversion apparatus and a conversion method by which a printed wiring pattern with a desired line width can be drawn on a substrate in an exposure apparatus without carrying out an electron variable magnification process on raster data rasterized with predetermined resolution, that is, without carrying out an electron variable magnification process on digital data. - 特許庁

原子間力電子線描画法は、カンチレバー１１と被露光基板１３との間に電圧を印加して、該カンチレバー１１に取り付けられたプローブ１２から放出するトンネル電子から成る電子線１５を集束磁界１６で収束して、被露光基板１３のレジスト膜１４上に収束照射させるものである。例文帳に追加

The method of drawing the interatomic force electron beam line comprises the steps of: impressing a voltage between a cantilever 11 and an exposed substrate 13; focusing by a focusing magnetic field 16 an electron beam line 15 consisting of a tunnel electron emitted from a probe 12 attached to the cantilever 11; and focusing and irradiating the electron beam line 15 on a resist film 14 of the exposed substrate 13. - 特許庁

【解決手段】 荷電粒子線を走査して基板上の複数のピクセルからなるパターンを露光する荷電粒子線描画方法において、前記パターンのエッジに位置するピクセルの露光時間が他のピクセルの露光時間よりも小さくなるように指令値を生成する生成ステップと、前記指令値を直前のピクセルの指令値に基づいて補正する補正ステップとを有する。例文帳に追加

The charged particle beam drawing method for exposing a pattern comprising a plurality of pixels on a substrate by scanning with charged particle beams has a step for generating an instruction value so that the exposure time of a pixel located at the edge of the pattern becomes smaller than that of other pixels, and a step for correcting the instruction value based on the instruction value of the pixel immediately before. - 特許庁

基板１１上の加工膜に、超微細パターンと大面積パターンを形成するパターン形成方法において、加工膜を超微細パターンに形成するための電子線レジストパターン膜を電子線描画により形成し、加工膜を大面積パターンに形成するためのフォトレジストパターン膜をフォトリソグラフィにより形成した。例文帳に追加

In the pattern forming method to form a superfine pattern and a large area pattern on a process film on a substrate 11, an electron beam resist pattern film for forming a superfine pattern from the process film is formed by electron beam lithography, and a photoresist pattern film to form a large area pattern from the process film is formed through photolithography. - 特許庁

本発明は、可変成型ビーム方式の電子線描画装置を用いて、実用的な生産性で、２００ｎｍ前後の円形パターンが規則的に配列したレジストパターンを形成し、前記レジストパターンからナノ凹凸構造体を形成することができるナノインプリントモールドの製造方法、光学素子の製造方法、およびレジストパターンの形成方法を提供することを目的とするものである。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a nanoimprint mold, a manufacturing method of an optical element, and a forming method of a resist pattern capable of forming a resist pattern in which circular patterns of about 200 nm are regularly arranged with a practical productivity by using a variable shaped beam electron beam writer and forming a uneven nano-structure from the resist pattern. - 特許庁

マスクの有効露光領域内のチップ数を削減し、空き領域が形成される場合のマスクの製造方法において、マスクの電子線描画負荷を著しく上げずにマスク価格の低減を図り、フルチップの時と同一の製造条件で、デバイスパターンの寸法均一性が保証されたマスクの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a mask, for reducing the mask price without significantly increasing a load of electron beam drawing on the mask, and ensuring dimensional uniformity of a device pattern under the same conditions of manufacturing a full-chip mask, in a method for manufacturing a mask in which the number of chips in an effective exposure area of the mask is reduced and a vacant area is formed. - 特許庁

直接描画型マイクロイオンプロジェクションパターニング法等において、粒子線衝撃により固体表面に発生する応力を低減することができる新しい自己組織単分子膜と、自己組織単分子膜構成体、および、より高速で、高精度な磁性体の微細加工を可能とするステンシルマスクと、このステンシルマスクを用いた微細加工方法を提供する。例文帳に追加

To provide a novel self-assembled monolayer capable of reducing stress generated on a solid surface by impact of corpuscular beam in an ion projection direct structuring (IPDS) method or the like, a self-assembled monolayer constitution body, a stencil mask realizing fine processing of a magnetic body at a high speed and high accuracy and a fine processing method using this stencil mask. - 特許庁

デジタル画像内の二次元の機械読み取り可能な符号の位置を確認に復号化する方法で、符号は符号の各々の角に隣接する３つのファインダ・パターンを有し、方法はデジタル画像内で符号の輪郭を描く際にスキュー・縦揺れの可能性を考慮に入れ符号の既知のエッジ点を通る線に基づき未知の第４の角を推定する。例文帳に追加

A method of locating and decoding a two-dimensional machine-readable code in a digital image, where the code has three finder patterns adjacent to respective corners of the symbol, and the method takes into account the possibility of skew/pitch when delineating the code in the digital image to estimate the unknown fourth corner, based on lines passing through known symbol edge points. - 特許庁

滴下工法による液晶表示素子の製造において、疎水性が付与された配向膜上に塗布された場合であっても弾かれることがなく、また、微細なシールパターンを描いた場合であっても、シールパターンに断線が生じることのない液晶滴下工法用シール剤、上下導通材料、及び、液晶表示素子を提供する。例文帳に追加

To provide a sealant for a liquid crystal one-drop-fill process, which is not repelled even when being applied on an alignment layer with hydrophobicity imparted thereto and which prevents disconnection in a sealing pattern even when a fine sealing pattern is drawn, and to provide a vertical conduction material and a liquid crystal display element. - 特許庁

累進屈折力レンズのフィッティングポイントの位置決定方法は、透過性能での屈折力変化が主として中間視および近用視に適しており、かつ主注視線が近用部において鼻側に内寄せされた累進屈折力レンズのいずれかの面に描かれるフィッティングポイントの位置決定方法に関する。例文帳に追加

In the method for positioning the fitting point of the graduated refractive power lens, the method based on a refractive power gradient in transmission performance is suitable for a short and intermediate sight and a main gaze line is drawn at a part on the graduated refractive power lens in close to a nose on a part for the short sight. - 特許庁

回路基板３の構成は、銅基板１０の表面には微粒子ビーム堆積法にて形成された酸化アルミニウム基板１１が配置され、その表面にあるパターンを描く導電性配線１２が配置され、その上に同じく微粒子ビーム堆積法で形成された酸化アルミニウム層１３、１４が配置される。例文帳に追加

In a structure of the circuit board 3, an aluminum oxide substrate 11 formed by a particulate beam depositing method is arranged on the surface of a copper substrate 10, on which a conductive wiring 12 drawing a certain pattern is disposed, and on which aluminum oxide layers 13, 14 likewise formed by a particulate beam depositing method are arranged. - 特許庁

回路基板３の構成は、銅基板１０の表面には微粒子ビーム堆積法にて形成された酸化アルミニウム基板１１が配置され、その表面にあるパターンを描く導電性配線１２が配置され、その上に同じく微粒子ビーム堆積法で形成された酸化アルミニウム層１３、１４が配置される。例文帳に追加

The circuit board 3 is composed that an aluminum oxide substrate 11 formed by a fine particle deposition method is located on a surface of a copper substrate 10, on which surface patterned conductive wiring 12 is disposed, on which aluminum oxide layers 13, 14 formed by the same fine particle deposition method is located. - 特許庁

2004年（平成16年）9月から東京文化財研究所が、蛍光X線分析法や高精細デジタル画像解析などの最新技術で化学的分析を行っており、顔料には純度の高い品質のよい物（おそらくは輸入品）が使用されている事や、人物や炎については下書きがなく一気に描かれたことなどが判明した。例文帳に追加

The National Research Institute for Cultural Properties has been using the most modern techniques such as X-ray fluorescent analysis and high resolution digital image analysis to conduct scientific analyses of the scroll since September 2004 and has found that a very pure and high quality paint (most possibly imported from abroad) was used and that there are no outline sketches for the people and flames which means that they were drawn in one go. - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

(b) 図面の全ての部分は，単一の暗色により，しっかりと均一に描かれた耐久性のある線で作成されており，写真，静電気的方法，写真オフセット及びマイクロフィルムによって直接に任意の部数を複製することができるものでなければならない。用紙には，裂け目，しわ，折り目があってはならない。例文帳に追加

b. all parts of them shall be executed in firm, uniformly drawn, durable lines consisting of a single dark color, so as to admit direct reproduction by photography, electrostatic processes, photo offset and microfilming in an unlimited number of copies; the sheets shall be free of creases, cracks and folds; - 特許庁