「描線法」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

本発明の未加硫タイヤへの描線方法は、成型ドラムの回転軸と平行な軸を中心に回転可能且つ変位可能であり、温度制御可能なステッチングローラを有するステッチング手段を用いてタイヤのトレッド部の描線位置を平滑にした後、変位可能な描線手段を用いて、描線位置に標識線を描くことを特徴とする。例文帳に追加

The method of drawing lines on the unvulcanized tire comprises smoothing the tread portion of a tire at line drawing positions using stitching means each having a stitching roller that can rotate about and move along an axis parallel to a rotational axis of a molding drum and of which temperature can be controlled, and drawing marker lines at the line drawing positions using movable line drawing means after smoothing. - 特許庁

電子線描画装置、ホールパターンの露光方法および半導体装置の製造方法例文帳に追加

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, METHOD OF EXPOSING HOLE PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

配線パターンの描画形成方法及びその方法を用いて作製した回路基板例文帳に追加

DRAWING METHOD OF CIRCUIT PATTERN AND CIRCUIT SUBSTRATE MANUFACTURED BY USING ITS METHOD - 特許庁

電子線描画装置、原盤製造方法、及び情報記録媒体製造方法例文帳に追加

ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING ORIGINAL, AND METHOD FOR MANUFACTURING INFORMATION RECORDING MEDIUM - 特許庁

電子線描画装置、原盤製造方法、及び情報記録媒体製造方法例文帳に追加

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, MANUFACTURING METHOD OF MASTER, AND MANUFACTURING METHOD OF INFORMATION RECORDING MEDIUM - 特許庁

部材に描画する罫書き線の寸法精度を向上させ、罫書き線の書き忘れや寸法ミス等の発生を防止して罫書き線の質を向上させるとともに、罫書き線の描画作業に要する時間の短縮を図る。例文帳に追加

To improve the quality of a marking line drawn on a member and shorten time for the drawing operation of the marking line by improving the dimensional precision of the marking line and preventing, for example, omission of and a dimensional error in the marking line. - 特許庁

電子線描画装置の描画において、条件数を増加させることなく、簡便な方法により、露光量の補正パラメータηを設定する、高精度の描画方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide a drawing method with high accuracy for determining a correction parameter η of exposure doses by an easy method without increasing the number of conditions upon drawing in an electron beam drawing device. - 特許庁

電子線露光用描画データの作成方法及び電子線描画方法並びにフォトマスク、Ｘ線マスク及び荷電ビーム投影露光用マスクの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR CREATING WRITING DATA FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE AND ELECTRON BEAM WRITING, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTO MASK, X-RAY MASK, AND MASK FOR CHARGED BEAM PROJECTION ALIGNING - 特許庁

高加速電圧の電子線描画装置を用いた微細パターン描画における近接効果補正方法において、描画パターンの高い描画精度を維持しながら、近接効果補正のための処理時間を低減させることができる近接効果補正方法を提供する。例文帳に追加

To provide a proximity effect correction method capable of reducing processing time for correction of a proximity effect while maintaining high drawing precision of a drawing pattern in a proximity effect correction method in fine pattern drawing using an electron beam drawing device of high acceleration voltage. - 特許庁

線が line-style 付きで描画されるとき、奇数番目のダッシュは以下の方法で fill-style に制御される。例文帳に追加

When drawing lines with line-style LineDoubleDash, the odd dashes are controlled by the fill-style in the following manner: - XFree86

前記熱処理は、レーザー，電子線描画法またはイオンビームを用いることを特徴とする。例文帳に追加

Heat treatment is carried out using laser, electron beam writing method, or ion beams. - 特許庁

遊戯用ソフトウエアにおけるＮ個の点を連結する線の作成方法および描画装置例文帳に追加

METHOD FOR CREATING LINE CONNECTING N PIECES OF POINTS IN SOFTWARE FOR GAME AND PLOTTING DEVICE - 特許庁

所望パターンを露光できるラスタースキャン荷電粒子線描画方法を提供する。例文帳に追加

To provide a raster scan charged particle beam drawing method for performing exposure in a desired pattern. - 特許庁

フォトマスク高さ測定方法及び高さ測定装置を有する電子線描画装置例文帳に追加

ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE HAVING PHOTO MASK HEIGHT MEASURING METHOD AND DEVICE - 特許庁

磁気記録媒体、電子線縮小投影描画用レチクルおよび磁気記録媒体の製造方法例文帳に追加

MAGNETIC RECORDING MEDIUM, RETICLE FOR ELECTRON BEAM REDUCED PROJECTION DRAWING AND MANUFACTURING METHOD FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM - 特許庁

電子線描画を利用したパターンの高速加工方法及びそれを用いて作製した光回路例文帳に追加

HIGH-SPEED PROCESSING METHOD USING ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY AND OPTICAL CIRCUIT MANUFACTURED THEREBY - 特許庁

ＤＡＣセトリング特性評価方法、ＤＡＣセトリング特性評価装置及び電子線描画装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR EVALUATING DAC SETTLING CHARACTERISTICS, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY DEVICE - 特許庁

レーザ描画に適したレジスト感度曲線を作成する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming a resist sensitivity curve suitable for laser drawing. - 特許庁

曲線を円弧で近似的に描き、設計する構造物等の設計・施工法とその構造物例文帳に追加

DESIGN AND CONSTRUCTION METHOD OF STRUCTURE FOR APPROXIMATELY DRAWING AND DESIGNING CURVE BY CIRCULAR ARC AND STRUCTURE THEREOF - 特許庁

例えば、画像作成装置は、仮想画面に描画した寸法補助線を抽出する。例文帳に追加

For example, the image forming apparatus extracts a dimensional auxiliary line drawn on a virtual screen. - 特許庁

圧縮データ復元装置，圧縮データ復元方法、及び、電子線描画システム例文帳に追加

DEVICE AND METHOD FOR RESTORING COMPRESSED DATA AND ELECTRONIC DRAWING SYSTEM - 特許庁

例えばセルフアライメントを採用する上で好適となる荷電粒子線描画方法を提供する。例文帳に追加

To provide a charged particle beam drawing method which is suitable, for example, when self-alignment is employed. - 特許庁

高エネルギー放射線を用いて基材に永久描画を行うための顔料層および方法例文帳に追加

PIGMENT LAYER FOR AND METHOD OF PERFORMING PERMANENT DRAWING TO BASE MATERIAL USING HIGH ENERGY RADIATION - 特許庁

シ—ト又はボ—ドの山を等分割する目安線を描く方法とそのための定規例文帳に追加

METHOD FOR DRAWING STANDARD LINE EQUALLY DIVIDING STACK OF SHEETS OR BOARDS AND RULE THEREFOR - 特許庁

所望パターンを露光できるラスタースキャン荷電粒子線描画方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for raster scanning charged particle beam exposure by which a substrate can be exposed to a desired pattern. - 特許庁

少ない走査数にて短時間に高精度な線パターンを描画できるインクジェット描画方法およびインクジェット描画装置を提供する。例文帳に追加

To provide an inkjet image-drawing method and an inkjet image-drawing apparatus, capable of drawing a highly accurate line pattern with a few scanning numbers in a short time. - 特許庁

細線を描画可能で、また、希望する部分だけを、簡易に、自在に着色することができる金属体と、絵柄文字描画装置及び絵柄文字描画方法を提供する。例文帳に追加

To provide a metallic body, with which fine lines can be drawn and only the desired portion of which can easily and freely be colored, a design and character drawing device and method. - 特許庁

オペレータが図形の内側／外側を教示する必要がなく、また少ない計算量で図形に平行した閉じたループ線を迅速に描画することが可能な描画方法、描画装置およびそのプログラムを提供する。例文帳に追加

To provide a drawing method, a drawing device and a program therefor, not requiring an instruction of the inside/outside of a figure to an operator, and allowing rapid drawing of a closed loop line parallel to the figure with a small calculation amount. - 特許庁

電子線によるパターン描画の際にフィールド単位に移動するステージの移動距離をより短くする描画データの作成方法及び装置、描画データ、描画方法、マスク及びこの作成方法、半導体装置及びこの製造方法、描画データ作成用プログラム及びこのプログラムを記録したコンピュータ読みとり可能な記録媒体を提供すること。例文帳に追加

To provide a creating method and apparatus of drawing data for making short the movement distance of a stage that moves in a field unit in pattern drawing due to an electron beam, drawing data, a drawing method, a mask and its manufacturing method, a semiconductor device and its manufacturing method, a program for drawing data creation, and a computer readable record medium where the program is recorded. - 特許庁

細線のとぎれを無くし、濡れ性を改善し、またスループットを向上させ、線幅を狭くする微細線の描画方法を提供する。例文帳に追加

To provide a drawing method of fine lines which eliminates a break of thin lines, improves the wettability, improves the throughput and narrows a line width. - 特許庁

バルジやジャギーの発生を防止し、均一線幅の線分を形成可能な線描画装置及び方法を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus and method for drawing a line, forming a line having a uniform line width while preventing generation of bulge or jaggy. - 特許庁

バルジ及びジャギーの発生を抑止し、均一な幅の線状パターンを安定的に形成することができる線描画装置及び線描画方法を提供する。例文帳に追加

To provide a line drawing device and method, capable of stably forming a linear pattern with a uniform width by suppressing bulge and jaggy. - 特許庁

フィールド繋ぎ合わせ方式で生じる線分のずれや集束点のずれが生じない、極度に細い線分を描画できる電子線描画方法とその装置を提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam drawing method and its device where very thin line segments can be drawn without producing misalignment of line segments and deviation of a focusing point in a field linking system in which the misalignment and deviation are liable to occur. - 特許庁

そして、テクスチャデータの有する法線ベクトルを、変更した法線ベクトルに置き換え、描画情報を生成する（Ｓ１２０）。例文帳に追加

The normal vector which the texture data has is replaced by the normal vector changed so as to generate plotting information (S120). - 特許庁

美術院の活動の中で、大観は菱田春草と共に西洋画の画法を取り入れた新たな画風の研究を重ね、やがて線描を大胆に抑えた没線描法の絵画を次々に発表する。例文帳に追加

In his activities in the Institute he, together with Shunso HISHIDA, continued the unremitting study of a new style adopting the painting technique of Western painting, and before long he was turning out Bossen gaho paintings with courageously vague line drawings.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

電子線描画方法、電子線描画方法を用いて作成した原盤をもとに製作したスタンパ用金型、およびスタンパ用金型で製作した情報記録媒体例文帳に追加

METHOD OF ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY, STAMPER MOLD MANUFACTURED FROM ORIGINAL DISK PRODUCED BY METHOD OF ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY, AND INFORMATION RECORDING MEDIUM MANUFACTURED BY USING STAMPER MOLD - 特許庁

電子線によるフォトマスクのパターン描画において、描画開始からの経過時間にしたがって、電子ビーム描画装置のショットサイズに付加するオフセット値を漸次増加、もしくは減少させるオフセット補正を行い、ショットサイズを変更してパターン描画することを特徴とするフォトマスクのパターン描画方法である。例文帳に追加

The method for plotting the pattern of the photomask is characterized in that, when the pattern of the photomask is plotted by electron beams such offset correction is performed according to a lapsed time since the plotting work is started that an offset value added to the shot size of an electron beam plotting apparatus is increased or decreased gradually, and the pattern is plotted while changing a shot size. - 特許庁

電子ビームにより試料に描画を行う電子線描画方法において、前回描画較正時に計測された気圧との気圧差および前回描画較正時からの経過時間を逐次計測し、前記経過時間に対する前記気圧差の割合が、気圧変動割合規定値以上のときには、描画精度の較正を実行することを特徴とする。例文帳に追加

The method of electron beam lithography which performs the lithography at a sample with an electron beam includes the steps of sequentially measuring an atmospheric difference from the atmospheric pressure measured at the previous lithographic calibration time and a lapse time from the previous lithographic calibration time, and performing the calibration of the lithographic accuracy when the proportion of the atmospheric pressure difference to the lapse time is an atmospheric pressure change rate specified value or more. - 特許庁

鮮やかな発色性、十分な描線濃度を持ちながら、滑らかな書き味、耐光性に優れた描線が描け、その描線が油脂類で容易に溶解し、かつ曲げ強度等の機械的強度に優れ、シャープペンシル、ホルダー用の細径色鉛筆芯にも好適な油溶性焼成鉛筆芯及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an oil-soluble burned lead which has a taste of smooth writing and can depict lines having excellent light-resistance while having bright color developability and a sufficient density of depicted lines, the depicted lines being easily dissolved with fats and oils and excels in mechanical strength such as flexural strength and is also suitable for a small-gauge colored lead for mechanical pencils and holders, and its manufacturing method. - 特許庁

本発明の課題は、電子回路の製造技術において、極めて簡便に、かつ明室下で可能な、コンピュータからのデータの直接描画方法に対応することができる直描作製方法であり、かつスルーホールを有する配線板も直描作製可能な方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a direct writing method which can deal with data from a computer extremely conveniently under a bright room in fabrication technology of electronic circuit and even a wiring board having through holes can be dealt with. - 特許庁

電子回路の製造技術において、極めて簡便に、かつ明室下で可能な、コンピュータからのデータの直接描画方法に対応することができる直描作製方法であり、かつスルーホールを有する配線板も直描作製可能な方法を提供する。例文帳に追加

To provide a direct-write patterning method which can very easily and simply cope with the direct writing method from data from a computer in a bright room, even with printed boards having through-holes in the manufacturing technology of electronic circuits. - 特許庁

ジャギーおよびバルジの発生を抑制し、均一な幅のパターンを被記録材上に描画することができる描画方法、インクジェットヘッド、描画装置を提供し、高品質なプリント配線板の製造方法およびカラーフィルタの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a drawing method, an inkjet head and a drawing apparatus which control occurrence of jaggies and bulge and enable drawing of a pattern of an uniform width on a recording material, a method of manufacturing high-quality printed boards and a method of manufacturing a color filter. - 特許庁

法隆寺金堂壁画は鉄線描と呼ばれる強い線描と濃い陰影表現が特色で、その様式の源流はインドや西域（中央アジア）の絵画にあると見なされている。例文帳に追加

The characteristics of the wall paintings of Kondo (the Golden Pavilion) of the Horyu-ji Temple are strong wire-drawing called Tessenbyo (wire-line drawing) and deep shaded expressions, and these styles are considered to have originated from the paintings in India and the western region (Central Asia).  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

ディスプレイ画面上において２直線に同時に接する傾斜した楕円を描く装置および方法並びにディスプレイ画面上において２直線に同時に接する傾斜した楕円を描くプログラムを記録した記録媒体例文帳に追加

DEVICE AND METHOD FOR DRAWING TILTED ELLIPSE SIMULTANEOUSLY TOUCHING TWO STRAIGHT LINES ON DISPLAY SCREEN AND RECORDING MEDIUM WITH PROGRAM DRAWING THE ELLIPSE RECORDED THEREIN - 特許庁

被露光レジストに導電膜などを設けなくても、チャージアップを防止でき、レジスト解像力劣化などの問題無く、チャージアップ発生に伴う影響を防止できる電子線描画方法及び電子線描画装置を提供する。例文帳に追加

To suppress deflectional deviation of an electron beam for improving the writing positional accuracy by correcting the field magnification factor change due to the resist surface potential. - 特許庁