「描線法」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

荷電粒子線描画装置およびデバイスの製造方法例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING DEVICE AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

荷電粒子線描画装置及びデバイス製造方法例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE - 特許庁

電子線描画装置及びその調整方法例文帳に追加

ELECTRON BEAM DRAWING APPARATUS AND METHOD OF ADJUSTING SAME - 特許庁

荷電粒子線描画データの作成方法例文帳に追加

FORMING METHOD OF CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING DATA - 特許庁

電子線描画用マスク及びその作製方法例文帳に追加

MASK FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

画像プリント供給装置の描線方法例文帳に追加

METHOD OF DRAWING LINE FOR IMAGE PRINT SUPPLY DEVICE - 特許庁

荷電粒子線描画装置及びパターン形成方法例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS AND PATTERN FORMATION METHOD - 特許庁

マルチビーム型電子線描画方法及び装置例文帳に追加

MULTI-ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY AND APPARATUS - 特許庁

荷電粒子線描画装置及びデバイス製造方法例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

荷電粒子線描画装置およびデバイス製造方法例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

液滴吐出ヘッドによる直線の描画方法例文帳に追加

METHOD OF DRAWING STRAIGHT LINE BY DROPLET DISCHARGING HEAD - 特許庁

荷電粒子線描画装置及びデバイス製造方法例文帳に追加

CHARGED-PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

太線描画方法、装置および記録媒体例文帳に追加

THICK LINE PLOTTING METHOD AND DEVICE AND STORAGE DEVICE - 特許庁

荷電粒子線描画装置およびデバイス製造方法例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING APPARATUS - 特許庁

電子線描画データの作成方法例文帳に追加

METHOD OF GENERATING ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY DATA - 特許庁

画像描画装置の描画面又はフレームバッファに太線及び太線破線を描画する場合に使用する太線／太線破線描画方法に関し、自然な形状の太線及び太線破線の描画を小さな回路規模かつ短い処理時間で行うことができるようにする。例文帳に追加

To plot a thick line and a thick broken line in a natural shape in a small circuit scale and in a short processing time regarding a thick line/thick broken line plotting method used in the case of plotting the thick line and the thick broken line on a plotting surface of an image plotter or a frame buffer. - 特許庁

電子線描画装置、非同期回転振れ量算出方法、及びパターン描画方法例文帳に追加

ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE, METHOD FOR CALCULATING ASYNCHRONOUS ROTATION DEFLECTION, AND PATTERN DRAWING METHOD - 特許庁

電子線描画装置、ステージ位置偏差算出方法及びパターン描画方法例文帳に追加

ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE, METHOD FOR CALCULATING STAGE POSITION DEVIATION, AND PATTERN DRAWING METHOD - 特許庁

電子線描画装置、移動ステージ変動量算出方法及びパターン描画方法例文帳に追加

ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE, METHOD FOR CALCULATING VARIATION AMOUNT OF MOVING STAGE, AND PATTERN DRAWING METHOD - 特許庁

電子線描画データ加工方法および描画データ加工プログラムを記録した記録媒体、ならびに電子線描画装置例文帳に追加

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHIC DATA PROCESSING METHOD, STORAGE MEDIUM STORING LITHOGRAPHIC DATA PROCESSING PROGRAM, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM - 特許庁

従来よりも少ない演算量で正確に曲線の折れ線近似を行い、その描画を行うことができる曲線描画方法、曲線描画装置および曲線描画プログラムを記録した記録媒体を提供する。例文帳に追加

To provide a curve drawing method and curve drawing device capable of precisely performing the segment approximation of a curve with an arithmetic quantity smaller than in the past to performing the drawing, and a storage medium with curve drawing program stored therein. - 特許庁

電子線で描画材料表面を描画する電子線描画方法において、描画データの描画と同期しながら描画中吸収電流測定を行ない、描画中吸収電流量の変化のあった場所の座標位置及び／又は図形を記憶・表示することように構成される。例文帳に追加

In the electron beam drawing method of drawing on the surface of a drawing material with an electron beam 2, an absorption current during drawing is measured while synchronizing with the drawing of drawing data, and a coordinate position and/or a figure where there is a change in the absorption current amount during drawing is stored and displayed. - 特許庁

描画装置の検査装置、描画装置、プログラム、描画装置の検査方法、及びプリント配線板の製造方法例文帳に追加

INSPECTION DEVICE FOR DRAWING APPARATUS, DRAWING APPARATUS, PROGRAM, INSPECTION METHOD FOR DRAWING APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD FOR PRINTED CIRCUIT BOARD - 特許庁

描画データ生成プログラム、電子線描画装置およびマスクの製造方法例文帳に追加

DRAWING DATA GENERATING PROGRAM, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK - 特許庁

パターン描画における寸法精度の低下を防止できる電子線描画装置を提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam lithographic system, capable of preventing decrease in dimensional accuracy, in pattern drawing. - 特許庁

線描きという,物の形をすべて線で表す日本画の技法例文帳に追加

in Japan, a method of drawing pictures by using lines  - EDR日英対訳辞書

電子銃、電子線描画装置、物品製造方法および電子線装置例文帳に追加

ELECTRON GUN, ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE, ARTICLE MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRON BEAM DEVICE - 特許庁

電子線照射装置と照射方法および電子線描画装置例文帳に追加

ELECTRON BEAM IRRADIATION DEVICE, IRRADIATION METHOD, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM - 特許庁

コンピュータ支援設計システムで曲線を線描する方法例文帳に追加

METHOD FOR DRAFTING CURVE IN COMPUTER-AIDED DESIGN SYSTEM - 特許庁

フレームバッファを用いることなく、簡易な構成により所望の曲線を描画する曲線描画装置、曲線描画方法、及び曲線描画プログラムを提供すること例文帳に追加

To provide a curve drawing device, a curve drawing method, and a curve drawing program for drawing a desired curve by simple configurations without using a frame buffer. - 特許庁

描画単位の境界部の描画精度が高く、しかも生産性が高い電子線描画方法を提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam drawing method, high in the drawing accuracy of boundary part of a drawing unit and high in productivity. - 特許庁

被描画体（プリント配線基板Ｓ）へのレーザ描画精度を向上させることができるレーザ描画方法とその装置を提供する。例文帳に追加

To provide a laser drawing method and its device which can improve the precision of laser drawing on a drawn body (printed wiring board S). - 特許庁

可変成形電子ビームを用いる描画装置において、高い寸法精度での描画を行うことが出来る電子線描画技術を提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam lithography technology which is capable of making a drawing with high dimensional accuracy in an electron beam lithography system that uses a variably shaped beam. - 特許庁

描画品質を維持して描画速度を向上できるベジェ曲線描画装置およびその方法を提供する。例文帳に追加

To provide a Bezier curve drawing device and a method thereof which can improve a drawing speed while maintaining drawing quality. - 特許庁

高い位置精度の線パターンを短時間に描画することのできるパターン描画装置およびパターン描画方法を提供する。例文帳に追加

To provide a pattern drawing apparatus and a method therefor which can draw a line pattern with high position accuracy in a short time. - 特許庁

電子線描画を行う領域であるパターン領域を描画領域に分割する工程と、分割された描画領域に描画順序を指定する工程と、描画順序に従って描画領域を描画する工程と、描画順序とは逆順に描画領域を描画する工程と、を備えることを特徴とするパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

The pattern forming method includes: a step for dividing a pattern area which is an area to draw the electron beams into drawing areas; a step for specifying a drawing order to the divided drawing areas; a step for drawing the drawing area according to the drawing order; and a step for drawing the drawing areas in the reverse order of the drawing order. - 特許庁

斜線の描画に際し、パターンデータ量を削減し、描画時間を短縮すると共に、描画精度も向上させることができる荷電粒子ビーム描画装置における描画方法を実現する。例文帳に追加

To provide a method for plotting by using a charged particle beam plotting apparatus which reduces a plotting time and improves plotting precision by reducing a pattern data quantity when plotting an oblique line. - 特許庁

その描画手法としては、左右半面それぞれでライン描画（色分けされた等高線が描かれる）、バンド描画（領域を色分けするよう描かれる）が選択可能とされている。例文帳に追加

As this image drawing method, line image drawings (contour lines separated with colors are drawn) and band image drawings (zones separated with colors are drawn) in respective half parts at the right and the left sides, can be selected. - 特許庁

近接効果補正方法及びその方法を用いた電子線描画装置例文帳に追加

PROXIMITY EFFECT CORRECTION METHOD AND ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE USING THE METHOD - 特許庁

電子線描画法を用いた陽極酸化アルミナ及びその製造方法例文帳に追加

ANODIZED ALUMINA USING ELECTRON BEAM DRAWING METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

マスクの製造方法及び電子線描画データ生成方法例文帳に追加

PRODUCTION METHOD FOR MASK AND ELECTRON BEAM PLOT DATA GENERATING METHOD - 特許庁

電子線描画方法および磁気記録媒体の製造方法例文帳に追加

ELECTRON BEAM DRAWING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM - 特許庁

電子線描画方法およびその装置並びにマーク記録方法例文帳に追加

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHIC METHOD AND MACHINE, AND MARK RECORDING METHOD - 特許庁

荷電粒子線描画装置及び方法、ならびにデバイス製造方法例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM PLOTTER SYSTEM AND ITS METHOD, AND DEVICE MANUFACTURE - 特許庁

荷電粒子線描画方法、およびそれを用いた物品の製造方法例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF ARTICLE USING THE SAME - 特許庁