「描線法」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

電子線５の偏向速度は、電子線５で描画する各設計寸法のパターン毎に最適露光量が得られる値に設定される。例文帳に追加

The rate of deviation of the electron beam 5 is set, at such a value as to obtain optimum light exposure for every pattern of designed size formed with the electron beam 5. - 特許庁

傾きが特に小さい線分の処理時間の短縮が可能になる線分描画処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a line segment drawing processing method for shortening the processing time of a line segment whose inclination is especially small. - 特許庁

高アスペクト比の電子線の形状を容易かつ短時間に最適化することができる電子線描画装置及びその調整方法を得る。例文帳に追加

To obtain an electron beam drawing apparatus and a method of adjusting the same for easily optimizing, within a short period of time, the shape of an electron beam having a high aspect ratio. - 特許庁

第２過程である太線の整形方法では、抽出した太線を細線化し、前記細線をカテーテル法を用いて太線を再描画し、抽出した太線を整形する。例文帳に追加

The heavy-line shaping method as the second stage makes the extracted heavy line thin, the heavy line is redrawn by using a catheter method, and the extracted thick line is shaped. - 特許庁

ポリゴンが表向きの場合には、裏向きの法線ベクトルが設定された隣り合う頂点間に輪郭線画像を描画し、ポリゴンが裏向きの場合には、表向きの法線ベクトルが設定された隣り合う頂点間に輪郭線画像を描画する。例文帳に追加

If a polygon is frontward, a contour image is drawn between adjacent vertexes where a backward normal vector is set, and if the polygon is backward, a contour image is drawn between adjacent vertexes where a frontward normal vector is set. - 特許庁

ポリゴンが表向きの場合には、裏向きの法線ベクトルが設定された隣り合う頂点間に輪郭線画像を描画し、ポリゴンが裏向きの場合には、表向きの法線ベクトルが設定された隣り合う頂点間に輪郭線画像を描画する。例文帳に追加

When a polygon is outward, the outline image is plotted between the adjacent vertexes to which a backward normal vector is set, and when the polygon is backward, the outline image is plotted between the adjacent vertexes to which an outward normal vector is set. - 特許庁

電子線描画用パターンデータの作成方法及びそれに用いる近接効果補正方法、そのデータを用いたパターン形成方法例文帳に追加

GENERATION METHOD OF PATTERN DATA FOR ELECTRON BEAM DRAWING, PROXIMITY EFFECT CORRECTION METHOD USED FOR THE SAME, AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE DATA - 特許庁

クロック信号生成方法、クロック信号生成装置、電子線描画装置、原盤製造方法、及び情報記録媒体製造方法例文帳に追加

CLOCK SIGNAL GENERATING METHOD, CLOCK SIGNAL GENERATING DEVICE, ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING MASTER DISK AND METHOD FOR MANUFACTURING INFORMATION RECORDING MEDIUM - 特許庁

ブロックオブジェクト間を結線する線オブジェクトとしての線が重複する場合に、表示スペースを増やすことなく描画作業を高効率化でき、結線の識別が容易で、ブロックオブジェクト間の結線状態を容易に視認、識別することができるオブジェクト描画装置、オブジェクト描画方法、コンピュータプログラム、および記録媒体を提供する。例文帳に追加

To provide an object plotting device, an object plotting method, a computer program and a recording medium for highly precisely executing a plotting operation without increasing any display space, and for easily identifying connection, and for easily visualizing and identifying inter-block object connection status when lines as line objects connecting block objects are overlapped. - 特許庁

隣接パターンを描画するための部分一括ＥＢショット間のショット接続を向上させ、及び、寸法精度を向上させる部分一括電子線描画方法およびその装置を提供する。例文帳に追加

To provide a partial collective electron ray drawing method and device for improving the shot connection between partial collective EB electron ray shots for drawing adjacent patterns and for improving dimension accuracy. - 特許庁

ノズルの目詰まりや液状体の飛行曲がりを低減し、且つ液状体の吐出精度の確認ができる描画装置、液状体の描画方法、配線基板の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a drawing apparatus capable of reducing the clogging of a nozzle and the flight bending of a liquid body and confirming the discharge precision of the liquid body, a method of drawing the liquid body and a method of manufacturing a wiring board. - 特許庁

直描型水なし平版印刷版の現像処理方法であって、現像により除去された非画線部のシリコーンゴムのカスを除去する手段を有する直描型水なし平版印刷版の現像処理方法。例文帳に追加

In the method for developing a direct pattern forming waterless planographic printing plate, a means of removing residue of silicone rubber in the non-printing area removed by development is used. - 特許庁

フォトマスクのパタン密度を均一化する付加パタンを設けた、付加パタン付きフォトマスクの描画方法で、ポジレジストを用い、パタンデータの無い部分に電子ビームまたはレーザ光を照射して描画する、描画方式に適用できる描画方法を提供しようとするものであり、該描画方法に用いられる描画データを作成するためのデータ処理方法で、配線層だけでなくポリリシリコン層等他の処理層にも対応でき、多大な処理時間を必要としないパタンデータの作成方法を提供する。例文帳に追加

The method for forming the pattern data, which is dealable not only with wiring layers but with other processing layers, such as polysilicon layers, as well and does not require an enormous processing time, is provided in a data processing method for forming the drawing data used in this drawing method. - 特許庁

このビーム描画方法は、ビームを照射し走査することでビーム描画を行い、直線と直線とをつなぐようにしてビームを走査するときに、各直線の始点と終点のつなぎ位置の計算を非直線上で行い、または、周期関数で行う。例文帳に追加

The beam drawing method performs beam drawing by irradiating and scanning the beam, and calculates a connected position of a start point and an end point of each straight segment off a straight segment when scanning the beam so as to connect the straight segments or by a periodic function. - 特許庁

二次元状に配列された複数の描画要素を用いて画像記録媒体に画像パターンを描画する際、画像パターンに生じる線幅変動を確実に低減させることのできる描画状態調整方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and a device for adjusting a drawing condition to reliably decrease changes in the line width of an image pattern when the image pattern is drawn on an image recording medium by using a plurality of two-dimensionally arranged drawing elements. - 特許庁

電子線等の荷電ビームによる描画装置を用いたフォトマスクの製造において、マスクパターンの矩形性を向上させるため、描画データとしての補助パターンの補正量を決定し、汎用性があり実用的なマスクパターンの描画用データ補正方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for correcting data for drawing a mask pattern, which can be generally and practically used by determining the correction amount of an auxiliary pattern as the drawing data so as to improve the squareness of a mask pattern in the manufacture of a photomask employing a drawing apparatus using a charged beam such as an electron beam. - 特許庁

マスクに形成した開口部の０次回折像を、感光剤を塗布した基板に対して相対移動させることにより描画する近接Ｘ線リソグラフィのパターン描画方法であって、コントラストの高い連続描画を可能にする。例文帳に追加

To provide a pattern drawing method for contact X-ray lithography wherein drawing is carried out by moving the zeroth-order diffraction image of an opening formed in a mask relatively with respect to a substrate applied with a photosensitive agent, and which enables high-contrast continuous drawing. - 特許庁

描画対象を異なる複数の撮影方向から撮影して得られる二次元画像と、描画対象の距離画像とを利用して、微小面ビルボーディングを用いた手法によって、所定の視線方向から対象を描画する装置等である。例文帳に追加

In this image processing device, using a two-dimensional image obtained by photographing a drawn object from a plurality of different photographing directions and a range image of the drawn object, the object is drawn from a predetermined sight line direction by means of a method using micro face billboarding. - 特許庁

その画は宋元、特に梁楷の影響を受け、鋭く力のこもった描線と省略の多い画法（減筆法）によって独自の画境を開いた。例文帳に追加

His style was particularly influenced by the Ryokai (Liang Kai) of the Song and Yuan Dynasties of China, and his own style of painting combined strong sharp lines with making use of the Genpitsu technique, which reduced strokes.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

収差評価用パターン、収差評価方法、収差補正方法、電子線描画装置、電子顕微鏡、原盤、スタンパ、記録媒体、及び構造物例文帳に追加

ABERRATION EVALUATION PATTERN, ABERRATION EVALUATION METHOD, ABERRATION CORRECTION METHOD, ELECTRON BEAM DRAWING APPARATUS, ELECTRON MICROSCOPE, MASTER, STAMPER, RECORDING MEDIUM AND STRUCTURE - 特許庁

電子線描画法を用い、頂角を有する多角形状凹部を高精細度で形成することができるレジスト原盤の製造方法の提供。例文帳に追加

To provide a manufacturing method for a resist master disk with which a polygonal recess having an apex angle can be formed with high definition using electron beam lithography. - 特許庁

マスクの描画後の線幅寸法（ＣＤ）変動を補正する照射量を求める手法を提供する。例文帳に追加

To provide a means to determine an exposure dose to correct changes in a line width dimension (critical dimension) after drawing a mask. - 特許庁

本方法は、回路設計データに基づいて、荷電粒子線描画用の部分一括パターン３４を作成する方法である。例文帳に追加

A part-batch pattern 34 for charged particle beam drawing is formed resting on circuit design data through this method. - 特許庁

本方法は、電子線描画装置により露光して、転写元パターンを被転写体に転写する方法である。例文帳に追加

The method relates to the exposure and transfer of a transfer pattern to an object to be transferred by an electron beam drawing apparatus. - 特許庁

線図データを、所定の出力機によって、安定した線幅の線画像が描画できるランレングスデータ等の描画データに変換することができるデータ変換装置およびその方法、並びに当該方法を用いたプログラムを提供する。例文帳に追加

To provide a data conversion device and method capable of converting diagram data to drawing data such as run length data capable of drawing a line image with stable line width by a prescribed output machine, and a program using this method. - 特許庁

人物は下ぶくれの顔に細い横線を引いて目とし、鼻を鉤かぎ状に描く「引目鉤鼻」の手法で描かれ、家屋は屋根や天井を省略した吹抜け屋台となっている。例文帳に追加

People were painted in the style of 'hikime-kagihana,' where a person had a full-cheeked face, thin horizontal lines as eyes and a hook-shaped nose, and a house was painted in the fukinuke-yatai style in which roofs and ceilings were omitted.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

大幅なスループットの低下を招くことなく、クーロン効果による電子ビームの広がり（ボケ）の解決をはかることができる電子線描画装置および描画方法を提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam lithographic system and an electron beam drawing method for solving the spreading (blurring) of electron beams by Coulomb effect, without drastically decreasing the through put. - 特許庁

フォトマスクを電子線描画するときに、描画パターン密度の変化の大きいところでのドリフトが生じ位置精度が悪化することに対応するフォトマスクの作製方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a photomask that deals with deterioration in positional accuracy due to generation of a drift where drawn pattern density changes largely when the photomask is drawn with an electron beam. - 特許庁

線状部分及びそれから分岐した枝部を含むパターンを描画し、所望の形状の転写パターンを残すことが可能なパターン描画方法を提供する。例文帳に追加

To provide a pattern drawing method by which a pattern including a linear portion and a branch branched therefrom can be formed and a transfer pattern in a desired figure can be left. - 特許庁

任意形状ビームを含む高精度なビーム焦点調整方法や、高精度なパターン描画を可能とした電子線描画装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a method of adjusting focal point, by which the focal point of a beam including a beam having an arbitrary shape can be adjusted with high accuracy, and to provide an electron beam lithography system which can write a pattern with high accuracy. - 特許庁

様々の太さ、濃さの描線が描け、かつ、強度が強いと同時に、手を汚すことなく簡便で、安価なシャープペンシル用鉛筆芯、木軸用鉛筆芯などに好適な多層芯体及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an inexpensive multilayered lead body suitable for a mechanical pencil lead, a wooden-shaft pencil lead and the like and to provide a manufacturing method for the multilayered lead body allowing drawing of lines varied in thickness and density, having high strength, making no stain on a hand, and allowing easy use. - 特許庁

形成領域における内周側および外周側の両端が直線的になるようにパターンを描画し得るパターン描画方法を提供する。例文帳に追加

To provide a pattern drawing method capable of drawing a pattern so that both ends on an inner peripheral side and an outer peripheral side of a formation region are linearly formed. - 特許庁

光造形に使用する液晶描画マスクの紫外線による劣化を防止または抑制して、液晶描画マスクの使用可能寿命を延長させることのできる光造形方法および装置の提供。例文帳に追加

To provide an optical shaping method capable of preventing or suppressing the deterioration of a liquid crystal drawing mask used in optical shaping caused by ultraviolet rays to extend the usable life of the liquid crystal drawing mask. - 特許庁

曲げ強度が高く、筆記濃度が高く、書き味が滑らかで、しかも消字性が良く、描線を手でこすっても汚れにくい固形描画材及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a solid drawing material having a high bending strength, high writing density, smooth write feeling and also a good erasability, and hardly being soiled even by rubbing drawn lines with a hand. - 特許庁

本発明は、周縁の形状が矩形のマスクに電子線を照射して回路パターン等を描画する電子線マスク描画装置において、電子線の照射による熱膨張で伸縮する前記マスクの寸法を対向する両側辺からレーザ光を用いて測長することを特徴とする。例文帳に追加

The electron beam mask drawing device draws a circuit pattern or the like, by irradiating a mask having a square peripheral edge form with an electron beam, wherein the dimensions of the mask which stretch or contract due to thermal expansion by irradiation with electron beams is measured on both the opposing sides by using a laser light. - 特許庁

ピクセル以下の位置調整《点の位置をピクセル単位よりも細かく記憶しておくことで, 2 点を結ぶ直線などをより正確に描く技法》例文帳に追加

subpixel positioning 1  - 研究社 英和コンピューター用語辞典

快慶が法橋時代に製作した仏像であり、秀麗な面相と流れるような美しい曲線を描く衣が特徴。例文帳に追加

This is a Buddha statue that Kaikei sculpted in his Hokkyo phase, and features a beautiful face and gracefully curved robe lines.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

それらを美しく見せる演出法として、歩みの途中で後方に視線を送る姿で描かれたものと考えられる。例文帳に追加

In order to depict her costume most beautifully, Moronobu made her stop to look over her shoulder.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

皇室関係や大日本帝国憲法発布を題材に錦絵を描いたが、光線画ほど成功した作品は残していない。例文帳に追加

He drew Nishikie (colored woodblock print) on the themes of Imperial family and the issuance of the Constitution of the Empire of Japan, but did not do more remarkable works than in Kosenga.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

(a) 図面は，十分耐久性があり，黒く，十分に濃い，均質で，明確な線と筆法で，色彩無しで描く。例文帳に追加

(a) Drawings shall be executed in durable, black, sufficiently dense and dark, uniformly thick and well defined lines and strokes, without colouring. - 特許庁

電子線描画法の効率的活用により、認識番号を有する超小型の半導体装置を経済的に実現する。例文帳に追加

To economically realize an microminiature semiconductor device having an recognition number by efficiently using electron beam lithography. - 特許庁

奥行きの感覚を与えかつユーザインタフェースで視覚的キューを供給するスケーラブル三次元境界線を描く方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for drawing a three-dimensional scalable border which provides a sense of depth and a visual queue in a user interface. - 特許庁

高エネルギー放射線を用いて基材に永久描画を行うための顔料層および方法を提供する。例文帳に追加

To provide a pigment layer for and a method of performing permanent drawing to a base material by using high energy radiation. - 特許庁

これらの球冠（２）の中心点（５）は、ラスタ寸法で直角に交差して理想的な板形状を描く線（４）上に位置している。例文帳に追加

The central points 5 of the spherical crowns 2 are positioned on lines drawing an ideal plate shape by crossing right angles with each other at the raster dimension. - 特許庁

大面積の面パターンと微細な線パターンが混在したレジストパターンを短時間に安定して描画する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of drawing resist patterns, where the surface pattern of a large area and a fine line pattern are mixed, and stably in a short time. - 特許庁