「描線法」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

読取画像に罫線が描画されている場合でも正確に文字認識することができる文字認識方法及び撮影装置を提供する。例文帳に追加

To provide a character recognizing method for correctly recognizing characters even when a ruled line is drawn on a read image, and to provide a photographing device. - 特許庁

十分な発色性、描線濃度をもちながら、機械的強度等に優れた焼成色鉛筆芯及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a burned colored lead which excels in mechanical strength and the like while having sufficient color developability and density of depicted lines, and its manufacturing method. - 特許庁

電子線描画法の効率的活用により、認識番号を有する超小型の半導体装置を経済的に実現する。例文帳に追加

To economically provide an ultra-small semiconductor device bearing an identification number by efficiently using an electron beam drawing method. - 特許庁

強度が強く、滑らかな筆記感を有し、描線が濃く鮮やかな黒色となる鉛筆芯及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a pencil lead having high strength, giving a smooth feeling of writing, and allowing a dense clear black line to be drawn; and a method for producing the pencil lead. - 特許庁

光線空間データによって表現される仮想物体を描画表示する際にプログレッシブ表示する方法を提案する。例文帳に追加

To propose a method for making a progressive display when a virtual body represented with ray space data is drawn and displayed. - 特許庁

電子線描画法の効率的活用により、認識番号を有する超小型の半導体装置を経済的に実現する。例文帳に追加

To economically provide an ultra-small semiconductor device bearing an identification number by efficiently using an electron beam lithography method. - 特許庁

レジストの熱効果や線量変化量を高いスループットで補正できる粒子ビームの描画方法を提供する。例文帳に追加

To provide a drawing method using particle beams capable of correcting thermal effect of a resist and dose variation with a high throughput. - 特許庁

合成部２６２は、描画されたオブジェクトの着弾位置に、法線マップを適用した弾痕を合成する。例文帳に追加

A composition part 262 forms the trace to which a normal map has been applied at the impact position of the plotted object. - 特許庁

感光材料が塗布された基板を回転ステージにより回転させるとともに、電子線を上記回転の半径方向に移動させながら照射して所望のパターンを基板上に描画する電子線描画方法において、基板全体に一様な照射エネルギーの電子線を照射するとともに、描画時間の短縮を図る。例文帳に追加

To irradiate the whole substrate with an electronic beam having a uniform irradiation energy and also to shorten the plotting time in an electron beam plotting method for plotting a desired pattern on a substrate coated with a photosensitive material by rotating the substrate by a rotary stage and moving the electronic beam in the radial direction of the rotation. - 特許庁

荷電粒子ビーム描画装置の自動調整方法及び荷電粒子ビーム描画装置に関し、寸法の制限された図形８の電流密度均一性を最良化し、線幅線形性を向上させることができる手段を提供することを目的としている。例文帳に追加

To provide means capable of improving line width linearity by optimizing current density uniformity of a figure 8 having restricted dimensions, as to an automatic adjusting method of a charged particle beam drawing device and the charged particle beam drawing device. - 特許庁

掠れやムラを生じさせず、所期の標識線を描くことができ、トレッド部をリボン製法で構成した場合でも、ゴムストリップの巻回層間の隙間に塗料が染み込んでしまうことがなく、製品タイヤの品質を高度に確保することができる、未加硫タイヤへの描線方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of drawing lines on an unvulcanized tire, which can draw desired marker lines without producing thin spots or unevenness and assure a high quality of a product tire without penetration of a paint into a gap between winding layers of a rubber strip even when a tread portion is constituted by a ribbon manufacturing method. - 特許庁

ワークおよびワークに形成された配線に損傷を与えにくいアライメント方法およびアライメント機構を提供すること、また、ワークおよびワークに形成された配線にほとんど損傷を与えない描画方法および描画装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an alignment method and an alignment mechanism for hardly damaging a workpiece and wiring formed in the workpiece and to provide a drawing method and a drawing device for scarcely damaging the workpiece and the wiring formed in the workpiece. - 特許庁

表面に赤外線感受性層が形成された感光性樹脂から、赤外線レーザーによる全面描画で赤外線感受性層を除去し、その後赤外線感受性層を再形成して感光性樹脂版を再生する方法。例文帳に追加

The infrared sensitive layer formed by direct drawing using infrared laser is removed from the photosensitive resin layer having the infrared sensitive layer formed on its surface and, thereafter, the infrared sensitive layer is reformed to regenerate the photosensitive resin plate. - 特許庁

金属配線の輪郭線が閉曲線を形成していない場合に、一旦描画装置の座標系に変換された輪郭線の端点の座標値を、ＣＡＤプログラムで扱いやすい実寸法の座標値に再変換する。例文帳に追加

When any closed curve is not formed of the contour line of metallic wiring, the coordinate values of the terminal points of the contour line temporarily converted into the coordinate system of a plotting device are reconverted into coordinate values with real dimensions easy to be handled with a CAD program. - 特許庁

デジタルカメラで撮影されたデジタル画像や写真フィルム等をスキャナで読取り得られたデジタル画像に対して、より自然なクロスフィルタ効果処理を施すことができる輝線描画処理方法及び輝線描画処理プログラムを提供する。例文帳に追加

To provide a bright line rendering method and its program capable applying more natural cross filter effect processing to a digital image taken by a digital camera or a digital image read from a photograph film by a scanner. - 特許庁

ＣＯ_２レーザ装置を用い、繰返し耐久性が向上し、かつ照射パワーを調整することにより照射距離を変更しなくても描画線の太さを変えることができ、細い描画線を得ることが可能となる画像処理方法及び画像処理装置の提供。例文帳に追加

To provide an image processing method and an image processing apparatus improving repetition durability, varying an imaging line width by adjusting irradiation power without changing an irradiation distance to obtain a thin imaging line using a CO_2 laser device. - 特許庁

マスクブランクスを別の装置で処理する必要がなく、マスクブランクスの接地時に安定した導通を確保しつつ、接地時に発生するマスクブランクス上の異物による問題を解消することができる電子線描画方法、電子線描画装置及びフォトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam lithography method requiring no processing of mask blanks with other apparatus, securing a stable conductivity when grounding the mask blanks, and capable of solving the problem due to contaminations caused on the mask blanks when grounded, and to provide an electron beam lithography apparatus and a photomask. - 特許庁

該装置は、オブジェクト分割されたテクスチャデータの各オブジェクトを覆いつくすように線分を描く奥行き付与方法決定手段と、描かれた線分上の画素に連続的な奥行きデータを付与する奥行き演算手段とを有する。例文帳に追加

The device has a depth imparting method determining means for drawing line segments to cover all of each object of the texture data divided into objects, and a depth computing means for imparting continuous depth data to pixels on the drawn line segments. - 特許庁

細字用の鉛筆芯であっても実際に筆記した描線の太さより細くて定着力の高い筆記描線が得られると同時に、機械的強度（曲げ強度、引張強度理、圧縮強度）にも優れたシャープペンシル用鉛筆芯、木軸用鉛筆芯などの鉛筆芯及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a pencil lead for mechanical pencil, wood-cased pencil, etc., imparting a writing line with more thin and high fixing power than the actually written line even with a pencil lead for thin letter, and at the same time excellent in mechanical strength (bending strength, tensile strength, compressive strength). - 特許庁

隣接図形間の境界部分で両図形に共に属するピクセルを生じないスキャン変換方法で描画する際に、一定の輪郭線条件時に発生する、輪郭線内部領域の不連続化現象を抑制し、美しい描画結果を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide beautiful drawing results by suppressing a discontinuation phenomenon in a contour line inside area to occur on fixed contour line conditions when drawing with a scan converting method with which pixels belonging to both graphics are not generated in a boundary portion between the adjacent graphics. - 特許庁

本方法は、複数の３次元モデルを入力画像に対して位置決めし、その後、線形部分空間を計算し、線形部分空間の部分集合内の描画された画像を見出すことによって、各３次元モデルに対して、前記入力画像に最も類似している描画された画像を決定する。例文帳に追加

This method determines a drawn image most similar to the input image for plural three-dimensional models by positioning the respective three-dimensional models with respect to the input image, thereafter calculating a linear part space, and finding the drawn image in a partial set of the linear part space. - 特許庁

本発明にかかる光硬化造形方法では、まず、走査線に沿って描画したときに前記光硬化性樹脂液を硬化させる走査線硬化領域が、輪郭線に沿って描画したときに前記光硬化性樹脂液を硬化させる輪郭線硬化領域を超える場合には、オフセット処理して走査線硬化領域輪郭線を超える距離を補正した走査の始点と終点を求める。例文帳に追加

The method for photosetting stereo lithogrphy includes a step of first obtaining a starting point and an ending point of scanning in which a distance exceeding a scanning line photosetting region profile line is corrected by offsetting if the scanning line photosetting region for photosetting the photosetting resin liquid when drawing along the scanning line. - 特許庁

EB（電子線）直接描画を用いる半導体装置等の製造プロセスにおいて、基板上に金（Au）層を有する電極、配線が存在しても基板全体に均一にEB直接描画用レジストが塗布でき、EBの直接描画による良好なレジストパターン形成、その後の良好な回路パターンの形成を可能とした方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of forming a proper resist pattern by EB (electron beam) direct lithography and proper circuit pattern thereafter in a manufacturing process of semiconductor devices, etc., using the EB (electron beam) direct lithography, which coats the entire substrate uniformly with an EB (electron beam) direct lithography resist even in the presence of electrodes having a gold layer and wirings on the substrate. - 特許庁

ＲＰ２００は、三角形毎に、その法線方向を投影した線分を基に、三角内の描画ラインの分割を行ない、描画ライン上の画素を順次、対応するテクスチャ高さ情報により変位し、変位前の隣接画素のテクスチャの画像データを変位後の画素位置の間に補間して描画する。例文帳に追加

Plotting lines in the triangles are divided based on segments on which the normal directions of the triangles are projected by every triangle, pixels on the plotting lines are successively shifted by corresponding texture height information and the triangles are plotted by interpolating image data of texture of adjacent pixels before shift between pixel positions after the shift by an RP (plotting processor) 200. - 特許庁

絶縁膜の描画工程を省略し、配線の描画工程で新たな短絡の発生を抑止し、描画パターンを単純な形状として欠陥修正による配線性能の低下を防止して、より実用的な欠陥修正を容易且つ確実に行うことを可能とする表示装置及び欠陥修正方法を提供する。例文帳に追加

To provide a display device for which a more practical method for correcting a defect is easily and certainly applied and the method for correcting the defect by omitting a drawing process of an insulating film, preventing another short-circuitting in a wiring drawing process, making a drawn pattern a simple shape and preventing a wiring performance from lowering when correcting the defect. - 特許庁

基板上の所定の描画領域内にすき間が生じないように液滴を合一させるとともに、描画領域から液体がはみ出さないようにすることが可能な液体塗布方法、液体塗布装置及び放射線検出器製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a liquid coating method, a liquid coating device, and a method of manufacturing a radiation detector that unite droplets within a predetermined imaging region on a substrate so that no gap occurs therebetween and prevent liquid from protruding from the imaging region. - 特許庁

本発明は電子ビーム描画装置のショット量補正方法及び装置に関し、露光中ディレイによるＣＤ線幅の変化を補正することができる電子ビーム描画装置のショット量補正方法及び装置を提供することを目的としている。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus for correcting a shot amount of an electronic beam drawing apparatus capable of correcting a change in a CD ray width due to a delay during exposure. - 特許庁

本発明の課題は、仮想水平線、及びその水平線上の消点を利用した遠近法による地図描画方法を採用することで、より実写に近い遠近画面表示が可能なナビゲーション装置を提供することである。例文帳に追加

To provide a navigation system capable of displaying a perspective image screen nearer to actual photographing by adopting a map plotting method by perspective using a virtual horizontal line and a vanishing point on the horizontal line. - 特許庁

仮想点座標系でのＯＢ１の法線ベクトルを求め、仮想点座標系での法線ベクトルにより特定されるテクスチャ座標に基づき、描画領域の画像をＯＢ１にマッピングする。例文帳に追加

A normal vector of the OB1 is determined in the virtual point coordinate system and an image of the drawing region is mapped on the OB1 based on a texture coordinate specified by the normal vector in the virtual point coordinate system. - 特許庁

ユーザによって指定された図形の端線を基準線として読み込む手段と、基準線を開始線として、図形の端点を図形の外形線から識別し、端点と基準線との間の距離を示す寸法線の長さを決定する手段と、決定された寸法線の長さに基づいて、寸法線を描画する手段と、を含む。例文帳に追加

A drawing creation support device includes: means for reading an end line of a graphic specified by a user as a datum line; means for identifying an end point of the graphic from the visible outline of the graphic, with the datum line defined as a start line; and means for drawing a dimension line based on the length of the determined dimension line. - 特許庁

マスクパターンの補正方法、露光用マスク、露光用マスクの作製方法、露光用マスクを作製するための電子線描画方法、露光方法、半導体装置、及び、半導体装置の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, EXPOSURE MASK, METHOD FOR PRODUCING EXPOSURE MASK, ELECTRON BEAM DRAWING METHOD FOR PRODUCING EXPOSURE MASK, EXPOSURE METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

電界を用いて、電界集中を起こすことが可能な材料からなる微細流体を基板へ飛翔付着させる先描画によって基板上に微細パターンを形成し、続いて、該微細パターン上に、電界を用いて、微細流体を飛翔付着させる本描写を行う微細線描写方法。例文帳に追加

In the fine line drawing method, a fine pattern is formed on a substrate by prior drawing of flying and adhering a fine fluid composed of a material capable of generating electric field concentration to the substrate with the use of an electric field, and subsequently, main drawing of flying and adhering a fine fluid onto the fine pattern with the use of an electric field is carried out. - 特許庁

文字や線等の視認性を確保しつつ、記録されるデータ量を少なくすることで通信や表示処理の負担を軽減し、講義等のデータを効率的に記録・再生することができる描写データ記録再生プログラムおよび描写データ記録再生装置ならびに描写データ記録再生方法を提供する。例文帳に追加

To provide a drawing data recording and reproducing program, a drawing data recording and reproducing device, and a drawing data recording and reproducing method which can reduce a load of communication or display processing by decreasing a data amount to be recorded to efficiently record and reproduce data for a lecture and the like while maintaining visibility of characters, lines and the like. - 特許庁

ステージ制御により生じる機械振動成分を除去することなく、レーザ干渉計の測定信号に含まれる非線形誤差成分を最大限除去することが可能な荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法を提供する。例文帳に追加

To provide a charged particle beam-drawing device capable of maximally removing a nonlinear error component included in a measurement signal of a laser interferometer without removing a mechanical vibration component generated by stage control; and to provide a charged particle beam-drawing method. - 特許庁

サーボ制御により生じる機械振動成分を除去することなく、レーザ干渉計の測定信号に含まれる非線形誤差成分を最大限除去することが可能な荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法を提供する。例文帳に追加

To provide a charged particle beam-drawing device capable of maximally removing a nonlinear error component included in a measurement signal of a laser interferometer without removing a mechanical vibration component generated by servo control; and to provide a charged particle beam-drawing method. - 特許庁

遊戯用ソフトウエア（特にコンシューマゲーム、据え置きタイプのゲーム、携帯型ゲーム、携帯電話で行うもの）で利用される描画装置等であって、Ｎ個の点を連結するフリー線を容易に描くことのできる方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for easily plotting a free line connecting N pieces of points regarding a plotting device etc. to be used for software for a game (in particular, a consumer game, stationary type game, portable type game, portable telephone type game). - 特許庁

放射線検出装置に対向して設けられた放射線照射部を複数の位置に移動する場合であっても、放射線の吸収コントラストが低い部位における画像描写能の低下を抑止することができる放射線画像生成装置及び放射線画像生成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a device and method for generating radiographic images, which can prevent deterioration of imaging performance in a region where absorption contrast of radiation is low, even when an irradiating part provided opposite to a radiation detector is moved to a plurality of positions. - 特許庁

スキャン値ｄとパラメータｓの関係を表す直線の傾きの値にかかわらず、また、直線を描画するための補間だけでなく、その他あらゆる線形補間についても効率よく処理を実行できる線形補間方法および線形補間装置を提供する。例文帳に追加

To provide a linear interpolation method and a linear interpolation device capable of efficiently executing a processing not only for interpolation for plotting a straight line but also for any other linear interpolation regardlessly of the value of the inclination of the straight line expressing the relation between a scanning value d and a parameter s. - 特許庁

２次元描画モジュール２５は、周期的に音線データを読み込み（Ｓ４０１）、探触子の物理構造および音線データのスキャン方法を調べ、最適な座標変換アルゴリズムを選択する（Ｓ４０２）。例文帳に追加

A two-dimensional drawing module 25 reads sound line data periodically (S401) and examines physical structure of a probe and a scan method of sound line data to select the optimum coordinate transformation algorithm (S402). - 特許庁

加工用レーザ光線及び案内レーザ用光線のそれぞれのパターンを統一して加工用素材上に描画するできるレーザ加工装置及び方法の提供。例文帳に追加

To provide a laser processing device capable of unifying two respective patterns of a processing laser beam and a guide laser beam, and drawing the unified pattern on a material to be processed, and to provide a laser processing method using the same. - 特許庁

基板に液体 好ましくは紫外線硬化性透明樹脂で光導波路となる線を描くことを特徴とする光回路を作製する方法および装置。例文帳に追加

The method and device for manufacturing an optical circuit are characterized by the fact that lines which becomes an optical waveguide are drawn on a substrate with a liquid, preferably a transparent resin which is hardened with ultraviolet light. - 特許庁

光源からの光に含まれる紫外線のうち、光硬化性樹脂組成物の硬化に有効な所定波長の紫外線を高効率で利用すると共に、光造形に使用する液晶描画マスクの紫外線による劣化を防止または抑制して、液晶描画マスクの使用可能寿命を延長させることのできる光造形方法および装置の提供。例文帳に追加

To provide a photofabrication method and an apparatus, which utilize, of UV contained in light from a light source, the UV of a predetermined wavelength that is effective to the curing of a photocurable resin composition and which prevent or suppress the degradation by UV of a liquid crystal drawing mask used in the photofabrication to prolong the service life of the mask. - 特許庁

電子ビーム描画技術を容易に適用することができるパターン形成方法並びにその方法に使用される電子線放出素子及びその製造方法を提供すること。例文帳に追加

To obtain a pattern forming method which facilitates application of an electron beam lithography technique, and to obtain an electron beam emission element used for the method and a manufacturing method therefor. - 特許庁

荷電粒子線によるパターン描画によって、寸法精度の良好なパターンを得ることができる露光方法及び光ディスク原盤の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure method, by which a pattern having satisfactory dimensional accuracy can be obtained through pattern formation with a charged particle beam, and to provide a method for producing a master disk of an optical disk. - 特許庁

電子線の放出角度が小さくなり、また、カーボンナノチューブを接合しやすい構造を有する電子線放出源、電子線放出源の製造方法および電子ビーム径が小さくなり、微細パターンを露光することが可能な電子線描画装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide an electron beam emission source with a smaller electron emission angle, having a structure easy to join a nanotube, to provide a manufacturing method of the electron beam emission source, and to provide an electron beam lithography system with a smaller electron beam diameter and capable of exposing a micropattern. - 特許庁