「CMOS device」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

TRANSMISSION CIRCUIT, CMOS SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR DESIGNING例文帳に追加

伝送回路、ＣＭＯＳ半導体デバイス、及び設計方法 - 特許庁

To reduce a rolling shutter distortion of CMOS imaging device.例文帳に追加

ＣＭＯＳ撮像素子のローリングシャッタ歪みを低減化する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING HIGH PERFORMANCE CMOS DEVICE WITH REDUCED COST例文帳に追加

高性能で低コストのＣＭＯＳデバイスを形成する方法 - 特許庁

The selection device may be implemented in silicon-on-insulator (SOI) complementary metal-oxide semiconductor (CMOS) technology.例文帳に追加

選択デバイスは、シリコン−オン−絶縁物（SOI）相補型金属酸化物半導体（CMOS）技術で実装される。 - 特許庁

A CMOS image signal image processing unit 30 receives the image signal from the CMOS imaging device 43.例文帳に追加

ＣＭＯＳ画像信号画像処理ユニット３０はＣＭＯＳ撮像素子４３から画像信号を受信する。 - 特許庁

The CMOS device is therefore enabled to operate normally without using the CMOS device having high breakdown voltage, and while an increase in chip size is suppressed, the CMOS device can operate normally.例文帳に追加

したがって高耐圧のＣＭＯＳデバイスを用いることなく、ＣＭＯＳデバイスの正常動作を可能にし、チップサイズの増大を抑制しながらも、ＣＭＯＳデバイスを正常に動作させられる。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND CMOS TRANSISTOR例文帳に追加

半導体装置およびその製造方法並びにＣＭＯＳトランジスタ - 特許庁

CMOS DEVICE, ITS MANUFACTURING METHOD AND MASK DATA FORMING METHOD例文帳に追加

ＣＭＯＳデバイス，その製造方法及びマスクデータ生成方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING CMOS DEVICE HAVING TWO WORK FUNCTIONS例文帳に追加

２つの仕事関数を備えたＣＭＯＳデバイスの製造方法 - 特許庁

To provide a noise-reduced CMOS solid-state imaging device.例文帳に追加

低ノイズ化のＣＭＯＳ方式固体撮像装置を提供する。 - 特許庁

DUAL GATE CMOS SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURE THEREOF例文帳に追加

デュアルゲートＣＭＯＳ型半導体装置およびその製造方法 - 特許庁

CMOS IMAGE PICKUP DEVICE PROVIDED WITH A/D CONVERTER FOR EVERY PIXEL例文帳に追加

画素毎のＡ／Ｄ変換器を備えるＣＭＯＳ撮像装置 - 特許庁

METHOD OF FORMING CMOS SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING DUAL GATE例文帳に追加

デュアルゲートを有するＣＭＯＳ型半導体装置形成方法 - 特許庁

DUAL-GATE TYPE CMOS SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

デュアルゲート型ＣＭＯＳ半導体装置及びその製造方法 - 特許庁

MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURE OF CMOS SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体装置の製造方法及びＣＭＯＳ半導体装置の製造方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE, AND METHOD TO SPEED-UP CMOS CIRCUIT例文帳に追加

半導体集積回路装置とＣＭＯＳ回路の高速化方法 - 特許庁

The CMOS imaging device 43 progressively outputs the image signal.例文帳に追加

ＣＭＯＳ撮像素子４３は画像信号をプログレッシブ出力する。 - 特許庁

The imaging device 10 is composed on a CMOS of a single chip.例文帳に追加

撮像装置１０は、１チップのＣＭＯＳ上に構成されている。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF FORMING THE SAME (HIGH-K METAL GATE CMOS)例文帳に追加

半導体デバイスとその形成方法（高ｋ金属ゲートＣＭＯＳ） - 特許庁

To enough activate substrate contact regions of a support substrate with little changing the conventional SOI-CMOS device forming process.例文帳に追加

従来のSOI-CMOSデバイス形成プロセスをほとんど変更することなく、支持基板の基板コンタクト領域を充分活性化する。 - 特許庁

To materialize a countermeasure against a reversal region in a CMOS semiconductor device, without changing the manufacturing process of a CMOS semiconductor device.例文帳に追加

ＣＭＯＳ半導体装置において、反転領域対策を、ＣＭＯＳ半導体装置の製造工程を変えないで実現することを課題とする。 - 特許庁

Bi-CMOS SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE AND MANUFACTURE THEREOF例文帳に追加

Ｂｉ−ＣＭＯＳ型半導体集積回路装置及びその製造方法 - 特許庁

VARIABLE NEGATIVE DIFFERENTIAL RESISTANCE DEVICE COMPATIBLE WITH CMOS, AND ITS OPERATION METHOD例文帳に追加

ＣＭＯＳ互換の可変負性微分抵抗装置及びその動作方法 - 特許庁

To rationalize ion implanting process for CMOS semiconductor device.例文帳に追加

ＣＭＯＳ半導体装置におけるイオン注入工程の合理化を図る。 - 特許庁

CMOS INTEGRATED CIRCUIT AND TIMING SIGNAL GENERATING DEVICE PROVIDED WITH THE SAME例文帳に追加

ＣＭＯＳ集積回路及びこれを用いたタイミング信号発生装置 - 特許庁

CMOS SEMICONDUCTOR DEVICE EQUIPPED WITH DOUBLE WORK FUNCTION METALLIC GATE STACK例文帳に追加

二重仕事関数金属ゲートスタックを備えるＣＭＯＳ半導体装置 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, CMOS TYPE REGULATOR AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

半導体装置及びその製造方法、ＣＭＯＳ型レギュレータ、電子機器 - 特許庁

To materialize the speed up of a semiconductor device by increasing the drive current of a CMOS device.例文帳に追加

ＣＭＯＳデバイスの駆動電流を増加させて、半導体装置の高速化を実現する。 - 特許庁

ACTIVE ELEMENT AND CMOS CIRCUIT AND DISPLAY DEVICE USING THE ACTIVE ELEMENT例文帳に追加

能動素子、これを用いたＣＭＯＳ回路及びこれを用いた表示装置 - 特許庁

To provide a CMOS semiconductor device which has a simple structure and can be downsized.例文帳に追加

簡易な構造で、かつ小型化が可能なＣＭＯＳ半導体装置を得る。 - 特許庁

To increase the dynamic range of a CMOS imaging device when a rolling shutter is operated.例文帳に追加

ローリングシャッタ動作のＣＭＯＳ撮像装置でダイナミックレンジを拡大する。 - 特許庁

FIN FET CMOS, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND MEMORY DEVICE COMPRISING THE SAME例文帳に追加

フィンＦＥＴＣＭＯＳとその製造方法及びそれを備えるメモリ素子 - 特許庁

CMOS DEVICE OF DOUBLE VERTICAL CHANNEL THIN FILM TRANSISTOR AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ダブルバーティカルチャネル薄膜トランジスタのＣＭＯＳ装置及びその製造方法 - 特許庁

IMAGE PICKUP DEVICE, CMOS TYPE SOLID-STATE IMAGE PICKUP ELEMENT AND ITS DRIVING METHOD例文帳に追加

撮像装置並びにＣＭＯＳ型固体撮像素子及びその駆動方法 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a CMOS device on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上へＣＭＯＳデバイスを作製する方法を提供する。 - 特許庁

ACTIVITY ELEMENT, CMOS CIRCUIT USING THE ELEMENT, AND DISPLAY DEVICE USING THE ELEMENT例文帳に追加

能動素子、これを用いたＣＭＯＳ回路及びこれを用いた表示装置 - 特許庁

CMOS DEVICE HAVING HYBRID CHANNEL ORIENTATION, AND METHOD FOR MANUFACTURING CMOS DEVICE HAVING HYBRID CHANNEL ORIENTATION USING FACET EPITAXY PROCESS例文帳に追加

ハイブリッド・チャネル配向を有するＣＭＯＳデバイスおよびファセット形成エピタキシを用いてハイブリッド・チャネル配向を有するＣＭＯＳデバイを作製するための方法 - 特許庁

To provide a method of forming CMOS semiconductor device having a dual gate.例文帳に追加

デュアルゲートを有するＣＭＯＳ半導体装置形成方法を提供する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD FOR CMOS IMAGE SENSOR例文帳に追加

半導体装置の製造方法およびＣＭＯＳイメージセンサーの製造方法 - 特許庁

MANUFACTURE OF COMPLEMENTARY METAL-OXIDE- SEMICONDUCTOR (CMOS) SENSOR DEVICE例文帳に追加

相補形金属−酸化物−半導体（ＣＭＯＳ）センサデバイスの製造方法 - 特許庁

COMPLEMENTARY METAL OXIDE SEMICONDUCTOR (CMOS) TYPE SOLID IMAGING APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING SAME, AND ELECTRONIC INFORMATION DEVICE例文帳に追加

ＣＭＯＳ型固体撮像装置およびその製造方法、電子情報機器 - 特許庁

CMOS TYPE SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

ＣＭＯＳ型半導体装置の製造方法および、ＣＭＯＳ型半導体装置 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR ADJUSTING EXPOSURE TIME IN CMOS IMAGE SENSOR例文帳に追加

ＣＭＯＳイメ—ジセンサにおける露出時間を調節するための装置及び方法 - 特許庁

To provide a method for forming a CMOS transistor in a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置においてＣＭＯＳトランジスタを形成する方法を提供する。 - 特許庁

PRODUCTION OF COMPLEMENTARY TYPE METAL-OXIDE- SEMICONDUCTOR (CMOS) PHOTOSENSITIVE DEVICE例文帳に追加

相補形金属−酸化物—半導体（ＣＭＯＳ）感光性デバイスの製造方法 - 特許庁