「GIC」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

SOURCE COLLECTOR MODULE WITH GIC MIRROR AND LIQUID XENON EUV/LPP TARGET SYSTEM例文帳に追加

ＧＩＣミラー及び液体キセノンＥＵＶ・ＬＰＰターゲットシステムを備える光源集光モジュール - 特許庁

SOURCE-COLLECTOR MODULE WITH GIC MIRROR AND TIN WIRE EUV LPP TARGET SYSTEM例文帳に追加

ＧＩＣミラー及びスズワイヤＥＵＶ・ＬＰＰターゲットシステムを備える光源集光モジュール - 特許庁

LIGHT SOURCE COLLECTOR MODULE WITH GIC MIRROR AND TIN ROD EUV/LPP TARGET SYSTEM例文帳に追加

ＧＩＣミラー及びスズロッドＥＵＶ・ＬＰＰターゲットシステムを備える光源集光モジュール - 特許庁

To compensate for characteristic deterioration (bounce of cutoff characteristic) generated after cutoff frequency in an active filter for audio, particularly a GIC filter by adding a secondary LC filter, and to achieve a predetermined cutoff characteristic beyond a GIC cutoff limit while maintaining a peaking characteristic of the GIC filter.例文帳に追加

オーディオ用アクティブ型フィルター、特にＧＩＣフィルターにおいて遮断周波数以降で発生する特性劣化（遮断特性の跳ね返り）を２次ＬＣフィルターの追加により補償する事、およびＧＩＣフィルターのピーキング特性を維持しながらＧＩＣ遮断限界以上で所定の遮断特性を実現する事。 - 特許庁

A sensor is driven at a low voltage by a sensor circuit in which all operational amplifiers in an oscillation circuit 11, a GIC circuit 21 and a constant current circuit 22 are amplifiers for a single power source, and an input transistor of the GIC circuit 22 is changed.例文帳に追加

センサ回路として、発振回路１１，ＧＩＣ回路２１，定電流回路２２の中のオペアンプをすべて単電源用とするとともに、ＧＩＣ回路２２の入力トランジスタを変更することにより、低電圧でセンサを駆動する。 - 特許庁

In the condenser system 250, the heat is removed from condensed vapor so that the GIC mirror shell 110 is cooled.例文帳に追加

復水システムにおいて、凝縮された蒸気から熱が除去されることにより、ＧＩＣミラーシェルが冷却される。 - 特許庁

To provide an adjustable clip for securing a grazing-incidence collector (GIC) shell of EUV to a spider having plural spokes.例文帳に追加

複数のスポークを有するスパイダにＥＵＶの斜入射集光器（ＧＩＣシェル）を固定するための調節クリップが開示される。 - 特許庁

To provide a cooling system and a cooling method for a grazing-incidence collector (GIC) used in extreme ultraviolet (EUV) lithography.例文帳に追加

極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィにおいて使用される斜入射集光器（ＧＩＣ）用の冷却システム及び冷却方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, a multilayer shell type GIC mirror MG can be disposed between an LPP 24 and an intermediate focus IF along an optical axis A1.例文帳に追加

このため、ＬＰＰ２４と中間焦点ＩＦとの間に光学軸Ａ１に沿って多層シェル型ＧＩＣミラーＭＧを配置することができる。 - 特許庁

To disclose a method of using a stress-decoupling device, in a stress-decoupling device for EUV lithography and a cooled grazing-incidence collector (GIC) mirror system.例文帳に追加

ＥＵＶリソグラフィ用ストレス分断装置、および、冷却斜入射集光器（ＧＩＣ）ミラーステムにおいてストレス分断装置を使用する方法が開示される。 - 特許庁

A GIC mirror is arranged relative to the LPP to receive an EUV at an input end and focus the received EUV at an intermediate focus adjacent to an output end.例文帳に追加

ＧＩＣミラーは、ＬＰＰに相対配置され、入射端でＥＵＶを受光し、受光したＥＵＶを、出射端に隣接する中間焦点に集束する。 - 特許庁

Grazing incidence collectors (GIC) mirrors M1, M2 are used in a source collector module for generating laser generating plasma (LPP) that emits EUV radiation.例文帳に追加

ＥＵＶを放射するレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）を生成するための光源集光モジュールには斜入射集光器（ＧＩＣ）ミラーＭ１，Ｍ２を用いる。 - 特許庁

The GIC mirror is arranged relatively to LPP, receives EUV 30 at an incident end thereof and focuses the received EUV at an intermediate focus point IF adjacent to an emission end thereof.例文帳に追加

ＧＩＣミラーは、ＬＰＰに相対配置され、入射端でＥＵＶ３０を受光し、受光したＥＵＶを、出射端に隣接する中間焦点ＩＦに集束する。 - 特許庁

A GIC mirror Mg is disposed relatively to LPP, receives EUV at an incident end, and focuses the received EUV at an intermediate focus point IF adjacent to an emission end.例文帳に追加

ＧＩＣミラーＭＧは、ＬＰＰに相対配置され、入射端でＥＵＶを受光し、受光したＥＵＶを、出射端に隣接する中間焦点ＩＦに集束する。 - 特許庁

A stress-decoupling method includes: providing a cooled GIC shell; providing an inflow-side primary cooling-fluid manifold and an outflow-side primary cooling-fluid manifold; and fluidly connecting the cooled GIC shell to the inflow-side primary cooling-fluid manifold and the outflow-side primary cooling-fluid manifold, through each of a plurality of stress-decoupling devices 270.例文帳に追加

冷却ＧＩＣシェルを設けることと、流入側一次冷却液マニホールド及び流出側一次冷却液マニホールドを設けることと、複数のストレス分断装置２７０それぞれを介して冷却ＧＩＣシェルを流入側一次冷却液マニホールド及び流出側一次冷却液マニホールドに流体接続することとを備える。 - 特許庁

To solve such a problem that a GIC (Grazing-Incidence Collector) shell spider receives prolonged exposure to EUV radiation and other radiation by-products that heat the spider and potentially induce deformation to mirrors supported thereby and cause performance problems.例文帳に追加

ＧＩＣ（斜入射集光器）シェルスパイダが、長期的にＥＵＶや他の放射副産物に曝されると、加熱され潜在的にミラーが変形し、性能上の問題を引き起こす。 - 特許庁

The GIC mirror MG is disposed in relation to the LPP 24, receives the EUV at the incident end 3, and focuses the received EUV on an intermediate focus IF adjacent to the emission end 5.例文帳に追加

ＧＩＣミラーＭＧは、ＬＰＰ２４に相対配置され、入射端３でＥＵＶを受光し、受光したＥＵＶを、出射端５に隣接する中間焦点ＩＦに集束する。 - 特許庁

The reserve fund 501 can be applied to S/A (special account of variable-sum insurance, variable-sum pension and the like) 303, GIC (planned interest rate variable-type insurance) 305, and investment trust 307.例文帳に追加

また、積立金５０１を、Ｓ／Ａ（変額保険、変額年金等の特別勘定）３０３、ＧＩＣ（予定利率変動型保険）３０５、投資信託３０７へ振り向けることもできる。 - 特許庁

To provide a method for safely producing a graphite intercalation compound (GIC) with a metal halide intercalated between graphite layers at a temperature of ≤200°C without using any halogen gas.例文帳に追加

グラファイトの層間に金属ハロゲン化物が挿入されたグラファイト層間化合物（ＧＩＣ）を、ハロゲンガスを使用せず、２００℃以下の温度で安全に製造することが可能な方法を提供すること。 - 特許庁

The present invention relates to the SOCOMO for generating a laser-produced plasma (LPP) that emits EUV, and a grazing-incidence collector (GIC) mirror having an input end and an output end and arranged relative to the LPP.例文帳に追加

ＥＵＶを放射するレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）を生成するためのＳＯＣＯＭＯと、入射端および出射端を有し、ＬＰＰに相対配置される斜入射集光器（ＧＩＣ）ミラーとに関する。 - 特許庁

A source-collector module (SOCOMO) 100 for generating laser-produced plasma (LPP) radiating EUV includes a grazing-incidence collector (GIC) mirror MG having an incident end 3 and an emission end 5 and disposed in relation to an LPP 24.例文帳に追加

ＥＵＶを放射するレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）を生成するための光源集光モジュール（ＳＯＣＯＭＯ）１００と、入射端３および出射端５を有し、ＬＰＰ２４に相対配置される斜入射集光器（ＧＩＣ）ミラーＭＧとに関する。 - 特許庁

The composition has a viscosity at 60°C of from 100 to 5,000 P and yields a cured product having a GIc of ≥1 kJ/m2.例文帳に追加

（Ａ）（１）で示される構造を有するエポキシ樹脂と（Ｂ）ゴム変性エポキシ樹脂又は（Ｂ）反応性ゴムとエポキシ樹脂との混合物を必須成分とし、６０℃で粘度が１００〜５０００ポイズであり、硬化物のＧ_Ｉｃが１ＫＪ／ｍ^２以上である、エポキシ樹脂組成物である。 - 特許庁

By using FDNR (Frequency Dependent Negative Resistors) as terminal resistance of a secondary LC filter and connecting braking resistance (1) in series with the LC filter, the secondary LC filter with resonance characteristic is achieved, thereby achieving a predetermined cutoff characteristic beyond a GIC cutoff limit.例文帳に追加

２次ＬＣフィルターの終端抵抗としてＦＤＮＲ（Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ Ｄｅｐｅｎｄｅｎｔ Ｎｅｇａｔｉｖｅ Ｒｅｓｉｓｔｏｒｓ）を用いる事、およびＬＣフィルターと直列に制動抵抗（１）を接続する事で共振特性を備えた２次ＬＣフィルターを実現しＧＩＣ遮断限界以上で所定の遮断特性を実現する。 - 特許庁