| 意味 | 例文 |
Process Chamberの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1536件
PROCESS FOR HEATING CARBONIZATION CHAMBER例文帳に追加
炭化室の加熱方法 - 特許庁
MULTI-CHAMBER PLASMA PROCESS SYSTEM例文帳に追加
マルチチャンバプラズマプロセスシステム{MULTICHAMBERPLASMAPROCESSSYSTEM} - 特許庁
ISOTHERMAL CONTROL OF PROCESS CHAMBER例文帳に追加
プロセスチャンバの等温制御 - 特許庁
FLUORINE PROCESS FOR CLEANING SEMICONDUCTOR PROCESS CHAMBER例文帳に追加
半導体プロセスチャンバの洗浄方法 - 特許庁
CHEMICAL REACTION CHAMBER AND SEMICONDUCTOR PROCESS CHAMBER例文帳に追加
化学反応室及び半導体プロセスチャンバー - 特許庁
LID ASSEMBLY FOR SEMICONDUCTOR PROCESS CHAMBER例文帳に追加
半導体処理チャンバー用蓋体 - 特許庁
The device 100 includes a chamber such as a load lock chamber 110, a transfer chamber 115 or a process chamber 120.例文帳に追加
装置115は、ロードロックチャンバ110、トランスファチャンバ115或いはプロセスチャンバ120といったチャンバを含む。 - 特許庁
PROCESS CHAMBER FOR SEMICONDUCTOR PRODUCTION EQUIPMENT例文帳に追加
半導体製造設備用プロセスチャンバ - 特許庁
CVD PROCESS CHAMBER GAS DISTRIBUTION SYSTEM例文帳に追加
CVDプロセスチャンバ用ガス分配システム - 特許庁
SUSPENSION FOR SHOWER HEAD IN PROCESS CHAMBER例文帳に追加
プロセスチャンバ内のシャワーヘッド用サスペンション - 特許庁
VACUUM PRESSURE CONTROL SYSTEM IN PROCESS CHAMBER例文帳に追加
プロセスチャンバ内真空圧力制御システム - 特許庁
APPARATUS FOR CLEANING A SEMICONDUCTOR PROCESS CHAMBER例文帳に追加
半導体処理チャンバを浄化する装置 - 特許庁
In the vacuum tank 11, a film forming process chamber and a reaction process chamber are formed.例文帳に追加
真空槽11内には成膜プロセス室20,40と反応プロセス室60が形成される。 - 特許庁
PROCESSING CHAMBER FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION PROCESS例文帳に追加
原子層成長プロセスのための処理チャンバ - 特許庁
The apparatus includes each process chamber comprising a mask attaching chamber, a deposition chamber and a mask detaching chamber.例文帳に追加
本装置は、マスク付着チャンバ、蒸着チャンバ、及びマスク回収チャンバを有する工程チャンバを有する。 - 特許庁
SINGLE CHAMBER CVD PROCESS FOR THIN FILM TRANSISTOR例文帳に追加
薄膜トランジスタ用シングルチャンバCVDプロセス - 特許庁
The position is set for each process chamber, corresponding to processing position in each process chamber.例文帳に追加
このポジションは、各プロセスチャンバ内での処理位置に対応して、各プロセスチャンバ別に設定される。 - 特許庁
A plasma etching apparatus 1 comprises a process chamber 2 and an evacuation system P which is connected to the process chamber 2.例文帳に追加
プラズマエッチング装置1は、処理室2と、処理室2に接続された排気装置Pとを備える。 - 特許庁
The space between the film forming process chamber and the reaction process chamber is provided with the exhaust pump 82.例文帳に追加
成膜プロセス室20,40と反応プロセス室60との間には、排気ポンプ82が配設される。 - 特許庁
HOT-REPAIR PROCESS OF CARBONIZATION CHAMBER WALL IN COKE OVEN例文帳に追加
コークス炉炭化室壁の熱間補修方法 - 特許庁
The film forming process chamber and the reaction process chamber are divided by shielding boards 31 and 75.例文帳に追加
この成膜プロセス室20,40と反応プロセス室60とは遮蔽板31,51,75で区画される。 - 特許庁
To allow inspection of the inside of a process apparatus at any time and measurement of the inside of a process chamber without disassembling the process chamber.例文帳に追加
いつでもプロセス装置内部の検査ができ、プロセス室内部の測定がプロセス室を分解する必要なしに行う。 - 特許庁
PROCESS KIT AND TARGET FOR SUBSTRATE PROCESSING CHAMBER例文帳に追加
基板処理チャンバのためのプロセスキット及びターゲット - 特許庁
The thin plate joining device includes a process chamber 10 and a pump 50 which is connected to one side of the process chamber to evacuate the process chamber.例文帳に追加
本発明に従う薄板接合装置は、工程チャンバ10及び工程チャンバの一側に連結され、工程チャンバを真空状態にするポンプ50を含む。 - 特許庁
A process for detecting a leak from a hydrogen chamber 27 is divided into a process for detecting a leak into an oxygen chamber 28 and a process for detecting a leak into portions other than the oxygen chamber 28.例文帳に追加
水素室27からのもれ検知工程を、酸素室28へのもれ検知工程と、酸素室28以外へのもれ検知工程とに分割する。 - 特許庁
The substrate processing module consists of a process chamber PM and a vacuum lock chamber VL.例文帳に追加
基板処理モジュールは、プロセスチャンバPMとバキュームロックチャンバVLとからなる。 - 特許庁
the lead chamber used when producing sulphuric acid by the lead chamber process 例文帳に追加
鉛室法で硫酸を製造する時に用いられる,鉛で囲んだ室 - EDR日英対訳辞書
METHOD FOR SCHEDULING TO PROCESS MULTI-CHAMBER FILM FORMING APPARATUS例文帳に追加
マルチチャンバ成膜装置の処理スケジューリング方法 - 特許庁
TARGET FOR SPUTTERING CHAMBER AND PROCESS KIT COMPONENT例文帳に追加
スパッタリングチャンバのためのターゲット及びプロセスキット部品 - 特許庁
PROCESS FOR TREATING WASTE PLASTIC IN CARBONIZATION CHAMBER OF COKE OVEN例文帳に追加
廃プラスチックのコークス炉炭化室での処理方法 - 特許庁
an industrial method of manufacturing sulphuric acid, called the lead chamber process 例文帳に追加
鉛室法という,硫酸の工業的製法 - EDR日英対訳辞書
The vacuum vapor deposition apparatus 10 comprises a target chamber 100, a process chamber 200 and a flight chamber 300.例文帳に追加
真空蒸着装置10は、ターゲットチャンバ100、プロセスチャンバ200及び飛行チャンバ300を備える。 - 特許庁
A process gas comprising CO_2 is introduced into the chamber.例文帳に追加
CO_2を含む処理ガスをチャンバ内に導入する。 - 特許庁
Each process part is respectively installed in a casting/peeling chamber 42, a tenter drying chamber 44, a roll drying chamber 46, and a winding chamber 48.例文帳に追加
各工程部はそれぞれ、流延・剥離室42、テンター乾燥室44、ロール乾燥室46、巻取室48に設置される。 - 特許庁
A process contains the process introducing a process gas 28 to a process chamber 10 when the process gas 28 comprises SiH_4, PH_3, O_2, and argon.例文帳に追加
プロセスは、プロセスガス28がSiH_4、PH_3、O_2およびアルゴンを含む場合、プロセスチャンバ10にプロセスガス28を導入する工程を含む。 - 特許庁
To obtain a plasma process system and method in which resonance in a plasma process chamber can be reduced by enhancing the uniformity of plasma process effected in the chamber.例文帳に追加
チャンバ内で果たされるプラズマプロセスの均一性を高め、プラズマプロセスチャンバ内のチャンバ共振を減じるプラズマプロセスシステム並びに方法。 - 特許庁
When executing a cleaning process for a process chamber 2 after a film formation process is finished, an HF gas and an N2 gas are supplied into the process chamber 2 while evacuation of the process chamber 2 is kept going by a pump 9.例文帳に追加
成膜プロセスの終了後、プロセスチャンバー2内のクリーニングプロセスを実行する場合、ポンプ9によるプロセスチャンバー2内の減圧排気を継続した状態で、HFガス及びN_2ガスをプロセスチャンバー2内に導入する。 - 特許庁
The plasma processing apparatus comprises a process chamber 101, a pressure measurement equipment 401 that measures the pressure inside the process chamber 101, and a pump 403 that ejects gas inside the process chamber 101.例文帳に追加
プロセスチャンバー101と、プロセスチャンバー101内の圧力を測定する圧力測定器401と、プロセスチャンバー101内のガスを排出するポンプ403とを備える。 - 特許庁
METHOD FOR CLEANING IN PROCESS CHAMBER AND SUBSTRATE TREATING DEVICE例文帳に追加
プロセスチャンバー内のクリーニング方法及び基板処理装置 - 特許庁
METHOD OF COOLING PROCESS CHAMBER OF SHEET TYPE HEAT TREATMENT APPARATUS例文帳に追加
枚葉式熱処理装置のプロセスチャンバーの冷却方法 - 特許庁
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