「Process Chamber」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

APPARATUS AND METHOD FOR INSULATING SEAL IN PROCESS CHAMBER例文帳に追加

処理チャンバ内のシールを断熱する装置及び方法 - 特許庁

The process for detecting a leak into the oxygen chamber 28 is carried out prior to the process for detecting a leak into the portions other than the oxygen chamber 28.例文帳に追加

酸素室２８へのもれ検知工程を、酸素室２８以外へのもれ検知工程より先に実行する。 - 特許庁

METHOD OF CLEANING PROCESS CHAMBER AND SUBSTRATE TREATMENT EQUIPMENT例文帳に追加

プロセスチャンバー内のクリーニング方法及び基板処理装置 - 特許庁

COMBUSTION PROCESS FOR REMOVAL OF DEPOSIT CARBON IN COKE OVEN CARBONIZATION CHAMBER例文帳に追加

コークス炉炭化室付着カーボンの燃焼除去方法 - 特許庁

This device comprises a load lock chamber 1 internally kept in vacuum state, a plasma chamber 2 and a process chamber 3.例文帳に追加

内部が真空状態に保持されるロードロックチャンバ１、プラズマチャンバ２およびプロセスチャンバ３で構成されている。 - 特許庁

HEAT INSULATING BOX FOR HOT REPAIR OF CARBONIZATION CHAMBER OF COKE OVEN AND HOT REPAIR PROCESS FOR CARBONIZATION CHAMBER例文帳に追加

コークス炉炭化室の熱間補修用断熱ボックスと該炭化室の熱間補修方法 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR POSITIONING DETACHABLE CONSTRUCTING CHAMBER IN PROCESS CHAMBER例文帳に追加

プロセス・チャンバ内に取外し可能な構築チャンバを位置決めするための装置および方法 - 特許庁

To prevent rest of gas, which has been consumed in a treating process executed inside a certain process chamber, from reaching to the inside of another process chamber.例文帳に追加

或るプロセスチャンバ内で実施された処理工程において必要とされたガスの残りが別のプロセスチャンバ内に達しするのを回避する。 - 特許庁

Then, the process gas is continued to flow into the process chamber without plasma excitation until the flow or the distribution of the process gas reaches a steady state in the regular process chamber (226).例文帳に追加

次に、処理ガス流および分配が通常処理チャンバで定常状態を達成するまで、処理ガスはプラズマ励起なしに処理チャンバに流し込まれる（２２６）。 - 特許庁

The component is used to process a work piece 18 within a process chamber 12.例文帳に追加

前記成分は、処理チャンバ１２内のワークピース１８を処理するために使用される。 - 特許庁

To provide a method of depositing a thin film on a substrate in a process chamber.例文帳に追加

処理室内で基板に薄膜を堆積させる方法。 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR CLEANING PROCESS CHAMBER AND VACUUM LINE例文帳に追加

プロセスチャンバと真空ラインをクリーニングするためのシステムと方法 - 特許庁

A substrate processing apparatus comprises a process chamber having a radiation source.例文帳に追加

基板処理装置は、放射線源を持つ処理室を含む。 - 特許庁

SYSTEM FOR DETOXIFYING EXHAUST GAS FROM SEMICONDUCTOR PROCESS CHAMBER例文帳に追加

半導体プロセスチャンバからの排ガスを除害するためのシステム - 特許庁

TREATING METHOD OF OFF GAS GENERATED FROM SEMICONDUCTOR PROCESS CHAMBER例文帳に追加

半導体プロセスチャンバから生じるオフガスを処理する方法 - 特許庁

LASER HEATING DEVICE FOR VACUUM CHAMBER AND APPARATUS FOR VACUUM PROCESS例文帳に追加

真空チャンバ用レーザ加熱装置及び真空プロセス用装置 - 特許庁

The substrate transfer module 30, which transfers a wafer is set between the process chambers or between the process chamber and the load lock chamber, in the center of the transfer chamber.例文帳に追加

トランスファーチャンバの中央には工程チャンバ間、または工程チャンバとロードロックチャンバ間にウェーハを移送する基板移送モジュール３０が配置される。 - 特許庁

To provide a method of cleaning the surface of a process chamber which can surely remove the matter having adhered to the surface of the process chamber, without doing damage to the surface of the process chamber.例文帳に追加

プロセスチャンバー表面にダメージを与えることなしに、プロセスチャンバー表面に付着した物質を確実に除去することができるプロセスチャンバー表面のクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

A gas introduction line 5 introduces process gas into the process chamber 1 with fixed flow rate.例文帳に追加

ガス導入ライン５は、プロセスチャンバ１の内部にプロセスガスを一定の流量で導入する。 - 特許庁

Thus, vaporized process gas is fed into a process chamber 20 at a prescribed flow rate.例文帳に追加

これにより、気化したプロセスガスが所定流量でプロセスチャンバー２０内に供給される。 - 特許庁

The plasma process equipment is provided with: a process chamber; a gas supply unit for supplying the process gas to the process chamber; a plasma generation unit which receives the process gas from the gas supply unit and in which plasma is generated; and a gas separation unit for separating a specified gas from the process gas which is used in the process and discharged from the process chamber.例文帳に追加

工程チャンバーと、工程チャンバーに工程ガスを供給するガス供給装置と、ガス供給装置から工程ガスを受けてプラズマを発生させるプラズマ発生装置と、工程を終えた後に工程チャンバーから排出される工程ガスから特定ガスを分離するガス分離装置と、を備える構成とした。 - 特許庁

A process chamber 2 and the lower plasma chamber 1B are flexibly connected by lower chamber bellows 24, and the lower plasma chamber 1B and the upper plasma chamber 1T are flexibly connected by upper chamber bellows 25.例文帳に追加

プロセスチャンバ２と下部プラズマチャンバ１Ｂとは、下部チャンバベローズ２４により柔軟に接続され、下部プラズマチャンバ１Ｂと上部プラズマチャンバ１Ｔとは、上部チャンバベローズ２５により柔軟に接続される。 - 特許庁

A process chamber 1 and a pretreatment chamber 29 are connected via an airtight chamber 19, and a plurality of substrates 13 are retained in a required state in the pretreatment chamber, and then are inserted into the process chamber through the airtight chamber.例文帳に追加

プロセスチャンバ１と前処理チャンバ２９とが気密室１９を介して連結され、複数の被処理基板１３は前記前処理チャンバ内で所要状態に保持された後、気密室を経て前記プロセスチャンバに挿入される様構成された。 - 特許庁

PROCESS CHAMBER OF EQUIPMENT FOR FILM DEPOSITION AND EQUIPMENT AND METHOD FOR FILM DEPOSITION例文帳に追加

成膜装置のプロセスチャンバー、成膜装置および成膜方法 - 特許庁

METHOD FOR SUPPLYING GASEOUS HYDROGEN INTO PROCESS CHAMBER OF VAPOR DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

蒸着装置の処理室内への水素ガス供給方法 - 特許庁

To provide a gas manifold for a process chamber capable of reducing stress in a suspension wall for suspending a shower head in a process chamber.例文帳に追加

プロセスチャンバ内でシャワーヘッドをつるすためのサスペンション壁における応力を低減するプロセスチャンバ用ガスマニホールドを提供する。 - 特許庁

LOCK CHAMBER DEVICE FOR VACUUM TREATMENT UNIT AND PROCESS FOR ITS OPERATION例文帳に追加

真空処理ユニット用ロックチャンバー装置およびその動作プロセス - 特許庁

WAFER-HOLDING DEVICE IN PROCESS CHAMBER FOR SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING例文帳に追加

半導体装置製造用工程チャンバのウェーハのホールディング装置 - 特許庁

PROCESS CHAMBER FOR MANUFACTURING PLASMA DISPLAY PANEL, METHOD OF MANUFACTURE USING THIS PROCESS CHAMBER AND PLASMA DISPLAY PANEL BY THIS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

プラズマディスプレイパネル製造用のプロセスチャンバーおよびそれを用いた製造方法並びにその製造方法によるプラズマディスプレイパネル - 特許庁

The flow rate of the halogen source to the process chamber with reference to the flow rate of the silicon source to the process chamber is substantially in the range between 0.5 and 3.0.例文帳に追加

プロセスチャンバへのシリコン源の流量に対するプロセスチャンバへのハロゲン源の流量は、実質的に０.５〜３.０である。 - 特許庁

So, no evacuation process of the chamber 1 is required.例文帳に追加

このため、チャンバ１内を真空排気する工程が不要となる。 - 特許庁

IN-SITU CHAMBER CLEANING PROCESS FOR REMOVING DEPOSIT OF BY-PRODUCT FROM CHEMICAL VAPOR DEPOSITION ETCHING CHAMBER例文帳に追加

化学蒸着エッチングチャンバから副生成物の堆積物を除去するインサイチュチャンバ洗浄プロセス - 特許庁

After completing the process of vacuuming the inside of the liquid chamber F, the liquid chamber F is sealed with liquid.例文帳に追加

液室Ｆ内を真空引きする工程の完了後に液室Ｆに液体を封入する。 - 特許庁

An exhausting means (not shown) is connected to the exhaust port 4, and actuated to guide the gas G flowing into the process chamber 6 through the inlet port 3 to the exhaust port 4 in the process chamber 6 and exhaust it through the process chamber 6 to exhaust port 4 outside the process chamber 6.例文帳に追加

また、排気口４には、図示しない排気手段が接続され、その作動により、気体Ｇは、給気口３を介して処理室６内に流入し、処理室６内を流れて排気口４に導かれ、排気口４を介して処理室６外に排気される。 - 特許庁

The inductively coupled plasma processing apparatus 1 includes a process chamber 2, a lower electrode 6 arranged in the process chamber 2, and an inductively coupled coil 4 for generating plasma in the process chamber 2.例文帳に追加

本発明の誘導結合プラズマ処理装置１は、処理室２、この処理室２内に配置された下部電極６、処理室２内にプラズマを発生させるための誘導結合コイル４を備えている。 - 特許庁

A load lock valve between the process chamber and the dust collection chamber is opened, and a first dust collection mechanism comprising an electrostatic chuck is inserted, under a state supplied with power, into the process chamber from the dust collection chamber by means of a handling arm.例文帳に追加

プロセスチャンバと集塵チャンバ間のロードロックバルブを開き、静電チャックで構成した第１の集塵機構を給電した状態で集塵チャンバ内からプロセスチャンバ内にハンドリングアームで挿入する。 - 特許庁

The substrate G is heated by spending a specified time in a process for rising in the heating process chamber 38.例文帳に追加

基板Ｇは加熱処理室３８内を上昇する過程で所定時間かけて加熱される。 - 特許庁

Accordingly, the system has a process chamber including a first process space having a first volume.例文帳に追加

このように、システムは、第１のボリュームを有する第１の処理空間を含む処理チャンバを有する。 - 特許庁

At this time, the process liquid discharged from the chamber 2 is returned to a process-liquid supplying part.例文帳に追加

この際に、チャンバー２から排出される処理液を処理液供給部に戻すようにする。 - 特許庁

The hermetic seal 40 is located between each dielectric tube and the process chamber, so as to allow a vacuum or low pressure in the process chamber.例文帳に追加

気密シール４０が各誘電体チューブと処理室との間にあることによって、処理室の内部を真空圧または低圧にする。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR INTRODUCING PROCESS FLUID THROUGH CHAMBER COMPONENT例文帳に追加

チャンバー部品を介してプロセス流体を導入する方法及びシステム - 特許庁

The process chamber (1) is internally provided freely rotatably with a rotor (7).例文帳に追加

上記処理室（１）内に回転自在にロ−タ−（７）を設ける。 - 特許庁

The lid assembly is for distributing gases in a semiconductor process chamber.例文帳に追加

半導体処理チャンバーにガスを供給するための蓋体である。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR-MANUFACTURING APPARATUS AND PROCESS CHAMBER STRUCTURE THEREOF例文帳に追加

半導体製造装置のプロセスチャンバ構造および半導体製造装置 - 特許庁

DEVICE NECESSARY FOR AUTOMATIC REPLENISHING FOR PROCESS CHAMBER OF PHOTOGRAPH FINISHING DEVICE例文帳に追加

写真仕上げ装置の処理室のための自動補充にかかる装置 - 特許庁