意味 | 例文 (999件) |
Susceptorを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 1366件
SUSCEPTOR COOLING SYSTEM例文帳に追加
サセプタ冷却システム - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SUSCEPTOR例文帳に追加
サセプタの製造方法 - 特許庁
SUPPORT STRUCTURE FOR SUSCEPTOR例文帳に追加
サセプターの支持構造 - 特許庁
SUSCEPTOR MANAGEMENT METHOD例文帳に追加
サセプタの管理方法 - 特許庁
PROCESSING METHOD OF SUSCEPTOR BASE MATERIAL AND SUSCEPTOR BASE MATERIAL例文帳に追加
サセプタ基材の加工方法及びサセプタ基材 - 特許庁
SUSCEPTOR FOR SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加
半導体ウェハのためのサセプタ - 特許庁
SUSCEPTOR FOR PLASMA PROCESSING CHAMBER例文帳に追加
プラズマ処理チャンバ用のサセプタ - 特許庁
SUSCEPTOR AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS例文帳に追加
サセプタおよび半導体製造装置 - 特許庁
SUSCEPTOR FOR EPITAXIAL GROWTH例文帳に追加
エピタキシャル成長用サセプタ - 特許庁
SUSCEPTOR FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS例文帳に追加
半導体製造装置用サセプタ - 特許庁
SUSCEPTOR FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS例文帳に追加
半導体製造装置用サセプター - 特許庁
SUSCEPTOR AND PLASMA PROCESSING DEVICE例文帳に追加
サセプタ及びプラズマ処理装置 - 特許庁
SUSCEPTOR AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
サセプタ及びその製造方法 - 特許庁
SUSCEPTOR AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
サセプタおよびその製造方法 - 特許庁
In a susceptor 20 for mounting thereon a semiconductor wafer W, a susceptor supporting member 8 is provided for supporting the susceptor 20 by contacting it with the rear surface of the susceptor 20.例文帳に追加
半導体ウェーハWを搭載するサセプタ20には、裏面に当接してこれを支持するサセプタ支持部材8が設けられる。 - 特許庁
SUSCEPTOR FOR SILICON WAFER例文帳に追加
シリコンウェーハ用サセプタ - 特許庁
SUSCEPTOR DRIVE AND WAFER DISPLACEMENT MECHANISM例文帳に追加
サセプタ駆動及びウエハ変位機構 - 特許庁
SUSCEPTOR AND VAPOR PHASE GROWTH APPARATUS例文帳に追加
サセプタ及び気相成長装置 - 特許庁
VAPOR PHASE EPITAXY APPARATUS AND SUSCEPTOR例文帳に追加
気相成長装置及びサセプタ - 特許庁
CERAMIC SUSCEPTOR SUPPORTING STRUCTURE例文帳に追加
セラミックサセプターの支持構造 - 特許庁
ASYMMETRIC GROUNDING OF RECTANGULAR SUSCEPTOR例文帳に追加
矩形サセプタの非対称な接地 - 特許庁
SUSCEPTOR AND SURFACE TREATMENT METHOD例文帳に追加
サセプタおよび表面処理方法 - 特許庁
SUSCEPTOR AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加
サセプター及びその製法 - 特許庁
SUSCEPTOR FOR VAPOR PHASE EPITAXY例文帳に追加
気相成長用サセプタ - 特許庁
SUSCEPTOR OF VAPOR PHASE GROWTH SYSTEM例文帳に追加
気相成長装置のサセプタ - 特許庁
SUSCEPTOR FOR VAPOR-PHASE GROWTH DEVICE例文帳に追加
気相成長装置用のサセプタ - 特許庁
SUSCEPTOR, AND VAPOR DEPOSITION DEVICE例文帳に追加
サセプタおよび気相成長装置 - 特許庁
SUSCEPTOR FOR VAPOR-PHASE EPITAXIAL GROWTH DEVICE例文帳に追加
気相成長装置用サセプタ - 特許庁
SUSCEPTOR FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加
化学気相成長用サセプタ - 特許庁
MANUFACTURE OF SUSCEPTOR, AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE USING THE SUSCEPTOR例文帳に追加
サセプタの製造方法およびそのサセプタを用いた基板処理装置 - 特許庁
The susceptor has a susceptor 6 as a thin film body and a support member 7.例文帳に追加
サセプタは、薄膜体としてのサセプタ6と支持部材7とを備える。 - 特許庁
SUSCEPTOR COVER, VAPOR-PHASE GROWTH APPARATUS EQUIPPED WITH SUSCEPTOR COVER例文帳に追加
サセプタカバー、該サセプタカバーを備えた気相成長装置 - 特許庁
The vapor-phase deposition apparatus has a susceptor as a rotating/revolving susceptor.例文帳に追加
気相成長装置は、自公転サセプタとしてのサセプタを備える。 - 特許庁
The vapor phase growth system comprises a susceptor 1 having an inner susceptor 11, and an outer susceptor 12 interposing a gap P between itself and the inner susceptor 11 so as to accommodate the inner susceptor movable up and down.例文帳に追加
インナサセプタ11と、このインナサセプタを相対的に昇降可能に収容すべく当該インナサセプタ11との間に隙間Pが設けられたアウタサセプタ12とを備えるサセプタ1を有して気相成長装置を構成する。 - 特許庁
A susceptor 2 composing the production apparatus is composed of a first susceptor 21 and a second susceptor 22, and, in a state where the first susceptor 21 and the second susceptor 22 are combined, a prescribed gap is formed between the susceptors 21, 22.例文帳に追加
製造装置を構成するサセプタ2は、第1サセプタ21および第2サセプタ22で構成され、第1サセプタ21および第2サセプタ22を組み合わせた状態で各サセプタ21,22間に所定の隙間が形成される。 - 特許庁
Thus, the self-weight of the susceptor is not loaded perpendicular to the main surface of the susceptor, but loaded in the extending direction of the main surface of the susceptor, and the susceptor is not deflected by its self-weight, and the susceptor excellent in flatness is manufactured.例文帳に追加
したがって、サセプタの自重は、サセプタの主表面に垂直に負荷されず、サセプタの主表面が延びる方向に負荷されるので、サセプタが自重で撓むことがなく、平坦度の優れたサセプタが製造される。 - 特許庁
The susceptor 14A is supported by a susceptor support shaft 15, by the periphery as well as positioned by the susceptor support shaft 15.例文帳に追加
サセプタ14Aは、サセプタ支持シャフト15Aによりその周縁部のみが支持され、かつ位置決めされている。 - 特許庁
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