「basic compound」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

A polyolefin resin composition comprises adding 0.5-50 pts.wt. of a polymer compound having an ether group in a basic molecular skeleton to 100 pts.wt. of a polyolefin resin, and a monolayer or a multi-layer is made using the said polyolefin resin composition and the monolayer or multi-layer molding product is made using the said polyolefin resin composition.例文帳に追加

ポリオレフィン系樹脂１００重量部に対して、基本分子骨格内にエーテル基を有する高分子化合物０．５〜５０重量部が添加されてなることを特徴とするポリオレフィン系樹脂組成物、及び、上記ポリオレフィン系樹脂組成物を用いて製せられていることを特徴とする単層もしくは多層シート及び上記ポリオレフィン系樹脂組成物を用いて製せられていることを特徴とする単層もしくは多層成形品。 - 特許庁

The developer contains toner particles obtained using a dispersion comprising a solvent, a particulate mixture containing a binder resin and a colorant, dispersed in the solvent, and a combination of a surfactant and a basic compound or a combination of a sulfonic surfactant and a polycarboxylic acid surfactant as an additive for dispersing the mixture, wherein the additive remaining in the developer is within a predetermined range.例文帳に追加

溶媒と、該溶媒中に分散された、バインダー樹脂及び着色剤を含有する粒状の混合物、混合物を分散させるための添加剤として、界面活性剤及び塩基性化合物の組合せ、あるいはスルホン系界面活性剤及びポリカルボン酸界面活性剤の組合せを含む分散液を用いて得られたトナー粒子を含む現像剤であって、現像剤中に残留する上記添加剤が所定の範囲内である現像剤。 - 特許庁

This aqueous resin composition for a coating for can manufacturing comprises a thermosetting aqueous resin dispersion obtained by carrying out radical polymerization of an aqueous dispersion prepared by dispersing a mixture of ethylenically unsaturated monomers in an aqueous medium using an aqueous acrylic polymer having carboxy groups and cross-linking functional groups other than the carboxy groups in the presence of an aqueous resin having carboxy groups and obtained by neutralizing a part or all of the carboxy groups with a basic compound.例文帳に追加

カルボキシル基およびカルボキシル基以外の架橋性官能基を有する水性アクリル重合体を用いて、エチレン系不飽和単量体の混合物を水性媒体中に分散させた水性分散液を、カルボキシル基を有し、カルボキシル基の一部ないし全部を塩基性化合物で中和して得られる水性樹脂の存在下でラジカル重合させて得られる熱硬化性水性樹脂分散体を含んでなる製缶塗料用水性樹脂組成物。 - 特許庁

A dielectric antenna 1 comprises: a dielectric block 2; a radiation electrode 3 formed on the dielectric block 2; a feeding terminal 4 electrically connected to the radiation electrode 3, and a grounding terminal 5 electrically connected to the radiation electrode 3, wherein the dielectric block 2 is made out of a compound dielectric material containing a basic ceramic powder, an olefin thermoplastic elastomer, and an acid-modified styrene thermoplastic elastomer.例文帳に追加

誘電体ブロック２と、誘電体ブロック２上に形成された放射電極３と、放射電極３に電気的に接続された給電端子４と、放射電極３に電気的に接続された接地端子５と、を備える誘電体アンテナ１において、誘電体ブロック２を、塩基性セラミック粉末と、オレフィン系熱可塑性エラストマーと、酸変性スチレン系熱可塑性エラストマーと、を含有する複合誘電体材料で構成する。 - 特許庁

The semiconductor wafer polishing composition uses an active silic acid solution obtained by removing alkali from a silic acid alkaline solution, and colloidal silica formed of a nitrogen containing basic compound composed of one kind or more of ethylenediamine, diethylenediamine, imidazole, methyl imidazole, piperidine, morpholine, arginine, and hydrazine as main components, and contains a quaternary ammonium hydroxide, whereby pH at 25°C is prepared to 8.5-11.0.例文帳に追加

珪酸アルカリ水溶液からアルカリを除去して得られた活性珪酸水溶液と、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、イミダゾール、メチルイミダゾール、ピペリジン、モルホリン、アルギニンおよびヒドラジンのいずれか１種類以上である窒素含有塩基性化合物によって製造されるコロイダルシリカを主成分とし、水酸化第４アンモニウムを含有することで、２５℃におけるｐＨが８．５〜１１．０に調製されていることを特徴とする半導体ウエハ研磨用組成物。 - 特許庁