「impedance matching box」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

While the impedance- matching circuit 3 for matching the high frequency output impedance of the high frequency output device 1 to the impedance of the high frequency-using unit 2 is provided, the ground of the impedance-matching circuit 3 and the metal shielding box 4 covering the high frequency-using unit 2, are connected electrically.例文帳に追加

高周波出力器１の高周波の出力インピーダンスと高周波利用部２のインピーダンスを整合させるためのインピーダンス整合回路３を備えると共にインピーダンス整合回路３のグラウンドと高周波利用部２を覆う金属製のシールドボックス４とを電気的に接続する。 - 特許庁

The noise current inducted to the shielding box 4 can be returned to the ground of the impedance-matching circuit 3.例文帳に追加

シールドボックス４に誘導したノイズ電流をインピーダンス整合回路３のグランドに帰還させることができる。 - 特許庁

One matching box 7 for matching the impedance between the cathode-anode electrodes 2, 4 and the power supply 8 is arranged between the power supply 8 and the chamber 3.例文帳に追加

電源８とチャンバー３との間には、カソード・アノード電極２，４および電源８の間のインピーダンスを整合する１個のマッチングボックス７が配設されている。 - 特許庁

In this case, on at least one side of the first electrode and the second electrode, a matching box is provided to perform phase and impedance matching.例文帳に追加

この際、第１電極又は第２電極の少なくとも一方の側には、マッチングボックスが備えられており、位相及びインピーダンスマッチングが行われる。 - 特許庁

In a matching box 2 used for the vacuum device 1, impedance can be changed by changing values of inductances of variable inductance elements 31 and 35.例文帳に追加

本発明の真空装置１に用いられているマッチングボックス２は、可変インダクタンス素子３１、３５のインダクタンスの値を変更することで、インピーダンスを変えられるようになっている。 - 特許庁

High-frequency output power from a high-frequency power source 1 is supplied to a current splitter 3 via an impedance matching box 2; and a plurality of output currents from the current splitter 3 are supplied to a plurality of electrodes 4.例文帳に追加

高周波電源１からの高周波出力をインピーダンス整合器２を介して電流スプリッタ３に供給し、電流スプリッタ３からの複数の出力電流を複数の電極４に供給している。 - 特許庁

The plasma treatment equipment containing a chamber 10 or the like is measured under the state in which an impedance measuring instrument is connected at a node N1 and a path for a matching box 15 is interrupted.例文帳に追加

例えば、インピーダンス測定器をノードＮ１に接続し、マッチングボックス１５の経路を遮断した状態でチャンバ１０等を含むプラズマ処理装置を計測する。 - 特許庁

To provide a thin film manufacturing apparatus capable of supplying the high power of the high frequency range while suppressing the cost of the apparatus, enhancing the film deposition working efficiency while reliably forming the thin film of the excellent film thickness distribution, and sufficiently ensuring the installation space of an impedance matching box while suppressing the thickness of a shield body.例文帳に追加

装置コストを抑制しつつ、高い周波数域の高電力を給電できるとともに、良好な膜厚分布の薄膜形成を保持しながら成膜作業能率を向上させ、シールド体の厚みを抑えてインピーダンス整合器の設置スペースを十分に確保できる薄膜製造装置を提供する。 - 特許庁

In a plasma deposition device for depositing a sputtered target material on a substrate, capacitance in an impedance-matching box for an RF coil is varied during the deposition process in such a manner that heating of the RF coil and the substrate and the film deposition become more uniform according to "time-averaging" of the RF voltage distribution along the RF coil.例文帳に追加

スパッタされたターゲット材料を基板上に堆積させるためのプラズマ堆積装置において、ＲＦコイルのインピーダンス整合ボックス内のキャパシタンスを、堆積プロセス中に、ＲＦコイルと基板の加熱、及び薄膜の堆積が、ＲＦコイルに沿ったＲＦ電圧分布の「時間平均」によってより均一になるように、変化させる。 - 特許庁