indiumを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 1948件
INDIUM OXIDE THIN FILM AND ITS MANUFACTURE例文帳に追加
酸化インジウム薄膜及びその製造方法 - 特許庁
The indium-containing layer is relaxed with a succeeding AlInGaN epitaxy.例文帳に追加
後続のAlInGaNエピタキシでインジウム含有層が弛緩する。 - 特許庁
INDIUM TARGET AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF例文帳に追加
インジウムターゲット及びその製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING TIN-DOPED INDIUM OXIDE PARTICULATE例文帳に追加
スズドープ酸化インジウム微粒子の製造方法 - 特許庁
INDIUM OXIDE FILM LAMINATE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
酸化インジウム膜積層体及びその製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING INDIUM-TIN OXIDE SINTERED COMPACT例文帳に追加
インジウム−錫酸化物焼結体の製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF INDIUM PHOSPHIDE NANO STRUCTURE例文帳に追加
リン化インジウムナノ構造物の製造方法 - 特許庁
TIN-DOPED OXIDE INDIUM POWDER AND ITS MANUFACTURE例文帳に追加
スズドープ酸化インジウム粉とその製造方法 - 特許庁
INDIUM OXIDE-CONTAINING GLASS AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
酸化インジウム含有ガラスおよびその製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING INDIUM TIN OXIDE FILM例文帳に追加
酸化インジウムスズ膜の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR RECOVERING AND REFINING INDIUM例文帳に追加
インジウムの回収及び精製方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING INDIUM OXIDE-BASED SPUTTERING TARGET例文帳に追加
酸化インジウム系スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁
INDIUM HYDROXIDE-BASED POWDER PRODUCTION METHOD例文帳に追加
水酸化インジウムを主成分とする粉末の製造方法 - 特許庁
METHOD OF INCREASING SPECIFIC RESISTANCE OF TIN-DOPE INDIUM OXIDE FILM例文帳に追加
スズドープ酸化インジウム膜の高比抵抗化方法 - 特許庁
METHOD OF SEPARATING AND RECOVERING TARGET WASTE MATERIAL AND INDIUM例文帳に追加
ターゲット廃材とインジウムの分離回収方法。 - 特許庁
METHOD FOR RECOVERING INDIUM UTILIZING TIN REFINING OR THE LIKE例文帳に追加
スズ製錬等を利用したインジウムの回収方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING INDIUM FLUORIDE COMPLEX SALT例文帳に追加
フッ化インジウム錯塩の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING INDIUM-CONTAINING METAL例文帳に追加
インジウム含有メタルの製造方法 - 特許庁
Further, the sintered compact may contain indium oxide.例文帳に追加
さらに、酸化インジウムを含有することができる。 - 特許庁
PROCESS FOR MANUFACTURING INDIUM OXIDE FINE PARTICLE例文帳に追加
酸化インジウム微粒子の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR RECOVERING INDIUM, AND ITS USE例文帳に追加
インジウム回収方法とその用途 - 特許庁
To provide a method for separating indium from tin, which adequately extracts and separates indium from tin in a solution containing indium and tin by using an organic solvent, and to provide a method for separating indium from tin and recovering both.例文帳に追加
インジウムとスズを含む溶液から有機溶媒を用いてインジウムとスズを分離性良く抽出する分離方法ないし分離回収方法を提供する。 - 特許庁
INDIUM OXIDE-BASE PARTICLE, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND THEIR USE例文帳に追加
酸化インジウム系粒子、その製造方法および用途 - 特許庁
INDIUM-OXIDE-BASED TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加
酸化インジウム系ターゲットおよびその製造方法 - 特許庁
METHOD OF PRODUCING INDIUM-CONTAINING AQUEOUS SOLUTION例文帳に追加
インジウム含有水溶液の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR TREATING INDIUM-CONTAINING SOLUTION例文帳に追加
インジウム含有溶液の処理方法 - 特許庁
1 Serum indium concentration & serum KL-6 value例文帳に追加
1血清インジウム濃度及び血清KL-6値について - 厚生労働省
To provide a new method for producing an indium-containing metal by which indium is highly efficiently obtained in high yield, with the use of, as a starting material, an indium-containing solution prepared by dissolving in acid or the like, an indium-containing material obtained by the recovery of the indium being scattered during the manufacture of an ITO thin film.例文帳に追加
ITO薄膜製造時に飛散したインジウムを回収して得られるインジウム含有物を酸などで溶解して得られるインジウム含有溶液を出発原料として、インジウムを効率良く高収率で得ることができる新たなインジウム含有メタルの製造方法を提供する。 - 特許庁
The method for recovering the indium from the indium-containing material containing the indium and the metals other than the indium comprises a leaching process, in which the indium is leached in solution containing sulfuric acid and the sulfuric acid concentration in the indium leaching solution is defined as 35-80 g/L.例文帳に追加
インジウムと前記インジウム以外の金属とを含むインジウム含有物から、インジウムを回収する方法において、前記インジウムを硫酸を含む溶液中に浸出させる浸出工程を含み、インジウム浸出液の硫酸濃度を35〜80g/Lとした、インジウム含有物からインジウムを回収する方法である。 - 特許庁
To provide an indium-tin nanowire in which conventional problems are corrected, and solid-solution of a prescribed amount of tin into an indium nanowire is uniformly carried out, an indium-tin oxide (ITO) nanowire formed by oxidizing the indium-tin nanowire, and to provide a method for easily and inexpensively producing the indium-tin nanowire and indium-tin oxide (ITO) nanowire.例文帳に追加
従来からの問題を是正した、インジウムナノワイヤに錫を所定量、均一に固溶させたインジウム−錫ナノワイヤ、およびこのインジウム−錫ナノワイヤを酸化して形成するインジウム−錫酸化物(ITO)ナノワイヤの提供と、このインジウム−錫ナノワイヤとインジウム−錫酸化物(ITO)ナノワイヤを簡便にかつ安価に製造する製造方法を提供する。 - 特許庁
The method for producing an indium-containing metal comprises: mixing an indium-containing solution with oxalic acid as a precipitating agent to form a precipitate of indium oxalate; recovering the precipitate through solid-liquid separation; dissolving the precipitate in an acid to form a solution; inserting an aluminum plate into the solution to form sponge indium by substitution with aluminum; and then subjecting the sponge indium to alkaline casting to prepare an indium-containing metal.例文帳に追加
インジウム含有溶液に、沈殿剤としてシュウ酸を混合することによりシュウ酸インジウムの沈殿物を生成させ、この沈殿物を固液分離により回収し、この沈殿物を酸に溶解させて酸溶解液とし、酸溶解液中にアルミ板を入れてアルミニウムとの置換反応によりスポンジインジウムを生成させ、これをアルカリ熔鋳してインジウム含有メタルを得る。 - 特許庁
RECOVERY DEVICE OF OXALATE ION FROM INDIUM OXALATE AQUEOUS SOLUTION AND RECOVERY METHOD OF OXALATE ION FROM INDIUM OXALATE AQUEOUS SOLUTION例文帳に追加
シュウ酸インジウム水溶液からのシュウ酸イオンの回収装置、及びシュウ酸インジウム水溶液からのシュウ酸イオンの回収方法 - 特許庁
An indium composition of the first semiconductor layer 9a is smaller than an indium composition of the second semiconductor layer 11a.例文帳に追加
第1の半導体層9aのインジウム組成は、第2の半導体層11aのインジウム組成より小さい。 - 特許庁
In the method for producing indium organic carboxylate, an indium alkoxide is reacted with an anhydrous organic carboxylic acid.例文帳に追加
インジウムアルコキシドと有機カルボン酸無水物とを反応させる有機カルボン酸インジウムの製造方法である。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING INDIUM PHOSPHORUS SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING EPITAXIAL WAFER, INDIUM PHOSPHORUS SUBSTRATE AND EPITAXIAL WAFER例文帳に追加
インジウムリン基板の製造方法、エピタキシャルウエハの製造方法、インジウムリン基板およびエピタキシャルウエハ - 特許庁
METHOD FOR FORMING FLAT INDIUM TIN OXIDE LAYER ON SUBSTRATE, SUBSTRATE COATING AND ORGANIC LIGHT EMITTING DIODE OF INDIUM TIN OXIDE例文帳に追加
基板上に平坦なインジウムスズ酸化物層を生成するための方法、インジウムスズ酸化物の基板コーティングおよび有機発光ダイオード - 特許庁
The copper indium diselenide (CIS)-based photovoltaic device includes a CIS-based solar absorber layer including copper, indium, and selenium.例文帳に追加
銅インジウム二セレン化物(CIS)をベースとする光起電デバイスが、銅、インジウムおよびセレンを含むCISをベースとする太陽光吸収体層を備える。 - 特許庁
The substrate 1 consists of an indium- tin oxide, for example, or a flurine-doped indium-tin oxide.例文帳に追加
透明基板1は、例えばインジウム錫オキサイド、又はフッ素をドープしたインジウム錫オキサイドからなる。 - 特許庁
METHOD FOR DEPOSITING INDIUM ZINC OXIDE FILM AND INDIUM TIN OXIDE FILM PATTERNED BY MICRO-CONTACT PRINTING例文帳に追加
マイクロコンタクト・プリンティングによるパターン化されたインジウム亜鉛酸化物フィルムおよびインジウムすず酸化物フィルムの形成方法 - 特許庁
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