「layout inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

Taking into consideration physical information of a mask pattern within a chip and the actual results of cells or functional blocks, sorting 1303 failures and weighting of failures are carried out, and a failure inspection 1306 with high precision and high efficiency based on an actual failure or a layout is carried out.例文帳に追加

チップ内におけるマスクパターンの物理的な情報、また、セルや機能ブロックの実績を考慮して、故障の起こりやすさの順番づけ１３０３及び故障の重みづけを行ない、実際の故障に基づく高精度かつ高効率の故障検査１３０６やレイアウトを行なう。 - 特許庁

The flaw inspection device is provided with a photographing device unit 10, which is constituted of a distribution optical system 15, the photographing device 11 serving as a reference, and one or more photographing devices 12, 13 and 14 turned at an arbitrary angle, an image layout device 20, a flaw detector 21, and a flaw position output device 22.例文帳に追加

欠陥検査装置において分配光学系１５と、基準となる撮像装置１１と、任意角度を回転させた１以上の撮像装置１２、１３、１４とから構成される撮像装置部１０、画像割付装置２０、欠陥検出装置２１、欠陥位置出力装置２２を具備すること。 - 特許庁

To carry out failure inspection with high precision or high efficiency based on an actual failure or carry out layout in consideration of physical information of a mask pattern and the actual results of cells or functional blocks within a chip of a semiconductor integrated circuit, to contribute to reduction of failures such as initial failures, etc.例文帳に追加

半導体集積回路のチップ内におけるマスクパターンの物理的な情報、セルや機能ブロックの実績を考慮し、実際の故障に基づく高精度かつ高効率の故障検査やレイアウトを行なう事を可能として、初期不良などの故障の低減に寄与できるようにする。 - 特許庁

To provide a program creation device for changing layout in displaying a camera image and a measurement result on the display of an image processing controller, and for switching a display pattern on a display according to the decision result of the validity/invalidity of an inspection object.例文帳に追加

画像処理コントローラのディスプレイ上にカメラ画像及び計測結果を表示させる際のレイアウトが変更でき、検査対象物の良否の判定結果に応じてディスプレイ上の表示パターンを切り替えることができるプログラム作成装置を提供する。 - 特許庁

The system and method enumerate a set of variables and pattern intervals to construct (109) an inspection structure and analyze a series of layout patterns according to design rules by simulation (115) using a lithography model to obtain a partition of the pattern spaces into one portion 133 that requires only rule-based OPC and another portion 131 that requires model-based OPC.例文帳に追加

本システムおよび方法は、パターン空間の、ルールベースＯＰＣのみを必要とする部分１３３と、モデルベースＯＰＣを必要とする別の部分１３１との区分を得るために、リソグラフィ・モデルを用いたシミュレーション１１５によって、設計ルールしたがって変数値とパタン間隔の集合を列挙して検査構造を構築し１０９、一連のレイアウト・パターンを分析する。 - 特許庁