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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > layout inspectionの意味・解説 > layout inspectionに関連した英語例文

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layout inspectionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 56



例文

LAYOUT PATTERN INSPECTION DEVICE, AND LAYOUT PATTERN INSPECTION METHOD例文帳に追加

レイアウトパターン検査装置およびレイアウトパターンの検査方法 - 特許庁

LAYOUT DATA SAVING METHOD, LAYOUT DATA CONVERSION DEVICE AND FIGURE INSPECTION DEVICE例文帳に追加

レイアウトデータの保存方法、レイアウトデータ変換装置、及び図形検証装置 - 特許庁

METHOD FOR VERIFYING OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION USING LAYOUT-TO-LAYOUT INSPECTION METHOD例文帳に追加

レイアウト対レイアウト検査方法を用いた光学近接効果補正の検証方法 - 特許庁

PLATE INSPECTION APPARATUS, PRINTING SYSTEM, PLATE INSPECTION METHOD OF LAYOUT DATA AND PROGRAM例文帳に追加

検版装置、印刷システム、レイアウトデータの検版方法、およびプログラム - 特許庁

例文

INSPECTION APPARATUS, PROGRAM ALTERATION DETECTOR, AND METHOD OF SPECIFYING MEMORY LAYOUT例文帳に追加

検査装置、プログラム改ざん検出装置、メモリレイアウト特定方法 - 特許庁


例文

To flexibly change an image layout in an image inspection system.例文帳に追加

画像検査システムにおける画像レイアウトを柔軟に変更する。 - 特許庁

To provide a layout pattern inspection device capable of easily observing a dangerous place caused by a design layout.例文帳に追加

設計レイアウトに起因する危険箇所を容易に観察可能なレイアウトパターン検査装置を得ること。 - 特許庁

CHARGED PARTICLE BEAM-DRAWING DEVICE, PATTERN INSPECTION DEVICE AND LAYOUT DISPLAYING METHOD例文帳に追加

荷電粒子ビーム描画装置およびパターン検査装置並びにレイアウト表示方法 - 特許庁

To provide an inspection apparatus capable of easily coping with even the layout change in an assembly line by increasing the inspection efficiency.例文帳に追加

検査の効率を上げ、組立ラインのレイアウト変更にも容易に対応できる検査装置を提供する。 - 特許庁

例文

To realize a layout verifying device capable of automatically verifying and displaying the arrangement situation of a layout element in which a pair property is required, reducing the inspection time and preventing an inspection omission.例文帳に追加

ペア性が要求されるレイアウト素子の配置状況を自動的に検証して表示することができ、検査時間を削減し、検査漏れを防止することができるレイアウト検証装置の実現を課題とする。 - 特許庁

例文

Defects information is added with an image at the time of inspection, and then is corrected for an amount of positional deviation between image information and layout information.例文帳に追加

また、欠陥情報に検査時の画像を付加し、画像情報と設計情報との位置ずれ量で補正する。 - 特許庁

Concerning the wiring, with which the space width or metal punch area does not satisfy the specifications in inspection, the layout thereof is corrected so that the specifications can be satisfied.例文帳に追加

検査においてスペース幅又はメタル抜き面積が規定を満たさなかった配線に対しては、該規定を満たすようにそのレイアウトを修正する。 - 特許庁

To set an image inspection system by flexibly changing an image layout in response to the length of a character string.例文帳に追加

文字列の長さに応じて柔軟に画像レイアウトを変更して画像検査システムの設定を行う。 - 特許庁

To provide a method for verifying optical proximity effect correction using a layout-to-layout inspection method that enables accurate and precise inspection of differences between an original design of a semiconductor device and a revised design of the semiconductor device and verification of accuracy of the optical proximity effect correction by considering exposure conditions.例文帳に追加

露光条件を考慮することで、半導体の原デザインと半導体の修正デザインとの間の差異点及び光学近接効果補正の正確度を正確かつ精密に検査できるレイアウト対レイアウト検査方法を用いた光学近接効果補正の検証方法を提供する。 - 特許庁

This system includes a function for easily forming and altering the internal layout drawing of an inspection chamber on the system screens of the operation parts and includes a function for arranging the prepared parts of the operation parts of respective analyzers at the same positions as the present installation places of the operation parts of the respective analyzers, and forming and altering the screen of the layout drawing equal to the present layout drawing in the inspection chamber.例文帳に追加

本発明は、操作部のシステム画面に、検査室内のレイアウト図を容易に作成・変更する機能を備え、用意された各分析装置・操作部のパーツを、現在の各分析装置・操作部の設置場所と同位置に配置していき現在の検査室内と同等のレイアウト図画面を作成・変更していく機能を有することを特徴とする。 - 特許庁

The inspection tool includes a layout display section 40 that displays a layout which the wire harness body 10 should be placed on a placement table 31 on which the wire harness W is placed; and a plurality of component position display sections 80, 80, ..., that respectively displays predetermined positions of the components 21 to 27 when the wire harness body 10 is placed on the layout displayed by the layout display section 40.例文帳に追加

ワイヤハーネスWが載置される載置台31上に、ワイヤハーネス本体10が配置されるべきレイアウトを表示するレイアウト表示部40と、このレイアウト表示部40の表示するレイアウト上にワイヤハーネス本体10が配置されたときの各部品21〜27の所定位置をそれぞれ表示する複数の部品位置表示部80,80,…とを備えるようにする。 - 特許庁

To provide an assorting system improved in quality inspection accuracy and the elimination of quality inspection, improved in working efficiency by facilitating a change in layout, and facilitated in an increase of a distribution shelf and transfer to a different place.例文帳に追加

検品精度の向上及び検品レスを実現すると共にレイアウトの変更を容易にし作業効率を向上し、配分棚の増加や違う場所への移設も容易なアソートシステムを提供する。 - 特許庁

An image processing means 21 is constituted so as to form an image wherein the image acquired in a flaw inspection device 1 and plan data or layout data acquired from the inspection of a reticle are superposed one upon another.例文帳に追加

欠陥検査装置1において取得された画像と、設計データあるいはレチクル検査から取得されるレイアウトデータとを重ね合わせた画像を画像処理手段21が生成する。 - 特許庁

An inspection state processing program reads out wafer information from a wafer (step 1), reads out inspection result data (step 2), reads out a layout file name and a mask name from mask corresponding data (step 3), and reads out corresponding inferiority probability data (step 4).例文帳に追加

ウェーハからウェーハ情報を読み出し(ステップ1)、検査結果データを読み出し(ステップ2)、マスク対応データからレイアウトファイル名とマスク名を読み出し(ステップ3)、対応する不良確率データを読み出す(ステップ4)。 - 特許庁

The failure analysis device 10 comprises: an inspection information acquisition section 11 for acquiring the failure observation image P2 of the semiconductor device; a layout information acquisition section 12 for acquiring layout information; and a failure analysis section 13 for analyzing failure in the semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの不良観察画像P2を取得する検査情報取得部11と、レイアウト情報を取得するレイアウト情報取得部12と、半導体デバイスの不良についての解析を行う不良解析部13とによって不良解析装置10を構成する。 - 特許庁

A first path length calculating unit 12 of the layout inspection apparatus 100A calculates a first path length, which is the shortest conduction path from a power supply pin to a bypass capacitor, based on layout information stored in a storage unit 3.例文帳に追加

レイアウト検査装置100Aの第1の経路長算出部12は、記憶部3に記憶されたレイアウト情報に基づいて電源ピンからバイパスコンデンサに至る最短の導電経路の長さである第1の経路長を算出する。 - 特許庁

The failure analysis device 10 comprises: an inspection information acquisition section 11 for acquiring the fail observation image P2 of the semiconductor device; a layout information acquisition section 12 for acquiring layout information; and a failure analysis section 13 for analyzing fail.例文帳に追加

半導体デバイスの不良観察画像P2を取得する検査情報取得部11と、レイアウト情報を取得するレイアウト情報取得部12と、不良解析を行う不良解析部13とによって不良解析装置10を構成する。 - 特許庁

The failure analysis device 10 comprises: an inspection information acquisition section 11 for acquiring the failure observation image P2 of the semiconductor device; a layout information acquisition section 12 for acquiring layout information; and a failure analysis section 13 for analyzing failure.例文帳に追加

半導体デバイスの不良観察画像P2を取得する検査情報取得部11と、レイアウト情報を取得するレイアウト情報取得部12と、不良解析を行う不良解析部13とによって不良解析装置10を構成する。 - 特許庁

A defect analyzing apparatus 10 comprises an inspection information acquirer 11 for acquiring a defect observation image P2 in a semiconductor device, a layout information acquirer 12 for acquiring layout information, and a defect analyzer 13 for analyzing a defect.例文帳に追加

半導体デバイスの不良観察画像P2を取得する検査情報取得部11と、レイアウト情報を取得するレイアウト情報取得部12と、不良解析を行う不良解析部13とによって不良解析装置10を構成する。 - 特許庁

Priority order of mask inspection accuracy is decided for an element graphic, included in layout data from net list information (differential pair circuit and current mirror circuit) of a quality priority circuit which is extracted by a quality priority circuit net list extracting device 3, and layout information (row/column/array structure) of the quality priority circuit which is extracted by a quality priority circuit layout extracting device 5.例文帳に追加

品質優先回路ネットリスト抽出装置3で抽出した品質優先回路のネットリスト情報(差動対回路、カレントミラー回路)と品質優先回路レイアウト抽出装置5で抽出した品質優先回路のレイアウト情報(行/列/アレイ構造)から、レイアウトデータに含まれる素子図形に対してマスク検査精度の優先順位を決定する。 - 特許庁

To provide a submerged pump capable of being miniaturized and lightweight and facilitating inspections for a water leak into a motor and water leak detector, and a layout of an inspection port and facilitating inspections for a lubricant inspection chamber inspecting lubricant of the mechanical seal, a layout of a lubricant pouring port for pouring the lubricant, and the lubricant when using the mechanical seal on a motor shaft sealing section.例文帳に追加

小型化及び軽量化が可能で、モータ内部への漏水や漏水検知器の点検及び点検口の配置が容易で、更にモータ軸封部にメカニカルシールを用いた場合、メカニカルシールの潤滑油を点検する潤滑油点検室並び該潤滑油を注入する潤滑油注油口の配置及び潤滑油の点検が容易な水中ポンプを提供すること。 - 特許庁

The semiconductor device S is inspected in a bias-free state using electromagnetic waves generated by the irradiation of pulse laser beams, an inspection range is set by referring to layout information for the semiconductor device S, and two-dimensional scanning is performed by inspection light L1 of the pulse laser beams within the range.例文帳に追加

半導体デバイスSに対し、パルスレーザ光の照射によって発生する電磁波を利用して無バイアス状態で検査を行うとともに、半導体デバイスSのレイアウト情報を参照して検査範囲を設定し、その範囲内でパルスレーザ光の検査光L1による2次元走査を行う。 - 特許庁

To provide a technique to prevent the period of time required for making a design from becoming lengthened by an inspection that needs to be made backtracking in the final stage by causing a dummy pattern of high precision to occur and making an inspection of a coverage factor, at a stage prior to the layout pattern design of an LSI chip as a whole is determined.例文帳に追加

LSIチップ全体のレイアウトパターン設計が決定される前の段階で精度の高いダミーパターンの発生と被覆率の検証を行い、最終段階での検証による後戻りによって設計期間が長期化するのを防ぐための手法を提供する。 - 特許庁

(ii) a person who intends to file a request for the inspection or copying of the layout-design registry or a written application or drawings and other supporting materials attached thereto pursuant to the provision of paragraph (1) of the preceding Article. 例文帳に追加

二 前条第一項の規定により回路配置原簿又は申請書若しくはこれに添付した図面その他の資料の閲覧又は謄写を請求しようとする者 - 日本法令外国語訳データベースシステム

(iv) a person who intends to file a request for the inspection or copying of the layout-design registry or a written application or drawings and other supporting materials attached thereto pursuant to paragraph (1) of the preceding Article. 例文帳に追加

四 前条第一項の規定により回路配置原簿又は申請書若しくはこれに添付した図面その他の資料の閲覧又は謄写を請求しようとする者 - 日本法令外国語訳データベースシステム

The layout pattern includes a flagged critical region which corresponds to a critical region (256, 304) on a reticle or integrated circuit that is susceptible to special inspection or fabrication procedures.例文帳に追加

そのレイアウトパターンは、特殊な検査処理や製造処理を実行すべきレチクル上または集積回路上のクリティカル領域(256,304)に対応するフラグ付きクリティカル領域を含む。 - 特許庁

To improve the degree of freedom in layout, and to improve throughput and reduce costs in a substrate treating device for connecting the automatic inspection apparatus of a substrate.例文帳に追加

基板の自動検査装置を接続可能な基板処理装置において、レイアウトの自由度を向上させ、スループットの向上およびコスト削減を図る。 - 特許庁

The pad layout can be obtained as capable of wire bonding easily, and narrowing the pitch between the probe contacting regions, in which the probe needle is planted in the inspection process of semiconductor chips.例文帳に追加

ワイヤボンディングが容易に行うことができ、半導体チップ検査工程におけるプローブ針立てが行われるプローブ接触領域の狭ピッチ化が可能なパッドレイアウトが得られる。 - 特許庁

A logical circuit for inspection is provided according to a wiring layout structure of a semiconductor substrate of the liquid crystal display device and an end part of the data line is connected to the input of the logical circuit.例文帳に追加

液晶表示装置の半導体基板の配線レイアウト構造に応じて、検査用の論理回路を設け、この論理回路の入力に、データ線の端部を接続する。 - 特許庁

The calculated electric characteristics are displayed as a result of inspection, and fed back to the manufacturing process of a semiconductor device and the layout data of a mask.例文帳に追加

算出した電気的特性が検査結果として表示され、半導体装置の製造プロセスおよびマスクのレイアウトデータにフィードバックされる。 - 特許庁

To provide a pattern layout method for a photo-mask for pattern transfer by which a mask defect inspection is easily done with enhancement of resolving power contriving by providing auxiliary patterns.例文帳に追加

補助パターンを設けることによって解像力の向上を図りつつ、マスク欠陥検査が容易に行なえるパターン転写用フォトマスクのパターンレイアウト方法を提供する。 - 特許庁

To extract a partial circuit giving priority to mask inspection quality, such as, a differential pair circuit and a current mirror circuit, by combining it with regular information on element arrangement on a layout.例文帳に追加

レイアウト上での素子配置の規則性情報と組み合わせて、差動対回路やカレントミラー回路のようなマスク検査品質を優先する部分回路の抽出を図ること。 - 特許庁

To provide a layout inspection apparatus for more accurately determining whether a printed board is laid out to reduce noise generated at an IC.例文帳に追加

ICで発生したノイズを抑制することが可能なプリント基板のレイアウトとなっているか否かの判定を、従来よりも正確に行なうことができるレイアウト検査装置を提供する。 - 特許庁

The reference chip is compared with the pattern of the inspection chip, and a defect generation place where a pattern defect can be easily generated is specified in the layout (S3 to S5).例文帳に追加

リファレンスチップと検査チップのパターンを比較し、レイアウト内においてパターン欠陥が生じやすい欠陥発生箇所を特定する(S3〜S5)。 - 特許庁

To automatically design a plant while taking inspection and patrol for maintenance into account, thereby reducing a time to create a layout plan, and increasing the efficiency of maintenance work.例文帳に追加

本発明の目的は、メンテナンス時の点検巡回を考慮したプラント設計を自動的に実施し、配置計画立案時間を短縮し、メンテナンス作業も効率化することである。 - 特許庁

To improve visibility of a fork tip part by changing a layout of oil pressure piping and improve inspection and maintenance performance by changing a mounting position of a flow regulating valve.例文帳に追加

油圧配管のレイアウトを変更してフォーク先端部の視界性向上、及び流量調整弁の取付位置を変更して点検整備性等を向上する。 - 特許庁

To provide a layout edit apparatus, a computer program, and a recording medium capable of relieving of a working load of an operator for carrying out the inspection of printed matters even when QR code symbols or watermark embedded images are embedded to the printed matter.例文帳に追加

QRコードシンボルや透かし埋め込み画像が埋め込まれた印刷物であっても、検査を行う作業者の作業負荷を低減させることが可能なレイアウト編集装置、コンピュータプログラム、記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a foreign matter inspection device allowing inspection not to affect an unexposed colored layer, and not limiting greatly a layout and equipment constitution in a production line, in the foreign matter inspection device for detecting a foreign matter in the unexposed colored layer on a substrate for forming a color filter, before exposed by an exposure unit for carrying out proximity exposure.例文帳に追加

プロキシミティ露光を行う露光機で露光する前にカラーフィルタ形成用の基板上の未露光の着色層の異物を検知する異物検査装置で、未露光の着色層に影響しないように検査を行うことができ、且つ、製造ラインのレイアウトや機器構成にも制約を多く与えない異物検査装置を提供する。 - 特許庁

Finally, the inspection map is collated with each piece of data by performing a collation process 40, data coincident with the inspection map is searched among pieces of the data, the working area of the surface of the substrate is defined by the working area layout coincident with the inspection map, and the use classification of the substrates are confirmed and the substrates are sorted 46.例文帳に追加

最後に、照合プロセス40を行って検査マップとそれぞれデータとを照合し、データの中から検査マップに一致したデータを探し出し、また検査マップに一致した作用面積レイアウトにより基板表面の作用面積を定義し、進んで基板の使用類別を確認して分類46する。 - 特許庁

Article 48 (1) Any person may file a request to the Minister of Economy, Trade and Industry to issue a certified copy or an extract of the layout-design registry, or to allow the inspection or copying of the layout-design registry or a written application set forth in Article 3, paragraph (2) or drawings and other supporting materials attached thereto (excluding documents which the Minister of Economy, Trade and Industry considers it necessary to keep confidential). 例文帳に追加

第四十八条 何人も、経済産業大臣に対し、回路配置原簿の謄本若しくは抄本の交付又は回路配置原簿若しくは第三条第二項の申請書若しくはこれに添付した図面その他の資料(経済産業大臣が秘密を保持する必要があると認めるものを除く。)の閲覧若しくは謄写を請求することができる。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

The failure analysis apparatus 10 comprises an inspection information acquisition section 11 for acquiring at least a pattern image P1 of the semiconductor device, a layout information acquisition section 12 for acquiring a layout image P3, a failure analysis section 13 for the analysis of a failure of the semiconductor device, and an analysis screen display control section 14 for allowing a display device 40 to display information on the failure analysis.例文帳に追加

半導体デバイスのパターン画像P1を少なくとも取得する検査情報取得部11と、レイアウト画像P3を取得するレイアウト情報取得部12と、半導体デバイスの不良についての解析を行う不良解析部13と、不良解析についての情報を表示装置40に表示させる解析画面表示制御部14とによって不良解析装置10を構成する。 - 特許庁

This semiconductor device has two or more kinds of chips 110 and 120 formed on the same semiconductor wafer, and the two or more kinds of chips have at least one inspection region 330 consisting of the same layout pattern in every portion between respective chips, and the inspection region 330 is a region wherein the existence of the marking is inspected.例文帳に追加

半導体装置は、同一の半導体ウエハ上に形成された複数種類のチップ110,120を有し、複数種類のチップは、各チップ間で同一のレイアウトパターンからなる検査領域330を少なくとも一つずつ有し、検査領域330は、マーキングの有無を検査される領域である。 - 特許庁

An exposure mask to be inspected is used for carrying out pattern exposure to a reference chip under standard exposure conditions, the pattern exposure is carried out to a plurality of inspection chips by changing exposure conditions, and development treatment is made, thus manufacturing a first inspection wafer where the pattern with the same layout is formed in each chip (S1 to S2).例文帳に追加

検査を行う露光マスクを用いてリファレンスチップに対して標準の露光条件でパターン露光を行い、複数の検査チップに対して露光条件を変化させたパターン露光を行った後、現像処理を行うことで各チップに同一レイアウトのパターンを形成してなる第1検査ウエハを作製する(S1〜S2)。 - 特許庁

To provide a semiconductor device for providing the layout of a pad for an inspection and wiring accompanying it, which makes it possible to inspect all the terminals of bare chips, in the semiconductor device wherein the bare chips are mounted in high density.例文帳に追加

本発明の目的は、ベアチップが高密度実装されたような半導体装置において、ベアチップの全端子を検査することを可能にした検査用パッド及びそれに付随する配線のレイアウトを提供する半導体装置を実現することである。 - 特許庁

例文

To facilitate maintenance and inspection by opening and closing simply a panel provided on an oil supplying apparatus main body, to eliminate defective action of a nozzle switch and to make layout free by ensuring an enough space for arranging parts, etc.例文帳に追加

給油装置本体に設けるパネルを簡単に開閉して保守点検が容易になり、ノズルスイッチの作動不良をなくすことができ、部品等を配置する十分なスペースを確保してレイアウトを自由にできる給油装置のパネル構造を提供する。 - 特許庁

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※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。
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