例文 (881件) |
metal film depositionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 881件
METHOD FOR CLEANING METAL FILM DEPOSITION SYSTEM, AND METAL FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加
金属膜作製装置のクリーニング方法及び金属膜作製装置 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING METAL VAPOR DEPOSITION FILM AND METAL VAPOR DEPOSITION FILM例文帳に追加
金属蒸着フィルムの製造方法及び金属蒸着フィルム - 特許庁
LAYERED BODY FOR THIN FILM DEPOSITION USED FOR METAL THIN FILM DEPOSITION SYSTEM, AND METAL THIN FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加
金属薄膜形成装置に使用する薄膜形成用積層体、及び、金属薄膜形成装置 - 特許庁
VAPOR DEPOSITION METHOD FOR FORMING FILM OF METAL COMPOUND, AND VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加
金属化合物膜の蒸着方法及び蒸着装置 - 特許庁
FORMING METHOD OF METAL PROTECTIVE FILM, AND FILM-DEPOSITION SYSTEM OF METAL PROTECTIVE FILM例文帳に追加
金属保護膜の形成方法及び金属保護膜の成膜システム - 特許庁
METAL MULTI-LAYERED FILM STRUCTURE AND FILM DEPOSITION METHOD THEREFOR例文帳に追加
金属多層膜構造およびその成膜方法 - 特許庁
FILM DEPOSITION METHOD OF MIXED FILM OF METAL AND TITANIUM OXIDE AND FILM DEPOSITION APPARATUS OF THE MIXED FILM例文帳に追加
金属とチタン酸化物の混合膜の成膜方法及び同膜の成膜装置 - 特許庁
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF RUTHENIUM FILM FOR METAL ELECTRODE APPLICATION例文帳に追加
金属電極用のルテニウム膜の化学気相堆積 - 特許庁
MATTE ACRYLIC RESIN FILM FOR VAPOR DEPOSITION OF METAL例文帳に追加
金属蒸着用艶消しアクリル系樹脂フィルム - 特許庁
PREPARATION OF METAL SILICON NITRIDE FILM VIA CYCLIC DEPOSITION例文帳に追加
循環堆積による金属ケイ素窒化物膜の調製 - 特許庁
METAL FILM DEPOSITION METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND WIRING BOARD例文帳に追加
金属膜形成方法、半導体装置及び配線基板 - 特許庁
METHOD FOR FORMING METAL OXIDE FILM, AND PHYSICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE例文帳に追加
金属酸化膜の形成方法及び物理蒸着装置 - 特許庁
METAL VAPOR DEPOSITION FILM MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
金属蒸着フィルムの製造方法 - 特許庁
DEPOSITION METHOD OF FILM CONTAINING GROUP IV METAL例文帳に追加
第四族金属含有フィルムの堆積方法 - 特許庁
VAPOR-DEPOSITION MATERIAL OF METAL OXIDE, PRODUCTION METHOD THEREFOR, AND METHOD FOR PRODUCING VAPOR-DEPOSITION FILM OF METAL OXIDE例文帳に追加
金属酸化物蒸着材、その製造方法、および金属酸化物蒸着膜の製造方法 - 特許庁
TOOL FOR FILM DEPOSITION TREATMENT, PLASMA CVD SYSTEM, METAL PLATE, AND OSMIUM FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
成膜処理用治具、プラズマCVD装置、金属プレート及びオスミウム膜の成膜方法 - 特許庁
PRECURSOR COMPOUND FOR METAL OXIDE FILM DEPOSITION, AND METHOD OF FILM DEPOSITION USING THE SAME例文帳に追加
金属酸化物フィルム堆積用前駆体化合物及びそれを使用したフィルム堆積方法 - 特許庁
TREATMENT LIQUID FOR FORMING SELF-DEPOSITION COATING FILM ON METAL MATERIAL, AND TREATMENT METHOD FOR FORMING SELF-DEPOSITION COATING FILM例文帳に追加
金属材料の自己析出被膜処理液、および自己析出被膜処理方法 - 特許庁
RUST-PREVENTION TREATED METAL, COMPOSITION FOR RUST PREVENTIVE FILM DEPOSITION AND RUST PREVENTIVE FILM DEPOSITION METHOD USING SAME例文帳に追加
防錆処理金属、防錆皮膜形成用組成物およびそれを用いた防錆皮膜形成方法 - 特許庁
VOLATILE PRECURSOR FOR DEPOSITION OF METAL AND METAL- CONTAINING FILM例文帳に追加
金属及び金属含有フィルムの堆積のための揮発性先駆物質 - 特許庁
A base material 8 is arranged inside a vacuum chamber 1, and, film deposition of a metal part and film deposition of a resin part are performed to the base material 8 by vacuum film deposition.例文帳に追加
真空チャンバ1内に基材8を配置し、真空成膜により基材8に対して金属部の成膜と樹脂部の成膜を行う。 - 特許庁
To provide a film deposition method where, at the time of depositing a metal-containing thin film by an ALD (Atomic Layer Deposition) method, the film deposition rate can be increased.例文帳に追加
ALD法によって金属を含む薄膜を形成する際に、成膜速度を上昇させることができる成膜方法を提供すること。 - 特許庁
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