「metal film deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a film deposition method and a film deposition system where, when a metal fluoride such as MgF_2 is used as a target, and film deposition is performed by a sputtering process, a thin film free from light absorption and also having sufficient mechanical strength can be produced with high film thickness reproducibility even if an erosion shape is changed by the repeated use of a target material.例文帳に追加

ＭｇＦ_２等の金属フッ化物をターゲットとしスパッタリング法で成膜するにあたり、光吸収がなくかつ十分な機械的強度を有する薄膜を、ターゲット材料を繰り返し使用することによりエロージョン形状が変化しても、膜厚再現性良く作製可能にする成膜方法および成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a coating device which prevents generation of deposition resulting from reaction of a metal compound with water, and forms a metal oxide film with high film forming efficiency at a high film forming speed, and to provide a coating method for forming the metal oxide film on a substrate using the device.例文帳に追加

金属化合物と水の反応堆積物の発生を防止し、高い成膜効率および成膜速度で金属酸化物膜を成膜できるコーティング装置、および該装置を用いて、基板に金属酸化物膜を成膜するコーティング方法の提供。 - 特許庁

In the vapor deposition method in which a vapor deposition material stored in a hearth is heated to evaporate and a thin film is deposited on a substrate, the hearth is formed of a hearth constituting material having a melting point higher than that of the vapor deposition material, and metal elements contained in the hearth constituting material are the same as at least part of metal elements contained in the vapor deposition material.例文帳に追加

ハースに収容された蒸着材料を加熱により蒸発させ、基板上に薄膜を形成させる蒸着方法において、前記ハースが、前記蒸着材料より高い融点を有するハース構成材料からなるハースであって、そのハース構成材料に含まれる金属元素が、前記蒸着材料に含まれている金属元素の少なくとも一部と同一である。 - 特許庁

Also, regarding the composition of the alloy supplied for the vapor deposition source after the vapor deposition treatment, compared with the composition of the alloy film, the content of the metal having low vapor pressure is made low.例文帳に追加

更に、蒸着処理後に蒸着源に補充する合金の組成は、合金膜の組成に比較して、蒸気圧の小さい金属ほどその含有量を小さくすることを特徴とする真空蒸着法である。 - 特許庁

A catalyst metal layer 4 is formed on the surface of a diamond film 2 by a method selected from the group consisting of the sputtering method, the electron beam deposition method, and the vacuum deposition method.例文帳に追加

スパッタ法、電子ビーム蒸着法及び真空蒸着法からなる群から選択された１種の方法によりダイヤモンド膜２の表面上に触媒金属層４を形成する。 - 特許庁

The release liner is obtained by forming a vapor deposition layer comprising a metal selected from Al, Ag, Au and Ni on at least the single surface of a base material film, and providing the release layer comprising a polyolefin resin on the vapor deposition layer.例文帳に追加

剥離ライナーは、基材フィルムの少なくとも片側にＡｌ、Ａｇ、Ａｕ及びＮｉから選択された金属による蒸着層が形成され、その蒸着層上にポリオレフィン樹脂からなる剥離層が設けられている。 - 特許庁

By subjecting the composite material for vapor deposition to vacuum deposition, a metal back film having a first vapor deposited layer of pure aluminum and a co-vapor deposited layer of aluminum and carbon formed thereon can be obtained.例文帳に追加

この蒸着用複合材料を真空蒸着することにより、純アルミニウムの第１の蒸着層とその上に形成されたアルミニウムとカーボンとの共蒸着層とを有するメタルバック膜が得られる。 - 特許庁

This ZnOx semiconductor layer is formed by using various thin film forming techniques such as a spin coat method, a DC sputtering method, an RF sputtering method, a metal organic vapor phase deposition (MOCVD) or an atomic layer deposition (ALD).例文帳に追加

このＺｎＯｘ半導体層を、スピンコート法、ＤＣスパッタリング法、ＲＦスパッタリング法、有機金属気相成長法（ＭＯＣＶＤ）または原子層堆積法（ＡＬＤ）のような様々な薄膜形成技術を用いて形成する。 - 特許庁

For example, a film of a metal or the like is selectively formed at the movable part (not shown) of the MEMS element 102 by the dry treatment such as physical vapor deposition or chemical vapor deposition.例文帳に追加

例えば、ＭＥＭＳ素子１０２の可動部（不図示）に対し、物理的気相堆積または化学的気相堆積などのドライ処理により金属などの膜を選択的に形成する。 - 特許庁

To provide a deposition method capable of depositing a metal film while suppressing overhang of a frontage of a trench or a hole by heating a processed substrate, and of quickly reducing a temperature of the processed substrate after deposition.例文帳に追加

被処理基板を加熱してトレンチやホールの間口部のオーバーハングを抑制しつつ金属膜を成膜するとともに、成膜後に速やかに被処理基板の温度を低下させることができる成膜方法を提供すること。 - 特許庁

To enable deposition of metal compound which has crystallization promoting function, optical characteristic, and adhesion to a recording medium for a sputtering target used for deposition of interface film of phase change recording medium.例文帳に追加

相変化記録媒体の界面層膜の成膜等に用いられるスパッタリングターゲットにおいて、結晶化促進機能、光学的特性、記録膜との密着性をもった金属化合物膜の成膜を可能にする。 - 特許庁

The upper surface of the wafer is covered with a metal mask opened at a part of the region of the electrode 14, and then a thin film layer, which is very thin of tin having a thickness of about 1 to 10 nm, is formed by chemical vapor deposition method or physical vapor deposition method.例文帳に追加

外部接続用電極１４の領域の部分を開口したメタルマスクで覆い、次にＣＶＤ法またはＰＶＤ法により厚みがおよそ１ｎｍから１０ｎｍの錫のごく薄の薄膜層を形成する。 - 特許庁

A via hole is made in a ceramic substrate, and then a metal thin film is formed on the hole wall of the via hole by physical vapor deposition method or chemical vapor deposition method.例文帳に追加

セラミック基板にバイアホールを形成した後、バイアホールのホール壁上に物理気相堆積法あるいは化学気相堆積法により金属薄膜を形成する。 - 特許庁

The metal film 13 contains a first film 13a having a discontinuous structure obtainable by vacuum deposition of a first metal, a modified surface 13b obtainable by modification of the surface of the first film 13a by bringing the surface into contact with air, and a second film 13c having a discontinuous structure obtainable by vacuum deposition of a second metal on the modified surface 13b.例文帳に追加

金属皮膜１３は、第１の金属が真空蒸着されてなる不連続構造の第１膜１３ａと、第１膜１３ａの表面が空気に触れて改質された改質表面１３ｂと、改質表面１３ｂの上に第２の金属が真空蒸着されてなる不連続構造の第２膜１３ｃとを含む。 - 特許庁

By configuring the metal deposition film capacitor in this way, when the capacitor is used in a lighting circuit, or the like, of a flash lamp, even in tens of thousands of charging and discharging cycles, a dielectric barrier electric discharge generated between the metal deposition films of the capacitor element formed by wounding a metal deposition film arranged inside the metal deposition film capacitor is suppressed, and thus the electrostatic capacitance can be prevented from attenuating.例文帳に追加

金属蒸着フィルムコンデンサーをこのように構成することによって、フラッシュランプの点灯回路等に使用した際、数万回といった充放電の繰り返しによっても、金属蒸着フィルムコンデンサー内部に配置された金属蒸着フィルムを巻回し形成したコンデンサー素子の金属蒸着フィルム間に生じる誘電体バリア放電を抑制し、静電容量の減衰を防止することができる。 - 特許庁

To obtain a vacuum vapor-deposition apparatus that can form a high-purity metal film by suppressing the release of an impure gas such as moisture adsorbed on a surface of a shutter, which occurs due to the heating of the shutter by a radiant heat emitted from a vapor-deposition source in an early period of heating of the vapor-deposition source.例文帳に追加

蒸着源の加熱初期時に蒸着源からの輻射熱によりシャッターが加熱され、シャッター表面に吸着した水分等を不純ガスとして放出するのを抑制して、高純度の金属膜形成ができる真空蒸着装置を得る。 - 特許庁

Especially, if the coating layer of the paper layer is surface-treated, an undercoat layer is provided between the coating layer and the aluminum vapor deposition layer, and a topcoat layer is provided on the aluminum vapor deposition layer, this paper packaging material shows metal gloss or the like equal to that of a packaging material manufactured using a conventional aluminum vapor deposition film.例文帳に追加

特に、該紙層の被覆層を表面処理し、被覆層とアルミニウム蒸着層の間にアンダーコート層を、アルミニウム蒸着層の上にトップコート層を設けた構成にすると、従来のアルミニウム蒸着フィルムを用いて製造した包装材と同等の金属光沢等を示す。 - 特許庁

Since the CaCO_3 forming the film exhausts CO_2 gas by decomposing with heat load and the working surface becomes flatness, the metal deposition is not developed, and since the supply of CaO to the alumina deposition on the working surface is continued, the alumina deposition can be prevented.例文帳に追加

皮膜を形成したＣａＣＯ_３が、熱負荷によって分解してＣＯ_２ガスを放出し、稼働面が平滑になることで、メタルの固着が発生せず、稼働面に付着したアルミナへのＣａＯの供給が継続することからアルミナの付着が防止できる。 - 特許庁

The metallized film capacitor is formed by winding a metallized film 3 having a dielectric film and an electrode 2 formed by metal deposition on the dielectric film.例文帳に追加

誘電体フィルムと、上記誘電体フィルムに金属蒸着した電極部２とを有する金属化フィルム３を巻回することによって、金属化フィルムコンデンサを形成する。 - 特許庁

To continuously manufacture a transparent conductive film having a transparent conductive thin film on a transparent substrate made of a plastic film at a high speed and stably for a long period by a reactive sputtering film deposition method using a metal target.例文帳に追加

プラスチックフィルムからなる透明基材上に透明導電性薄膜を有する透明導電性フィルムを、金属ターゲットを使用した反応性スパッタ成膜により、高速で長時間安定して連続的に製造する。 - 特許庁

To provide a film deposition method capable of depositing a metallic film having the uniform film thickness even when the metallic film is deposited by using metal carbonyl for a raw material.例文帳に追加

金属カルボニルを原料に用いて金属膜の成膜する場合であっても、均一な膜厚を持つ金属膜を成膜可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film roll of a laminated thermoplastic resin film which is excellent in electromagnetic conversion properties and traveling durability and has reduced drop out when used as the base film of a metal-deposition thin film type magnetic recording medium.例文帳に追加

金属蒸着薄膜型磁気記録媒体のベースフィルムとして用いたときに、電磁変換特性、走行耐久性に優れ、かつ極めてドロップアウトの少ない積層熱可塑性樹脂フィルムのフィルムロールを提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing a thin film for obtaining the consistent resistance and film thickness of less variance in performing film deposition of a resistor, a metal thin film or the like.例文帳に追加

抵抗体、金属薄膜等の成膜において、ばらつきが少なく安定した抵抗値、膜厚を売るための製造方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

In a vacuum vapor deposition apparatus, a vapor-deposited film is formed on a metal substrate 3, and at the same time, a vapor-deposited film is formed on a first transparent film substrate 6 and a second transparent film substrate 9, respectively.例文帳に追加

真空蒸着装置において、金属基板３に蒸着膜を形成すると同時に、第１の透明フィルム基板６と第２の透明フィルム基板９に蒸着膜を形成する。 - 特許庁

A reflective film 19 is formed on the entire surface of a first insulating film 16a by, for example, spattering or vapor deposition, and a barrier metal film 23 having a predetermined pattern is formed on the reflective film 19 by a lift-off method.例文帳に追加

スパッタや蒸着などによって、第１絶縁膜１６ａの全面に反射膜１９を形成し、リフトオフ法によって反射膜１９上に所定のパターンのバリアメタル膜２３を形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor element with film deposition and a manufacturing method therefor, capable of depositing a film on a semiconductor element metal film at low cost while preventing the damage of the semiconductor element, and capable of easily depositing a thick film.例文帳に追加

半導体素子を破壊することを防止しつつ半導体素子の金属膜に対し安価に成膜できるとともに容易に厚膜化できる成膜付半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

This gas barrier laminate is characterized in that the gas barrier thin film formed of a metal or a metallic compound by a physical vapor deposition process and a polyimide film by a vapor deposition synthesizing process are laminated in that order on the resin film base material.例文帳に追加

樹脂フィルム基材上に、物理蒸着法により金属又は金属化合物からなるガスバリア性薄膜が、蒸着合成法によりポリイミド膜が、順次形成されてなることを特徴とするガスバリア性積層体を提供するものである。 - 特許庁

This gas barrier laminate is characterized in that a polyimide film by a vapor deposition synthesizing process and the gas barrier thin film formed of a metal or a metallic compound by a physical vapor deposition process are laminated in that order on the resin film base material.例文帳に追加

樹脂フィルム基材上に、蒸着合成法によりポリイミド膜が、物理蒸着法により金属又は金属化合物からなるガスバリア性薄膜が、順次形成されてなることを特徴とするガスバリア性積層体を提供するものである。 - 特許庁

To obtain a grain-oriented silicon steel sheet strip with a ceramics film which is excellent in steel sheet shape without causing warpage on a steel sheet after the film deposition even when the ceramics film is deposited on a long-length steel sheet strip by a CVD (Chemical Vapor Deposition) process using a metal chloride as raw material.例文帳に追加

金属塩化物を原料とするＣＶＤ法により、長尺の鋼板ストリップに対してセラミクス被膜を成膜した場合であっても、成膜後に鋼板に反りが生じることのない、鋼板形状に優れたセラミクス被膜付き方向性電磁鋼板ストリップを得る。 - 特許庁

This resin product 10 is manufactured by a method which comprises the deposition of an inorganic base film 12 containing an inorganic compound on a resin substrate 11, and the deposition of the metal film 13 containing Cr or In with brilliancy and the discontinuous structure on the inorganic ground film 12 by the physical depositing method.例文帳に追加

この樹脂製品１０は、樹脂基材１１の上に無機化合物を含む無機質下地膜１２を成膜し、無機質下地膜１２の上に光輝性及び不連続構造のＣｒ又はＩｎよりなる金属皮膜１３を物理蒸着法により成膜することを含んで製造される。 - 特許庁

In the film deposition method and the film deposition apparatus, aerosol is generated by atomizing a metal compound as a raw material by the ultrasonic vibration in a carrier gas, and the aerosol is heated and sprayed on a work to obtain a uniform film of excellent quality.例文帳に追加

本発明の成膜方法および装置によれば、原料となる金属化合物をキャリアガス中で超音波振動により霧化してエアロゾルを発生させ、さらにこのエアロゾルを加熱してから被処理材に吹き付けることにより、均一で品質の良い膜を得ることができる。 - 特許庁

This gas barrier laminate is characterized in that the gas barrier thin film formed of a metal or a metallic compound by a physical vapor deposition process and a polyimide film by a vapor deposition synthesizing process are laminated in that order on the resin film base material.例文帳に追加

樹脂フィルム基材上に、物理蒸着法により金属又は金属化合物からなるガスバリア性薄膜が、蒸着合成法によりポリアミド膜が、順次形成されてなることを特徴とするガスバリア性積層体を提供するものである。 - 特許庁

To provide a method for forming a metal silicon nitride film by a circulating film deposition in a plasma atmosphere using a metal amide, a silicon precursor and a nitrogen source gas as precursors.例文帳に追加

金属アミド、ケイ素前駆体及び窒素源ガスガスを前駆体として用いてプラズマ雰囲気下で循環式膜被着によって金属ケイ素窒化物膜を形成するための方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polyimide film having excellent adhesive properties, sputtering property, metal vapor deposition property, and metal plating property, and excellent surface smoothness while maintaining the excellent properties of an aromatic polyimide film.例文帳に追加

芳香族ポリイミドフィルムの優れた特性を保持しつつ、接着性、スパッタリング性や金属蒸着性、金属メッキ性が良好であり、かつ表面平滑性に優れたポリイミドフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a metal vapor-deposited urethane film having the adhesion with a metal vapor deposition film and excellent in heat resistance and surface anti-staining properties.例文帳に追加

金属蒸着膜との密着性を有し、かつ耐熱性、表面の耐汚染性にすぐれた金属蒸着ウレタンフィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁

The metal aluminum layer 12 and the protective oxide film 11 are caused to react each other to form an alumina preliminary layer 13 of the single crystal oxide thin film by heating them in vacuum after the deposition of the metal aluminum layer 12.例文帳に追加

金属アルミ層１２堆積後に真空中で加熱することにより、金属アルミ層１２と保護酸化膜１１とを反応させて単結晶の酸化物薄膜であるアルミナ予備層１３を形成する。 - 特許庁

After polishing and cleaning are finished, the rear surface 16 of the semiconductor wafer is subjected to metal deposition to form a metal film 30 as an electrode while the front surface of the semiconductor wafer on which the photoresist film 18 is formed is being held.例文帳に追加

研磨，洗浄が終了すると、フォトレジスト膜１８が形成された半導体ウェハ表面を保持しながら、半導体ウェハの裏面１６に金属蒸着を行い、電極となる金属膜２０を形成する。 - 特許庁

To provide an organic thin film electroluminescence panel including a metal electrode having a low wiring resistance and a method for manufacturing the same by preventing glass transition of an organic film due to radiation heat generated in a vapor deposition source in forming the metal electrode.例文帳に追加

金属電極形成時における蒸着源からの輻射熱による有機膜のガラス転移を防ぎ、配線抵抗の低い金属電極を有する有機薄膜ＥＬパネルとその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for forming the CeO_2 thin film comprises: a substrate preparation step of preparing an oriented metal substrate; and a deposition step of forming the CeO_2 thin film on the oriented metal substrate.例文帳に追加

ＣｅＯ_２薄膜の製造方法は、配向性金属基板を準備する基板準備工程と、配向性金属基板上にＣｅＯ_２膜を形成する成膜工程とを備えている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a rear earth metal based permanent magnet on the surface of which a metal vapor-deposition film is formed as a uniform corrosion resistant coating film having excellent adhesion.例文帳に追加

均一かつ密着性に優れた耐食性被膜としての金属蒸着被膜を磁石の表面に安定して形成することができる希土類系永久磁石の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The deposition rate of the Cu film 107 on the surface of the metal layer 105 is greater than that of the Cu film 107 on the surface of the metal nitride layer 106.例文帳に追加

金属層１０５の表面におけるＣｕ膜１０７の成膜速度は、金属窒化層１０６の表面におけるＣｕ膜１０７の成膜速度よりも大きい。 - 特許庁

To provide an inkjet recording medium that has a metal film, can achieve the shortening of the deposition of the metal film, and is configured to perform a simple step of adjusting glossiness.例文帳に追加

金属膜を有するインクジェット記録媒体において金属膜蒸着の短縮化を図れ、且つ光沢度の調整も簡単な工程でできる構成をとるインクジェット記録媒体の提供。 - 特許庁

This woven or knitted fabric for clothing 10 is characterized by including a woven or knitted fabric 1, a metal film 3 formed by a physical vapor-deposition method on at least one side of the woven or knitted fabric 1 and a protecting layer 5 formed on the metal film.例文帳に追加

織編物１と、前記織編物の少なくとも片面に物理蒸着法によって形成された金属膜３と、前記金属膜上に形成された保護層５とを有していることを特徴とする衣料用織編物１０。 - 特許庁

In a step (f), a metal thin film 7 that is a conductive thin film is formed on the front surface and the inside surface of the silicon oxide layer 4 and the front surface of the thermally oxidized porous polysilicon layer 6 by a deposition method through the use of a metal mask.例文帳に追加

酸化シリコン層４の表面および内側面と熱酸化された多孔質ポリシリコン層６の表面とに導電性薄膜たる金属薄膜７をメタルマスクを用いて蒸着法によって形成する（図１（ｆ））。 - 特許庁

A square uneven pattern is formed by a roll-to-roll method on a base film, and a metal is vapor-deposited thereon to obtain a metal vapor deposition film.例文帳に追加

基材フィルム上にロール・ツー・ロール方式で正方形状の凹凸パターンを形成しその上に金属を蒸着し金属蒸着フィルムを得る。 - 特許庁