「metal film deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a thin film deposition system which does not generate particles when forming a metal element or the compound of the metal element on a substrate, and to provide a ZnO-based thin film using it.例文帳に追加

金属元素や金属元素の化合物を基板上に形成する場合に、パーティクルが発生しないような薄膜形成装置とこれを用いたＺｎＯ系薄膜を提供する。 - 特許庁

In a semiconductor device manufacturing method for forming a gate insulating film between a semiconductor region and a gate electrode, the gate insulating film is formed of a metal oxide film, containing fluorine in the film or a metal silicate film containing fluorine by atomic layer deposition.例文帳に追加

半導体領域とゲート電極との間にゲート絶縁膜が形成される半導体装置の製造方法において、前記ゲート絶縁膜を原子層蒸着法により膜中にフッ素を含有する金属酸化膜またはフッ素を含有する金属シリケート膜で形成することを特徴とする。 - 特許庁

Hose having a plural layer structure is provided with metal laminated layer containing metal foil and metal vapor deposition layer deposited on resin base film between any layers or the innermost layer.例文帳に追加

複層構造を有するホースのいずれかの層間又は最内層に、金属箔と、樹脂製ベースフィルム上に蒸着された金属蒸着層とを含む金属ラミネート層を設ける。 - 特許庁

The deposition chamber may be a batch CVD chamber and the deposited film may be a metal nitride, for example, a transition metal nitride such as titanium metal nitride.例文帳に追加

堆積チャンバはバッチＣＶＤチャンバであってよく、堆積される膜は、例えば窒化チタンなど遷移金属窒化物である金属窒化物であってよい。 - 特許庁

In one embodiment, the method includes preparing the surface of the diffusion barrier layer not substantially containing an element metal and forming a metal film on at least a part of the surface by deposition using an organic metal precursor.例文帳に追加

１つの態様において、この方法は、元素金属を実質的に含まない拡散バリア層の表面を用意し、この表面の少なくとも一部分に有機金属前駆体を使用して被着により金属膜を形成することを含む。 - 特許庁

The heat ray reflective layer may be a coating layer formed by coating a metal fine powder-containing coating, or a thin metal film formed by deposition of a metal or the like.例文帳に追加

熱線反射層は金属微粉末含有塗料を塗布して形成された塗布層であってもよく、または金属の蒸着等によって形成された金属薄膜であってもよい。 - 特許庁

The method further comprises stopping generation of the direct-current plasma after the vapor deposition of the indium metal, and without breaking the vacuum, preferably vapor depositing a noble metal on the indium metal electrode so as to form a film for preventing the oxidation.例文帳に追加

さらに、インジウム金属の蒸着の後に、直流プラズマの発生を停止し、真空を破ることなく、インジウム金属電極上に、酸化防止のための貴金属膜を蒸着させるとよい。 - 特許庁

The resistance heating evaporation source 2 is used in a vacuum chamber 1 of a vacuum deposition device 10 by which a film of an evaporated metal Li is formed on an object 3, and the metal Li is evaporated by holding and heating a metal Li.例文帳に追加

蒸発させた金属Ｌｉを成膜対象３に成膜する真空蒸着装置１０の真空チャンバー１内で使用され、金属Ｌｉを保持・加熱することで金属Ｌｉを蒸発させる抵抗加熱蒸発源２である。 - 特許庁

The metal vacuum deposition workpiece is composed of a transparent or semi-transparent substrate and a metal deposited film prepared by directly depositing the metal without forming the undercoat layer on the upper layer of the substrate.例文帳に追加

透明又は半透明の基材と、前記基材の上層にアンダーコート層を形成することなく直接金属が蒸着された金属蒸着膜とで構成された金属蒸着加工物。 - 特許庁

The metal complex is, for example, used as the precursor for adhering a metal or a metal-containing film onto a substrate by a condition of atomic layer sedimentation or chemical vapor deposition.例文帳に追加

一部の態様においては、ここに記載され金属錯体は、例えば原子層堆積又は化学蒸着条件により基材上に金属又は金属含有フィルムを被着させるための前駆物質として使用可能である。 - 特許庁

The thickness of the re-wiring 8 formed by a laminated body of the metal sputter layer or the metal vapor-deposition layer 23, and the thickness of the metal plating layer 29 is determined to be twice as much as that of the outermost layer of the film.例文帳に追加

金属スパッタ層又は金属蒸着層２３と金属めっき層２９との積層体をもって形成される再配線８の厚みを表皮の厚さの２倍以上とする。 - 特許庁

The vapor deposition film 1 is made of a transparent film having at least a metal oxide vapor deposition film on a base material, and the moisture absorption layer 2 is made of a transparent resin layer coated/formed on the vapor deposition film 1 by using a liquid mixture in which a chemically moisture-adsorbable substance having a primary particle size of 100 nm or below is dispersed in a binder resin solution.例文帳に追加

蒸着フィルム１が、基材上に少なくとも金属酸化物の蒸着膜を有する透明フィルムよりなり、かつ、吸湿層２が、バインダ樹脂の溶液中に、１次粒子径が１００ｎｍ以下である化学的水分吸着性物質が分散された液状混合物を用いて、蒸着フィルム１上に塗工形成された透明樹脂層よりなる。 - 特許庁

The metal film forming method comprises a first step of depositing a first metal film 2 formed of a substance forming a catalyst for the electroless plating on a base material 1 by using a vacuum thin film deposition apparatus, and a second step of depositing a second metal film 4 by depositing a metal while applying the electroless plating with the first metal film 2 as the catalyst.例文帳に追加

基材１上に、真空系薄膜形成装置を用いて、無電解めっきの触媒となる物質からなる第１の金属膜２を形成する、第１の工程と、第１の金属膜２を触媒として、無電解めっきを適用しながら金属を成膜することによって、第２の金属膜４を形成する、第２の工程とを実施する。 - 特許庁

The card has a single layer card base material or one or more layers of card base materials composed of a core base material and an exterior base material, a metal vapor deposition layer on the card base material, and a protective layer on the metal vapor deposition layer where the metal vapor deposition layer has a flat part and a linear thick or thin film arranged partly in a predetermined direction.例文帳に追加

上記課題を解決するため、本発明では、単層からなるカード基材又は１層以上のコア基材と外装基材からなるカード基材と、カード基材上に金属蒸着層を有し、該金属蒸着上に保護フィルム層を有するカードであって、該金属蒸着層が、平坦部と部分的に一定方向に並んだ線状の厚膜部又は薄膜部とを有することを特徴とするカードとする。 - 特許庁

The metal-containing fabric is manufactured by forming the thin metal film layer on at least one surface of the fabric by metal vapor deposition, and applying a treating liquid of a coloring agent-containing resin to the yarn portion of the thin metal film layer.例文帳に追加

布帛の少なくとも片面に、金属蒸着によって金属薄膜層を形成し、次いでその金属薄膜層の糸条部に着色剤含有樹脂からなる処理液を塗布した後、乾燥させることを特徴とする金属含有布帛の製造方法。 - 特許庁

In the method of forming the metal-macromolecule composite film, an electric current is made flow into an aqueous electro-deposition liquid containing metal ion and a macromolecular compound so as to deposit the metal ion and the macromolecular compound at the same time, thereby a metal-macromolecule composite film is electrodeposited on the surface to be electrodeposited.例文帳に追加

金属イオンと高分子化合物とを含む水性電着液に通電して、該金属イオンと該高分子化合物とを同時に析出させることにより、金属‐高分子コンポジット膜を被電着部材表面に電着する、金属‐高分子コンポジット膜の形成方法。 - 特許庁

To provide a film deposition method where thin films are deposited on the surface of metal such as noble metal and soft metal, so that composite hardness is increased, the generation of scratches is prevented, the gloss of base material metal is maintained, its chemical discoloration is prevented, and the commercial value thereof is improved, and to provide a product film-deposited thereby.例文帳に追加

貴金属、軟質金属などの金属表面に薄膜を成膜し、複合硬度を高め擦過傷発生を防止し、基材金属の光沢を維持し、化学的変色を防止し、商品価値を向上させる成膜方法及びそれによって成膜された製品を提供することを目的とする。 - 特許庁

This metal like decorative film is constituted by applying hairline processing to one side of the polyester film, providing the metal vapor deposition layer on the hairline processing surface of the polyester and providing a thermoplastic resin film on the surface of the metal vapor depostion layer.例文帳に追加

本発明の化粧フィルムは、ポリエステルフィルムの片面にヘアライン加工が施され、該ヘアライン加工面に金属蒸着層が設けられ、その金属蒸着面に熱可塑性樹脂フィルムが設けられていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a metal thin film pattern forming method on a polyimide resin base material and a metal thin film circuit pattern forming method on a polyimide resin base material for forming a metal thin film on a surface of the polyimide resin base material with high deposition reliability and high pattern accuracy.例文帳に追加

金属薄膜を密着信頼性及びパターン精度高くポリイミド樹脂基材の表面に形成することができるポリイミド樹脂基材の金属薄膜パターン形成方法及び金属薄膜回路パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The recessed structure 310 consists of a first metal film 309 formed on the silicon substrate 310 using a sputtering, deposition method, and CVD method or the like; and of a second metal film 308 having a space at the center thereof and formed on the first metal film 309 using a plating process.例文帳に追加

凹型構造体310は、シリコン基板310上にスパッタリング、蒸着法、ＣＶＤ法等を用いて成膜した第１の金属膜309と、第１の金属膜309の上にめっき法を用いて成形した中央に空間を有する第２の金属膜308とから構成されている。 - 特許庁

A first metal film 12A made of an indium tin oxide (ITO) and a second metal film 15 made of Al are successively laminated by vapor deposition on an organic EL layer 13, a photoresist 16 is applied on the second metal film 15, then the photoresist 16 is patterned to a mask pattern of an anode electrode by exposing and developing the photoresist 16.例文帳に追加

有機ＥＬ層１３の上に、ＩＴＯでなる第１金属膜１２Ａ、Ａｌでなる第２金属膜１５を順次蒸着により積層させ、第２金属膜１５の上にフォトレジスト１６を塗布し、露光・現像してフォトレジスト１６をアノード電極のマスクパターンにパターニングする。 - 特許庁

In forming the metal coating film 4, the golf ball activated by ion bombardment is held by a needlelike body 8 of a first implement 71 and, after the deposition of the metal coating film 4, it is replaced onto a second implement 72, forming the metal coating film 4 and a protective layers 5, 6 on the surface.例文帳に追加

また、この金属被膜４を形成する場合、イオンボンバード処理によって活性化処理されたゴルフボールを第一の治具７１の針状体８で保持し、金属被膜４を形成した後、第二の治具７２に移し替えて表面に金属被膜４や保護層５、６を形成する。 - 特許庁

Further there is provided a laminate layer 1 including a substrate 11, a cured coating film 12 formed by coating and curing the resin composition for undercoat for metal depositions on the substrate 11, a metal deposition layer 13 formed by vapor-depositing metal on the cured coating film 12, and a topcoat layer 14 formed by coating and curing a composition for topcoat on the metal deposition layer 13.例文帳に追加

さらに、基材１１と、該基材１１上に該金属蒸着向けアンダーコート用樹脂組成物を塗布硬化させて形成した硬化塗膜１２と、該硬化塗膜１２上に金属を蒸着させて形成した金属蒸着層１３と、該金属蒸着層１３上にトップコート用組成物を塗布硬化させて形成したトップコート層１４とを有する積層体１。 - 特許庁

The method for depositing a film including a noble metal on the substrate in a reaction chamber comprises treatment with a hydrogen halide or gaseous halide of a metal halide or an organometallic compound and depositing a film including a noble metal reaction product and the noble metal derived from an oxygen-containing reaction product by using an atomic layer deposition process which is a vapor deposition process.例文帳に追加

反応チャンバ中の基板上に貴金属を含む薄膜を堆積するための方法であって、該方法は、以下を含む： 該基板を水素ハライド又は金属ハライドの気体ハライド又は有機金属化合物を用いて処理すること；及び 貴金属反応物及び酸素含有反応物からの該貴金属を含む薄膜を、気相堆積プロセスである原子層堆積プロセスを用いて堆積すること。 - 特許庁

The deposition method is a method of a metal film at least a part of which is etched after deposition, wherein the metal film consisting of the metal or the ruthenium is formed on a substrate, by flowing source gas and nitrogen gas on the substrate to decompose the source gas, the source gas is composed of gas involving the metal or ruthenium having a crystal structure of body-centered cubic lattice, and hydrogen gas.例文帳に追加

成膜後に少なくともその一部がエッチングされる金属膜の成膜方法であって、 結晶構造が体心立方格子構造の金属またはルテニウムを含有するガスと水素ガスとを含むソースガスと、窒素ガスと、を基体上に流し前記ソースガスを分解することにより前記金属または前記ルテニウムからなる金属膜を前記基体の上に形成することを特徴とする成膜方法を提供する。 - 特許庁

Regarding the method for producing a metal-containing thin film using a ruthenium-containing thin film as a lower layer metal film, an organic ruthenium complex is subjected to a chemical vapor deposition process, so as to produce a ruthenium-containing thin film, and then, an organic metal complex is formed on the ruthenium-containing thin film by a CVD process, so as to deposit a metal-containing thin film.例文帳に追加

本発明の課題は、有機ルテニウム錯体を化学気相蒸着法によりルテニウム含有薄膜を製造させた後、次いで、そのルテニウム含有薄膜の上に、有機金属錯体をＣＶＤ法により金属含有の薄膜を形成させることを特徴とする、ルテニウム含有薄膜を下層金属膜とした金属含有薄膜の製造法によって解決される。 - 特許庁

The method of forming a crystalline thin film or a crystalline structure includes a vapor deposition and crystallization acceleration step for performing vapor deposition of a metal oxide by sputtering, and acceleration of crystallization of a metal oxide by laser light irradiation simultaneously.例文帳に追加

結晶性薄膜又は結晶性構造体の製造方法においては、蒸着・結晶化促進工程において、スパッタリング法による金属酸化物の蒸着、及びレーザー光照射による金属酸化物の結晶化促進が同時に行われる。 - 特許庁

A layer of a metal film formed by deposition may be composed of a single metal, but better shield effect can be expected by depositing nickel on a copper layer and employing two deposition layers in order to shield electromagnetic waves of different properties simultaneously.例文帳に追加

蒸着によって形成される金属幕の層は、単一の金属でも良いが、性質の異なる電磁波を同時にシールドする為に、銅の層の上に、重ねてニッケルを蒸着することによって、蒸着層を２層にすることによって、更に良いシールド効果が期待できる。 - 特許庁

A re-peelable adhesive layer of a thickness of 0.05-10 μm is formed on one smooth side of a resin film substrate, a metal deposition layer is formed on the re-peelable adhesive layer, and an rustproof layer is formed on the metal deposition layer to prevent corrosion during handling.例文帳に追加

樹脂フィルム基体の平滑な片面に厚さが０.０５〜１０μｍの再剥離性粘着剤層を設け、該再剥離性粘着剤層上に金属の蒸着層を形成、取り扱い時の腐食防止の為に金属蒸着膜上に防錆層を設ける。 - 特許庁

To provide a conductive film that can prevent corrosion of the metal surface by laminating a vapor deposition layer and an antistatic layer in order, and demonstrates conductivity by the metal half-vapor deposition layer and the antistatic layer, and has visibility of the content.例文帳に追加

基材に蒸着層、帯電防止層を順次積層させることで、金属表面の腐食を防ぐと同時に金属ハーフ蒸着層と帯電防止層によって導電性を発現させ、かつ内容物視認性を有する導電性フィルムを提供。 - 特許庁

The shielding tape 2 is constructed by forming a metal vapor deposition layer 22 on a resin film 21, and an insulating bonding layer 3 is applied thinly on the whole face of this metal deposition layer 22, and further a conductive bonding layer 4 is printed and formed in an island pattern on top of it.例文帳に追加

シールドテープ２は、樹脂フィルム２１上に金属蒸着層２２を形成して構成され、この金属蒸着層２２上全面に薄く絶縁性接着層３を塗布し、更にその上に導電性接着層４を島状パターンをもって印刷形成する。 - 特許庁

A re-wiring 8 through which a signal of ≥800MHz is transmitted is formed by a process where a metal sputter layer or a metal vapor-deposition layer 23 is formed on a passivation film 5 on a completed wafer 21 prepared through a predetermined process and a process where a metal plating layer 29 is laminated on the metal sputter layer or the metal vapor-deposition layer 23.例文帳に追加

８００ＭＨｚ以上の信号を伝送する再配線８の形成を、所定のプロセスを経て作製された完成ウエハ２１のパッシベーション膜５上に金属スパッタ層又は金属蒸着層２３を形成する工程と、当該金属スパッタ層又は金属蒸着層２３上に金属めっき層２９を積層する工程とを含んで行う。 - 特許庁

Using metal compound powder, a metal compound film is formed on a glass base material by an aerosol deposition process, and the composite body of the metal compound film and the glass base material is heat-treated, thus the metal compound phase is converted into a metal silicate phase so as to produce the composite body of the metal silicate film and the glass base material.例文帳に追加

金属化合物粉末を用い、エアロゾルデポジション法によりガラス基材上に金属化合物膜を形成し、その金属化合物膜とガラス基材の複合体を熱処理することで、金属化合物相を金属ケイ酸塩相にすることで金属ケイ酸塩膜とガラス基材の複合体を製造する。 - 特許庁

An auxiliary catalyst thin film is formed on a substrate, a metal oxide thin film is formed on the auxiliary catalyst thin film and the hydrogen dissipating catalyst is further formed on the metal oxide thin film by vapor deposition to constitute the optical hydrogen sensor capable of detecting hydrogen without lowering response even if the use amount of the hydrogen dissipating catalyst is little.例文帳に追加

基板上に補助触媒薄膜を蒸着した後、その上に金属酸化物薄膜を作製し、更にその上に水素解離用触媒を蒸着することによって、少量の水素解離用触媒の使用によってもセンサの応答性を低下させることなく水素を検知可能な水素センサ。 - 特許庁

A sputtering apparatus 10 for depositing a metal thin film on a PET film 4 and an ion gun 11 for emitting oxygen ions are arranged on a film deposition stage in a vacuum tank 3.例文帳に追加

真空槽３内の成膜ステージには、ＰＥＴフィルム４上に金属薄膜を形成するスパッタリング装置１０と、酸素イオンを放出するイオン銃１１とが配されている。 - 特許庁

To provide a winding type vacuum deposition method excellent in productivity for forming a metal film without causing thermal deformation in a base film including a plastic monolayer film.例文帳に追加

プラスチック単層フィルムでなるベースフィルムに熱変形を生じさせることなく金属膜を成膜することができる生産性に優れた巻取式真空蒸着方法を提供する。 - 特許庁

A ferromagnetic metal thin film is provided by vacuum deposition on the one surface A of the polyester film supplied from the polyester film roll for magnetic recording medium to manufacture a magnetic recording medium.例文帳に追加

また、この磁気記録媒体用ポリエステルフィルムロールから供給されるポリエステルフィルムの一方側の表面Ａ上に、強磁性金属薄膜を真空蒸着により設けて磁気記録媒体を製造する。 - 特許庁

To provide a method of forming a high dielectric film in which a hydrogen-containing component hardly remains in the film even in a low-temperature film deposition condition using an organic metal material.例文帳に追加

有機金属材料を用いた低温成膜条件下であっても、膜中に水素含有成分が残留し難い高誘電体膜の形成方法を提供すること。 - 特許庁

In order to create the crystal nuclei (PTO nuclei) of a multielement metal oxide thin film (PZT film), a crystal nucleus material gas (Pb, Ti) is supplied from a first gas supply system to a film deposition system.例文帳に追加

多元系金属酸化物薄膜（ＰＺＴ膜）の結晶核（ＰＴＯ核）を生成するために、結晶核原料ガス（Ｐｂ，Ｔｉ）を第１のガス供給系により成膜装置に供給する。 - 特許庁

The MgAl_2O_4 film also has a high humidity resistance even with a thin film; thereby the film thickness of the metal vapor deposition electrode can be reduced while increasing the self-healing performance.例文帳に追加

またＭｇＡｌ_2Ｏ_4膜は薄くても高い耐湿性を有するため、金属蒸着電極の膜厚を小さくすることができ、セルフヒーリング性を高めることができる。 - 特許庁

In order to grow the multielement metal oxide thin film epitaxially on the crystal nuclei, a plurality of thin film material gases (Pb, Zr, Ti) becoming the material of crystal are supplied from a second gas supply system to the film deposition system.例文帳に追加

結晶核上に多元系金属酸化物薄膜の結晶を成長させるために、結晶の原料となる複数の薄膜原料ガス（Ｐｂ，Ｚｒ，Ｔｉ）を第２のガス供給系により成膜装置に供給する。 - 特許庁

To provide a deposition method of a metal thin film which functions as the barrier film of Cu diffusion and as a plating seed layer with single film, and exhibits excellent adhesion to Cu.例文帳に追加

単膜でＣｕ拡散のバリア膜及びめっきシード層として機能するとともに、Ｃｕとの密着性にも優れた金属薄膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition method of forming a thin film containing first metal such as Mn, for example, a thin film of MnOx on a surface of an insulating layer with a low relative dielectric constant.例文帳に追加

比誘電率の低い絶縁層の表面にＭｎ等の第１の金属を含む薄膜、例えばＭｎＯｘを効率的に形成することが可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technology capable of advantageously manufacturing a laminate sheet, in which a metal vapor-deposited film and a vapor deposition polymer film are laminated on a resin film, inexpensively with excellent workability.例文帳に追加

樹脂フィルムに金属蒸着膜と蒸着重合膜とが積層形成された積層シートを低コストに且つ優れた作業性をもって有利に製造し得る技術を提供する。 - 特許庁

To provide a film for insert molding which does not induce spectral unevenness by heat treatment, even when a decorative ink or a metal vapor deposition film is formed on the film.例文帳に追加

フィルム上に装飾用インキや金属蒸着膜を形成しても熱処理によって虹ムラの発生しないインサート成型用フィルムを提供する。 - 特許庁