「metal film deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a group IV metal precursor having excellent volatility and thermal properties and chemical stability to hydrolysis, and suitable for the chemical vapor deposition for a multicomponent metal oxide thin film containing a group IV metal such as titanium in particular.例文帳に追加

優秀な揮発性と熱的特性を示し、加水分解に対する化学的安定性が卓越して特にチタニウムのようなＩＶ族金属を含む多成分系金属酸化物薄膜の蒸着に適するＩＶ族金属前駆体を提供する。 - 特許庁

To provide a metal polishing solution material in which a protective-film forming agent having low water solubility is dissolved at a high concentration without deposition, the metal polishing solution material allowing a metal polishing solution to be easily prepared by a diluent being added thereto when polishing is actually performed.例文帳に追加

水への溶解度の低い保護膜形成剤が高濃度で析出せずに溶解している研磨液材料であって、実際の研磨を行う場合には、これに希釈剤等を加えて金属用研磨液を容易に調製することができる金属用研磨液材料を提供する。 - 特許庁

The method includes: forming a translucent first layer on an optical substrate 1 directly or through the other layer; and forming, on a surface of the first layer, a translucent thin film 33 including at least any one of transition metal carbide, transition metal silicide and transition metal germanide by means of physical vapor deposition.例文帳に追加

光学基材１の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第１の層を形成することと、第１の層の表面に、遷移金属カーバイド、遷移金属シリサイド、遷移金属ゲルマニドの少なくともいずれかを含む透光性薄膜３３を物理的蒸着により形成することとを有する。 - 特許庁

A thin film prepared by dispersing metal and hetero-phase component incompatible with the metal is formed on the substrate composed of a material incompatible with the metal by a sputtering method or vacuum vapor deposition method in such a manner that the volume fraction of the hetero-phase component attains 20 to 65% and the thickness attains ≥1 μm.例文帳に追加

スパッタリング法または真空蒸着法により、金属と、該金属と相溶しない異相成分とが分散してなる薄膜を、前記異相成分の体積分率が２０〜６５体積％、厚さが１μｍ以上となるように、前記金属と相溶しない材質からなる基板上に形成する。 - 特許庁

When an organic layer is formed, the metal bumps 13 serve as a deposition mask to prevent the contact of the mask with an existing film face, and the metal bumps 13 are connected to mounted parts 30 on the back face of the organic EL element together with metal electrodes 15.例文帳に追加

これにより、この金属バンプ１３が有機層等の成膜時には、蒸着マスクとなって既成膜面へのマスクの接触を防止し、金属電極１５と共に導出する有機ＥＬ素子の背面で実装部品３０等と接続させる。 - 特許庁

In the lustrous laminated film 10, a metal vapor deposition layer 20, wherein a vapor deposition layer 21 of a Hastelloy alloy and a vapor deposition layer 22 of chromium or a chromium alloy are formed succeessively and continuously as films, is formed on the rear surface of the transparent surface substrate 11.例文帳に追加

透明表面基材１１の裏面側にハステロイ合金の蒸着層２１及びクロム又はクロム合金の蒸着層２２が順次連続して成膜された金属蒸着層２０が形成されているともに、前記金属蒸着層が接着剤層１４を介してバッキング材１５と一体に積層されている。 - 特許庁

A large number of vapor deposited materials, each of which is obtained by laminating a vapor deposition layer comprising a metal or an alloy on the surface of a base material comprising a high-molecular resin, are preliminarily produced and a plurality of vapor deposition materials are laminated so that the base materials and the vapor deposition layers are always laminated alternately to obtain the metallized film.例文帳に追加

高分子樹脂よりなる基材の表面に金属又は合金よりなる蒸着層を積層してなる蒸着材予め多数製造しておき、そしてそれらを、常に前記基材と前記蒸着層とが交互に積層された形態となるように複数積層してなる構成を有した金属蒸着フィルムとした。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition apparatus, and a vacuum deposition method which can efficiently remove a metal layer deposited on an inner circumferential surface of a masking tape and prevent an oil for preventing the vapor deposition from coming around an outer circumferential surface of the endless masking tape and adversely affecting a polymer film.例文帳に追加

マスキングテープの内周面に積層した金属層を効率的に除去することができ、さらに蒸着防止用オイルが無端状のマスキングテープの外周面に回り込んで高分子フィルムに悪影響を与えることが防止できる真空蒸着装置および真空蒸着方法を提供すること。 - 特許庁

The inorganic vapor deposition layer of the metal or the inorganic oxide and an organic vapor deposition layer of a 1,3,5-triazine derivative are formed in turn on at least one side of the plastic film substrate, and reactive ion etching (RIE) treatment using plasma is applied to the organic vapor deposition layer.例文帳に追加

プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に、金属または無機酸化物からなる無機物蒸着層と１，３，５−トリアジン誘導体からなる有機物蒸着層とを順次設けると共に、当該１，３，５−トリアジン誘導体からなる有機物蒸着層にはプラズマを利用したリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）処理を施す。 - 特許庁

To provide a film deposition method in which the film deposition rate by the sputtering is reduced, a metal thin film with excellent coatability is formed on an inner wall surface and an inner bottom surface of a hole or a groove with the aspect ratio being ≥3 formed in a surface of a workpiece, and the self-hold discharge in a target is generated even with small power.例文帳に追加

スパッタリングによる成膜レートを低くし、被処理体の表面に形成されたアスペクト比が３以上の孔または溝の内壁面および内底面に被覆性が良好な金属薄膜を形成し、少ない電力でも、ターゲットにおける自己保持放電を発生させる成膜方法を提供する。 - 特許庁

The vapor deposition film 1 is made of a transparent film having at least a metal oxide vapor deposition film on a base material, and the moisture absorption layer 2 is made of a transparent resin layer molded in the shape of a sheet by using a molten mixture in which a chemically moisture-adsorbable substance having a primary particle size of 100 nm or below is melted/kneaded to be dispersed in a binder resin.例文帳に追加

蒸着フィル１ムが、基材上に少なくとも金属酸化物の蒸着膜を有する透明フィルムよりなり、かつ、吸湿層２が、バインダ樹脂中に、１次粒子径が１００ｎｍ以下である化学的水分吸着性物質が溶融混練されて分散されてなる溶融混合物を用いて、シート状に成形された透明樹脂層よりなる。 - 特許庁

The method for forming the layered coating film having the metallic appearance includes processes of forming a coating film of a metallic coating material having 3 to 14% pigment mass concentration (PWC) of the glossy pigment produced by pulverizing a vapor deposition metal film into metal chips directly on the object or after a base coating film is formed, and then forming a clear overcoat layer on the metallic coating film.例文帳に追加

被塗物の上に直接又は下塗り塗膜層を形成した後に、蒸着金属膜を粉砕して金属片とした光輝性顔料の顔料質量濃度（ＰＷＣ）が３〜１４％である金属調塗料の塗膜層を形成し、形成した金属調塗膜層の上に、クリヤ上塗り塗膜層を形成する。 - 特許庁

The film deposition method comprises a step of generating a carboxylate gas by reacting a carboxylic acid with an oxygen-containing metal compound, a step of depositing a carboxylate film 2 by feeding the carboxylate gas on a substrate 1, and a step of decomposing the carboxylate film 2 and depositing a metal film 3 by supplying the energy to the substrate 1 with the carboxylate film 2 deposited thereon.例文帳に追加

カルボン酸と酸素含有金属化合物とを反応させてカルボン酸塩ガスを生成する工程と、基板１上にカルボン酸塩ガスを供給してカルボン酸塩膜２を堆積させる工程と、カルボン酸塩膜２が堆積された基板１にエネルギーを与えてカルボン酸塩膜２を分解して金属膜３を形成する工程とを有する。 - 特許庁

A mirror-like film for a reflective plate of a fluorescent lamp is provided where there are laminated a base film 1 comprising a plastic film, a metal vapor-deposition layer 2, a film layer 3 comprising ceramics containing a metal oxide, a reinforcing film layer 6, as required, an adhesive layer 4, and a release paper 5.例文帳に追加

プラスチック製のフィルムからなるベースフィルム１と、ミラー状に形成された金属蒸着層２と、金属酸化物から成るセラミックスを含有する被膜層３と、必要に応じて補強フィルム層６と、接着剤層４と、剥離紙５が積層されてなる蛍光灯の反射板用のミラー状フィルムからなる。 - 特許庁

The low radiation film formed by a vapor deposition process on a base material, includes: an underlayer and a thin film laminate part on the base material, wherein the thin film laminate part includes: a metal layer; and a barrier layer on the metal layer, and the barrier layer is in contact with the metal layer and comprises a nitride or an oxynitride.例文帳に追加

基材上に蒸着プロセスによって形成される低放射膜において、基材上に下地層と、薄膜積層部とを有し、該薄膜積層部は金属層と、該金属層上にバリア層とを含有するものであり、該バリア層は該金属層上に接し窒化物または酸窒化物からなることを特徴とする低放射膜。 - 特許庁

A dielectric film made of a barium-titanate-based ceramic material is formed on a metal foil with an aerosol deposition method; first via conductors and second via conductors connected to the metal foil are embedded in the dielectric film; a first electrode pattern connected to the first via conductors is formed on the dielectric film; and a second electrode pattern connected to the second via conductors is formed by patterning the metal foil.例文帳に追加

金属箔上に、エアロゾルデポジション法により、チタン酸バリウム系セラミックス材料の誘電体膜を形成し、誘電体膜に、金属箔に接続された第１のビア導体及び第２のビア導体を埋め込み、誘電体膜上に、第１のビア導体に接続された第１の電極パターンを形成し、金属箔をパターニングし、第２のビア導体に接続された第２の電極パターンを形成する。 - 特許庁

The multilayer film is obtained by forming an underlying metal, a metal rendered conductive, an inorganic dielectric, and a metal rendered conductive sequentially by thin film coating technology such as sputtering, deposition, CVD, electroless plating, or electroplating on a polyimide benzo oxazole film employing diamines having benzo oxazole frame and aromatic tetra carboxylic acid dianhydride as a source and having a linear expansion coefficient of 1-12 ppm/°C.例文帳に追加

ベンゾオキサゾール骨格を有するジアミン類と芳香族テトラカルボン酸二無水物を出発材料とする線膨張係数が１〜１２ｐｐｍ／℃のポリイミドベンゾオキサゾールフィルムに、スパッタリング法、蒸着法、ＣＶＤ法、無電解メッキ法、電気メッキ法などの薄膜形成技術により、下地金属、導電化金属、無機誘電体、導電化金属の順で積層し主題の積層フィルムを得る。 - 特許庁

In formation of the gate insulation film formed of high dielectric metal silicate, ALD deposition is carried out by using a time for saturating a film formation rate owing to a surface adsorption reaction for an exposure time of a precursor containing a metal and the like, and using a time for setting the composition of the metal oxide film 97% or more of a stoichiometric value for an exposure time of an oxidizer.例文帳に追加

高誘電体金属シリケートからなるゲート絶縁膜の形成において、金属等を含む前駆体の暴露時間には、表面吸着反応により成膜レートが飽和する時間を用い、酸化剤の暴露時間には、金属酸化膜の組成が化学量論値の９７％以上となる時間を用いてＡＬＤ堆積を行う。 - 特許庁

The film deposition process includes a process of low oxygen treatment for depositing a film by supplying oxygen smaller than an amount required for causing the chemical reaction of the supplied organic metal material, and high oxygen treatment for depositing a film by supplying oxygen more than an amount required for causing the chemical reaction subsequently.例文帳に追加

成膜プロセスは、供給する有機金属材料を化学反応させるのに必要な量未満の酸素を供給して成膜する低酸素処理と、その後に化学反応させるのに必要な量以上の酸素を供給して成膜する高酸素処理と、を含む。 - 特許庁

The problem is solved by forming the phosphor layer on the polyparaxylene film through a vapor phase deposition method after forming the polyparaxylene film on the surface of the substrate which has a metal surface and giving plasma treatment to the polyparaxylene film.例文帳に追加

金属表面を有する基板の表面にポリパラキシリレン膜を成膜し、このポリパラキシリレン膜表面にプラズマ処理を施した後、気相堆積法によって、前記ポリパラキシリレン膜上に蛍光体層を形成することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

In the manufacturing method, a PZT piezoelectric crystal film 2 is formed by deposition by hydrothermal synthesis on a substrate 3 of which at least the film formation surface is composed of titanium metal or titanium oxide and the film forming surface has been roughened.例文帳に追加

少なくとも成膜面がチタン金属又は酸化チタンで構成され、成膜面に粗面加工が施された基板３上に、水熱合成法によりＰＺＴ圧電結晶膜２を積層形成することを特徴とするＰＺＴ圧電結晶膜の製法である。 - 特許庁

In the biaxially oriented polypropylene film and the metal vapor deposition film, in a film surface of 1 μm square one side of which is parallel to the longitudinal direction, vertical fibrils at least 40 nm in width passing through two sides parallel to the width direction exist.例文帳に追加

一辺が長手方向に平行な１μｍ角のフィルム表面において、幅方向に平行な２辺を通過する幅４０ｎｍ以上の縦フィブリルが存在する二軸延伸ポリプロピレンフィルムおよびそれを基層とする金属蒸着フィルム。 - 特許庁

The yttrium-based ceramic coated material is manufactured by a manufacturing method provided with: a step of forming a DLC (diamond-like carbon) film on a substrate surface; and a step of forming an yttrium-based ceramic film on said DLC film by way of an MOD (metal-organic deposition) method.例文帳に追加

基材表面にＤＬＣ膜をプラズマＣＶＤ法により形成する工程と、前記ＤＬＣ膜上にイットリウム系セラミックス膜をＭＯＤ法により形成する工程とを備えた製造方法により、イットリウム系セラミックス被覆材を製造する。 - 特許庁

To prevent such a situation as a product of reactive gas permeates the continuous hole of a low dielectric constant film when a barrier film of high melting point metal is formed, by atomic layer deposition, on the wall surface and the bottom face of a recess formed in the low dielectric constant film exhibiting gas permeability.例文帳に追加

ガス透過性を有する低誘電率膜に形成された凹部の壁面及び底面に原子層堆積法により高融点金属からなるバリア膜を形成する際に、反応性ガスよりなる生成物が低誘電率膜の連続孔に浸潤する事態を防止する。 - 特許庁

A solar ray control film is constituted by successively laminating a surface protecting layer 11 having a function preventing fogs due to steam, a plastic film support 12, a hologram pattern printing layer 13, a metal vapor deposition layer 14, a pressure-sensitive adhesive layer 15 and a release film 16.例文帳に追加

本発明の太陽光線制御フィルムは、蒸気による曇り防止機能を有する表面保護層１１、プラスチックフィルム支持体１２、ホログラムパターン印刻層１３、金属蒸着層１４、感圧接着層１５、及び離型フィルム１６が順次積層されてなる。 - 特許庁

To provide a film-forming method which can continuously perform removal of a natural oxide film formed on the surface of a substrate and deposition of a film containing a high melting metal, in the same chamber in a short time without exposing the substrate to the air, and to provide a plasma CVD apparatus.例文帳に追加

基板表面に形成された自然酸化膜の除去処理と高融点金属を含む膜の成膜処理とを、基板を大気に晒すことなく、同一チャンバー内で連続して短時間で実行することができる成膜方法及びプラズマＣＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

After vapor-depositing PZT on a substrate through the process of metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) to form a preliminary ferroelectric film, the surface of the preliminary ferroelectric film is polished by chemical mechanical polishing, thus forming a ferroelectric thin film on the substrate.例文帳に追加

基板上に有機金属化学気相蒸着工程でＰＺＴを蒸着して予備強誘電体膜を形成した後、予備強誘電体膜の表面を化学機械的研磨工程で研磨して基板上に強誘電体薄膜を形成する。 - 特許庁

The method for producing the thin film of the nitride on the sapphire substrate comprises the steps of: hydrotreating the sapphire substrate at a high temperature: irradiating it with an electron beam; depositing the nitride to form the thin film on the substrate treated with the electron beam by a metal organic chemical vapor deposition method; and forming a pattern of the thin film of the nitride.例文帳に追加

サファイア基板上への窒化物薄膜の製造方法において、高温水素処理を行ったサファイア基板に電子線を照射し、この電子線処理基板に有機金属化学堆積法によって窒化物薄膜を堆積し、窒化物薄膜を描画する。 - 特許庁

Zn having a sacrificial electrode effect and an enzyme that allows Zn to exist as an oxide and produces a situation, in which Zn is stably scattered in a film without activation of Zn during a thermal process that will cause partial deposition in the film, and reaction with glass, etc., and is scattered, are added to a metal magnetic film.例文帳に追加

金属磁性膜に犠牲電極作用を有するＺｎと、このＺｎを酸化物として存在させ、熱処理時にＺｎが活性化し膜中に偏析したり拡散してガラスなどと反応せず、安定的に膜中に分散させた状態を作り出すために酸素を添加する。 - 特許庁

To avoid degradation of a conductor pattern due to high-temperature heat treatment in oxidizing atmosphere in crystallization of a ferroelectric film, and to avoid degradation of the ferroelectric film, generated accompanying the deposition of metal layers when a multilayer wiring structure is formed, in a semiconductor device containing the ferroelectric film.例文帳に追加

強誘電体膜を含む半導体装置において、強誘電体膜の結晶化の際の酸化雰囲気中における高温熱処理による導体パターンの劣化を回避し、また多層配線構造を形成する場合に金属層の堆積に伴い生じる強誘電体膜の劣化を回避する。 - 特許庁

To provide a polyester film excellent in electromagnetic wave absorptivity, capable of releasing a metallic compound as a form of a metallic element inside the polyester film by electromagnetic irradiation, even when a thickness of the film is small, and capable of well conducting a metal deposition process in after-processing.例文帳に追加

電磁波吸収能に優れており、フィルムの厚さが薄い場合でも、電磁波照射により金属化合物を金属元素形態としてポリエステル中に遊離させることが出来、後加工における金属堆積工程を良好に行うことが出来るポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

Since the resin waste deposition will not be produced in the manufacturing process and the spitting is not caused on the surface of the film by blending the metal soap based lubricant, the film having satisfactory product appearance can be manufactured stably, without causing breakage during extension film formation.例文帳に追加

金属石鹸系滑剤を配合することにより、製造過程でメヤニが発生したり、フィルム表面にブツが生じることがないから、製品外観が良好で、延伸製膜時に破断を起こすことなく安定して生産することもできる。 - 特許庁

To produce an electroless plating bath capable of depositing a film to form into a barrier metal layer uniformly and also at a film deposition rate higher than the conventional case even in wiring and connecting holes fined or whose aspect ratio is made high and to provide a method for depositing an electrically conductive film using the same.例文帳に追加

微細化や高アスペクト比化した配線や接続孔においても均一に、かつ従来よりも速い成膜レートでバリアメタル層となる膜を成膜できる無電解メッキ浴およびそれを用いた導電層の形成方法を提供する。 - 特許庁

This flat yarn is the one obtained by slitting the film body obtained by forming a thin film layer by metal deposition, or an antimicrobial layer on a base film having a specific strength and elongation, and 5-9 μm thickness, and has 50-100% elongation and 250-400 MPa tensile strength.例文帳に追加

特定強伸度を有し厚さが５〜９μｍの基材フイルム上に、金属蒸着薄膜層や抗菌層を設けたフイルム体をスリットした偏平糸であって、該偏平糸の伸度が５０〜１００％で引張強度が２５０〜４００ＭＰａである偏平糸。 - 特許庁

A silver fine particle deposition film 6 is formed by dropping a dispersion solution obtained by dispersing silver fine particles being a metal cluster in acetone onto a graphite substrate 4 as the other electrode, and evaporating the acetone.例文帳に追加

他方の電極としてのグラファイト基板４上に、金属クラスターである銀微粒子をアセトンに分散させた分散液を滴下し、アセトンを蒸発させて銀微粒子堆積膜６を形成する。 - 特許庁

The spectacle frame has a vapor deposition film formed on a metal surface of a spectacle frame member made of titanium, titanium alloy, nickel silver, magnesium, or other metallic materials for spectacles.例文帳に追加

チタン又はチタン合金、ステンレス、洋白、マグネシウムその他の眼鏡用金属材料からなる眼鏡フレーム部材の金属表面に蒸着膜が形成された眼鏡フレームである。 - 特許庁

MEDICINE OR FOOD PRODUCT HAVING METAL FILM, SPUTTERING, VACUUM DEPOSITION OR ION PLATING APPARATUS FOR PRODUCING THE SAME MEDICINE OR FOOD例文帳に追加

金属膜を備えた薬または食品、その薬または食品の製造方法、および、その薬または食品を製造する、スパッタリング、真空蒸着、またはイオンプレーティング装置 - 特許庁

To provide the laminating method of an atomic layer capable of forming a metal oxide film having excellent step coverage characteristics and high dielectric constant at a high deposition speed.例文帳に追加

優れたステップカバレージ特性及び高誘電率を有する金属酸化物の膜を、高い蒸着速度で形成することのできる原子層積層方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a vapor deposition film having high-definition patterns without using a metal mask difficult to realize a high definition and a high price laser scan apparatus.例文帳に追加

高精細度を実現することが困難であるメタルマスクも高価なレーザースキャン装置も使用することなしに、高精細なパターンを有する蒸着膜の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for using activated nitrogen atom, capable of solving problems in the case using conventional ammonia as nitrogen feed source in MOCVD method (organometallic compound chemical vapor deposition method) for growing a III group metal nitride thin film on a substrate.例文帳に追加

基板上にIII族金属窒化物薄膜を成長させるＭＯＣＶＤ法において、従来のアンモニアを窒素供給源として使用する場合の課題を解決し得る、活性化窒素原子を使用する方法を提供すること。 - 特許庁

An oxidizing gas or nitriding gas is introduced in the film deposition container to generate plasma and the component of the organic metal laminated on the substrate is thereby oxidized or nitrided.例文帳に追加

次に、成膜容器内に酸化ガスまたは窒化ガスを導入してプラズマを発生させ、基板に積層した有機金属の成分を酸化または窒化させる。 - 特許庁

To provide a laminated thermoplastic resin film excellent in taking-up propertiers and processability and also excellent in electromagnetic conversion characteristics when used in a metal deposition membrane type magnetic resin medium.例文帳に追加

巻取り性、加工適性に優れ、金属蒸着薄膜型磁気記録媒体としたときに電磁変換特性に優れた積層熱可塑性樹脂フィルムを提供する。 - 特許庁

An antenna coil is directly formed on a base material of an IC card by using a selective film forming system represented by a jet printing method, vacuum deposition using a metal mask and sputtering.例文帳に追加

ＩＣカード基材の上に、ジェットプリンティング方式や、メタルマスクを用いた真空蒸着またはスパッタリングなどを代表とする、選択成膜方式を用いることにより、アンテナコイルを直接形成する。 - 特許庁

This conversion element is provided with a layer 3 containing an organic polymer semiconductor and a pair of electrodes 4 in which at least one of them is a deposition film of mainly metal particulates of 20 nm or less in the average particle size.例文帳に追加

請求項１記載の発明は、有機高分子半導体を含む層３と；少なくとも一方が平均粒径２０ｎｍ以下の金属微粒子主体の堆積膜である一対の電極４と；を具備していることを特徴とする。 - 特許庁

The external electrode 2 can be formed from ITO and the like in addition to a conductive adhesive, and can also be formed as a metal film by the vapor deposition method or ion plating method, and may cover even an end of the glass tube 1.例文帳に追加

また外部電極２は、導電性接着剤の他、ＩＴＯなどにより形成することができ、蒸着法やイオンプレーティング法などにより金属膜として形成することもでき、ガラス管１の端部まで覆うものとしても良い。 - 特許庁