例文 (881件) |
metal film depositionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 881件
In a coating B(b) process, a metal coat 12 of Au is formed on the resin thin film 11 with sputtering or deposition.例文帳に追加
次に、コーティングB(b)工程において、樹脂薄膜11上に、スパッタリングまたは蒸着によりAuなどの金属被膜12を形成する。 - 特許庁
To provide a method for producing a metal ruthenium-containing thin film by a chemical vapor deposition process free from the intrusion of ruthenium oxide.例文帳に追加
酸化ルテニウムの混入がない、化学気相蒸着法による金属ルテニウム含有薄膜の製造法を提供する。 - 特許庁
SOLUTION MATERIAL FOR METAL-ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION CONTAINING β-DIKETONATE COMPLEX OF COPPER (II) AND COPPER THIN FILM FORMED USING THE SAME例文帳に追加
銅(II)のβ−ジケトネート錯体を含む有機金属化学蒸着法用溶液原料及びそれを用いて作製された銅薄膜 - 特許庁
The gas sensitive membrane may comprise SnO_2 or the like formed by oxidizing a metal tin film formed by vacuum deposition under an oxidizing atmosphere.例文帳に追加
ガス感応膜は、真空蒸着法により形成された金属錫膜を酸化雰囲気において酸化させて形成されたSnO_2膜等とすることができる。 - 特許庁
UV CURABLE PRIMER COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PRIMER COATING FILM FOR METAL VAPOR DEPOSITION AND LAMP REFLECTING MIRROR FOR AUTOMOBILE例文帳に追加
紫外線硬化型下塗り液組成物、金属蒸着用下塗り塗膜の形成方法、自動車用ランプ反射鏡 - 特許庁
Continuously, a metal film 11b of Au is formed on an inner wall surface 17a of the resist layer 16 forming the recessed part 17 by deposition, etc.例文帳に追加
続いて、蒸着等により凹部17を形成するレジスト層16の内壁面17aにAuの金属膜11bを形成する。 - 特許庁
COPPER COMPLEX, SOLUTION RAW MATERIAL FOR METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION COMPRISING β-DIKETONATE COMPLEX OF COPPER (II) AND COPPER THIN FILM PREPARED BY USING THE SAME例文帳に追加
銅錯体、銅(II)のβ−ジケトネート錯体を含む有機金属化学蒸着法用溶液原料及びそれを用いて作製された銅薄膜 - 特許庁
SOLUTION RAW MATERIAL FOR ORGANIC METAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND COMPLEX OXIDE DIELECTRIC THIN FILM FORMED BY USING SUCH RAW MATAERIAL例文帳に追加
有機金属化学蒸着法用溶液原料及び該原料を用いて作製された複合酸化物系誘電体薄膜 - 特許庁
SOLUTION MATERIAL FOR ORGANIC METAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD AND FORMING METHOD OF COMPOSITE OXIDE SERIES DIELECTRIC THIN FILM USING THE MATERIAL例文帳に追加
有機金属化学蒸着法用溶液原料及び該原料を用いた複合酸化物系誘電体薄膜の製造方法 - 特許庁
The rare earth-containing metal oxide thin film is directly deposited on a substrate by a liquid phase deposition method (LPD method).例文帳に追加
液相析出法(LPD法)により基板上に希土類含有金属酸化物薄膜を直接析出させる。 - 特許庁
The active layer 6 is formed by an organic metal vapor deposition, and its film forming pressure conditions are set to atmospheric pressure or rather lower pressure than the atmospheric pressure.例文帳に追加
活性層6を有機金属気相成長法により形成し、その製膜圧力条件を大気圧また大気圧よりもやや低い圧力とする。 - 特許庁
A copper thin film is produced from the copper complex or the mixture by an organic metal chemical vapor deposition method.例文帳に追加
本発明の銅薄膜は、上記銅錯体又は上記混合物を用いて有機金属化学蒸着法により作製された薄膜である。 - 特許庁
The reflection mirror 20 comprises a synthetic resin substrate 22, and a metal film 24 formed on the surface of the substrate 22 by vapor-deposition etc.例文帳に追加
反射鏡20は、合成樹脂製の基板22と、基板22の表面に、例えば、蒸着などにより形成された金属膜24とで構成されている。 - 特許庁
RAW MATERIAL LIQUID FOR METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND METHOD OF PRODUCING Hf-Si CONTAINING COMPLEX OXIDE FILM USING THE RAW MATERIAL LIQUID例文帳に追加
有機金属化学気相成長法用原料液及び該原料液を用いたHf−Si含有複合酸化物膜の製造方法 - 特許庁
To realize a metal deposition film having a low contact resistance by inactivating structural defects in a silicon layer.例文帳に追加
シリコン層における構造的な欠陥を不活性化し、低接触抵抗である金属被着膜を実現すること。 - 特許庁
In many cases, the components of a solvent are absorbed into a porous film layer (102), and then vaporize during a subsequent metal (110) deposition process.例文帳に追加
多くの場合、溶媒の成分は、多孔質フイルム層(102)内に吸収され、後で、続く金属(110)堆積工程中に揮発する。 - 特許庁
This organometallic compound is useful for using as a vapor deposition precursor of a group IV metal-containing film.例文帳に追加
IV族金属含有フィルムの蒸着前駆体として使用するために有用な有機金属化合物が提供される。 - 特許庁
The deposition material and gas containing oxygen are supplied into a processing container where a metal oxide film is formed on a substrate to be processed.例文帳に追加
そして、この成膜原料と酸素含有ガスとを処理容器内に供給して被処理基板に金属酸化膜を形成する。 - 特許庁
To provide an electron-beam evaporation apparatus which attains a strong adhesion of a film formed by deposition of an evaporated (sputtering) metal and a high formation speed.例文帳に追加
蒸着(スパッタリング)金属による形成成膜の接着力が強く、形成速度の速い電子ビーム蒸着装置を提供する。 - 特許庁
ORGANOZIRCONIUM COMPOUND FOR METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND RAW MATERIAL SOLUTION FOR FORMING PZT THIN FILM COMPRISING THE SAME COMPOUND例文帳に追加
有機金属化学蒸着用有機ジルコニウム化合物及び該化合物を含むPZT薄膜形成用原料液 - 特許庁
A film deposition apparatus in a preceding stage forms the transparent electrode layer, the semi-conductor layer or the metal layer on the glass substrate.例文帳に追加
前段の成膜装置は、このガラス基板上に透明電極層、半導体層又は金属層を形成するものである。 - 特許庁
To provide a metal deposition film capacitor capable of preventing the electrostatic capacity from attenuating, and to provide a method for manufacturing the capacitor.例文帳に追加
静電容量の減衰を防止することを可能にした金属蒸着フィルムコンデンサー及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
The dispersion solvent of the metal microparticle dispersion ink 102 applied on the substrate 101 is caused to vaporize to form a deposition film 102A of the conductive material.例文帳に追加
基板101に塗布された金属微粒子分散インク102の分散溶媒を揮発させて導電性材料の堆積膜102Aを形成する。 - 特許庁
To provide a precursor for forming a group 4 metal-containing film by deposition of atomic layers, and a method therefor.例文帳に追加
原子層堆積によって、第四族金属含有フィルムを形成する前駆体及び方法を提供する。 - 特許庁
To provide a dial for a timepiece creating the sensation of high grade by applying a metal deposition film to a glass plate and by creating stereoscopic effect.例文帳に追加
ガラス板に金属蒸着膜を施し、立体感を出現させ、高級感を感じさせる時計用文字板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To solve the problem of difficulty in depositing a non-film-deposition region with high accuracy owing to the high thermal expansion coefficient of a mask made of metal.例文帳に追加
金属製マスクは熱膨張率が大きいため、非成膜領域を精度良く形成するのが困難である。 - 特許庁
The sensor 6 is formed of one selected out of a group comprising a band-like metal vapor deposition film, a band-like gold foil and a gold thin wire.例文帳に追加
ここで、センサ6は、帯状の金蒸着膜、帯状金箔、金細線のうちいずれかで形成される。 - 特許庁
A slit 53 is formed in a PZT film 54 which is formed by an aerosol deposition method in a metal tube 51.例文帳に追加
金属チューブ51にエアロゾルデポジション法にて形成したPZT膜54にスリット53を形成する。 - 特許庁
A light reflecting member is also provided which comprises the above polyester resin composition and on which surface a direct metal vapor deposition film is formed.例文帳に追加
さらに、該ポリエステル樹脂組成物からなり、表面に直接金属蒸着膜が形成されていることを特徴とする光反射体を提供する。 - 特許庁
The thin metal films 840 and 860 are formed on substrates 25 and 125 mounted on the thin-film deposition systems 1,100 and the substrate holders 20 and 120.例文帳に追加
金属薄膜840、860は、薄膜堆積システム1、100の基板ホルダー20、120上に載せられた基板25、125上に形成される。 - 特許庁
To provide a metal vapor deposition polyester film which has high strength, is hardly to be cracked, and has no wrinkle.例文帳に追加
高強度でクラックになりにくく、更にシワのない金属蒸着ポリエステルフィルムを提供すること。 - 特許庁
The electric potential of a metal substrate B1 is measured during the film deposition, and the blowing condition of aerosol is adjusted based on the result of measurement.例文帳に追加
成膜中に金属基板B1の電位を測定し、この測定結果に基づいてエアロゾルの吹き付け条件を調整する。 - 特許庁
The porous film is used in the electrochemical display device wherein display is performed by using electrochemical deposition and solution of metal.例文帳に追加
金属の電気化学的な析出・溶解を用いて表示を行う電気化学表示装置において、この多孔質フィルムを用いる。 - 特許庁
To realize both forming a high quality metal thin film at a low cost and reducing thermal damage to a vacuum deposition device.例文帳に追加
低価格にて、高品質な金属薄膜を形成することと同時に、真空蒸着装置に与える熱ダメージを低減する。 - 特許庁
Deposition of a metal oxide film which cannot be removed by the dry cleaning or the like is prevented, and the frequency of the wet cleaning work is reduced.例文帳に追加
これにより、例えばドライクリーニングでは除去し得ない金属酸化膜の付着を防止し、ウエットクリーニング作業の頻度を少なくする。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a SAW (Surface Acoustic Wave) device by which deposition of metal onto an insulating film and deformation of a pointing pad and a SAW electrode are hardly caused.例文帳に追加
絶縁膜への金属の付着、ボンディングパッドやSAW電極の変形が起きにくいSAWデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of forming a film containing a metal by atomic layer deposition using a precursor represented by the following formula.例文帳に追加
次の式の前駆体を用いて、原子層堆積によって、金属含有フィルムを形成する方法を提供する。 - 特許庁
To increase capacity and prolong service life of a capacitor in which a dielectric layer and a metal thin-film layer are laminated and formed by vapor deposition.例文帳に追加
本発明は、誘電体層と金属薄膜層とを蒸着によって積層形成したコンデンサの大容量化と長寿命化を目的とする。 - 特許庁
To provide a method of depositing a conductive noble metal thin film on a substrate generally by atomic layer deposition.例文帳に追加
一般に原子層堆積によって基板上に導電性貴金属薄膜を製造する方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a technique for preventing a transistor from being irradiated with radioactive rays when a metal film is deposited by means of an electron beam deposition method.例文帳に追加
電子ビーム蒸着法により金属膜を形成するにあたって、放射線がトランジスタに照射されることを防ぐ技術を提供する。 - 特許庁
Further, a display part may be formed on the metal surface by screen printing and the vapor deposition film may be formed to cover it.例文帳に追加
また、金属表面にスクリーン印刷により表示部が形成され、この表示部を覆って蒸着膜が形成されていてもよい。 - 特許庁
To provide a vapor deposition apparatus capable of easily depositing a metal film in a desired area of an object.例文帳に追加
対象物の所望の領域に簡単に金属膜を成膜することができる蒸着装置を提供する。 - 特許庁
The plating undercoat layer containing such synthetic resin can prevent the crack formation of the undercoat layer and can form a plated metal film excellent in deposition ability and adhesion on the undercoat layer by the electroless plating method.例文帳に追加
そして、該塗膜層にクラックが生じた状態で、無電解めっき法により金属めっき膜を設けると断線不良が起きてしまう。 - 特許庁
To provide a process for stably depositing a film including a noble metal on a substrate using a chemical vapor deposition method.例文帳に追加
基板上に貴金属を含む薄膜を化学気相成長法を用いて安定的に堆積する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a process for producing a thin film of metal oxide by CVD using alcohol or atomic layer deposition.例文帳に追加
アルコールを用いた化学気相蒸着法または原子層蒸着法による金属酸化物薄膜の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a film forming method which converts a deposited metal by CVD to a conformal and flat form film with a good followability to a substrate surface, by intermediate heat treatment during a deposition process of the metal, or by post-heat treatment after the end of the deposition process to cause a reflowing phenomenon to the deposited metal, and to provide a chemical vapor deposition apparatus.例文帳に追加
CVDによる金属堆積物を堆積工程実行中に中間熱処理するか、又は堆積工程終了後に後熱処理することによって堆積金属にリフロー現象を起こし、基材表面に対する追随性が良いコンフォーマルで平坦な膜状に改善できる成膜方法及び化学気相蒸着装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a sequentially biaxially oriented polyester film having excellent mechanical strength and dimensional stability, and capable of being suitably used as the base material film of a vapor deposition film excellent in the adhesion with a vapor deposition film comprising metal aluminum, silicon oxide or the like.例文帳に追加
優れた機械強度、寸法安定性を有し、かつ、金属アルミニウム、酸化珪素などの蒸着被膜との密着性に優れた蒸着フィルムの基材フィルムに好適に用いることのできる逐次二軸延伸ポリエステルフィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁
A collector metal thin film 10, an emitter metal thin film 11 and a base metal thin film 12 formed by a deposition method or a plating method, and thin plate lead terminals 4, 5, 6 stuck on these metal thin plates are provided on an insulation layer 3.例文帳に追加
絶縁層3上に蒸着法又はメッキ法により形成したコレクタ用メタル薄膜10、エミッタ用メタル薄膜11およびベース用メタル薄膜12と、これら各メタル薄膜に貼り付けた薄板のリード端子4,5,6とを備えたものである。 - 特許庁
The metallic decorative sheet is obtained by making a metal vapor deposition film 4, which keeps a metal vapor deposition layer 1 installed on at least one side of a transparent thermoplastic resin film 2 and has a total light transmittance of 10-50%, overlie a colored thermoplastic resin sheet 5.例文帳に追加
本発明の熱成形加工用の金属調加飾シートは、透明な熱可塑性樹脂フィルム2の少なくとも片面に金属蒸着層1を設け、全光線透過率を10〜50%とした金属蒸着フィルム4を、着色された熱可塑性樹脂シート5に積層することによって得られる。 - 特許庁
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