「metal film deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a film deposition apparatus for depositing a uniform metal thin film on a piezoelectric wafer to the outer circumference.例文帳に追加

圧電体ウエハにその外周まで均一な金属薄膜を形成できる成膜装置を提供する。 - 特許庁

METAL VAPOR DEPOSITION FILM FOR CAPACITOR AND METALLIZED FILM CAPACITOR USING THE SAME例文帳に追加

コンデンサ用金属蒸着フィルム、及びそれを用いた金属化フィルムコンデンサ - 特許庁

To provide a film deposition apparatus capable of smoothly performing the film deposition while using a wire formed of a lithium metal or the like as an evaporation source.例文帳に追加

リチウム金属等のワイヤを蒸発源として用いつつ、成膜を円滑に行いうる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition method which does not give damage to an organic film when the vapor deposition is performed by making a metal mask stuck on the organic film.例文帳に追加

有機膜上にメタルマスクを密着させて蒸着を行う際に、有機膜にダメージを与えることのない蒸着方法を提供する。 - 特許庁

The covering sheet 2 is formed of a vapor deposition film prepared by forming a metal vapor deposition layer 6 on the surface of a base film 5.例文帳に追加

被覆シート２は、ベースフィルム５の表面に金属蒸着層６を形成した蒸着フィルムで形成する。 - 特許庁

To provide a film deposition method, in the case a metal oxide is formed by a CVD process, which can improve its crystallinity without changing a film deposition rate.例文帳に追加

ＣＶＤ法で金属酸化物を形成する場合、成膜速度を変えずに結晶性を向上させる成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive film deposition method which ensures excellent plating deposition while minimizing occurrence of deficiency of metal film.例文帳に追加

本発明は、めっき析出性に優れると共に、金属膜の欠損の発生が抑制された導電膜形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a laminated film for metal vapor deposition having gas barrier capacity excellent even after secondary processing while improving the adhesiveness of a metal vapor deposition film and a film substrate at the time of metal vapor deposition, and a metal vapor-deposited laminated film.例文帳に追加

金属蒸着した際の金属蒸着膜とフィルム基材との接着性を改善しながら、二次加工後においても優れたガスバリア性能を有する金属蒸着用積層フィルムおよび金属蒸着積層フィルムを提供すること。 - 特許庁

The metal film is formed in the hole region defined by the metal liner and on the metal deposition preventing film.例文帳に追加

金属ライナーによって画定されるホール領域内部及び金属蒸着防止膜上に金属膜を形成する。 - 特許庁

The metal-deposited molded product is obtained by forming metallic coating film or metal oxide coating film on a molded product formed by the resin composition by at least metal vapor deposition.例文帳に追加

樹脂組成物で形成された成形品に、少なくとも金属蒸着により金属被膜又は金属酸化物被膜を形成する。 - 特許庁

Subsequently, a second metal film 15 principally comprising a second high melting point metal is deposited on the first metal film 14 by atomic layer deposition.例文帳に追加

次に、原子層堆積法により、第１の金属膜１４の上に第２の高融点金属を主成分とする第２の金属膜１５を堆積する。 - 特許庁

In this manufacturing method of the thin-film metal oxide ion conductor used for the reducing gas sensor, a metal oxide thin film 2 constituting the metal oxide ion conductor is deposited by a liquid-phase deposition method.例文帳に追加

金属酸化物イオン伝導体を構成する金属酸化物薄膜２を液相析出法により析出させる。 - 特許庁

In this deposition film with step, a deposition film of a high resistance part 15 and a low resistance part 16 is formed on a film 14, by adjusting an amount of deposition metal attaching on the film 14 using a fixed mask 22.例文帳に追加

フィルム１４上に付着する蒸発金属量を、開口部を有する固定マスク２２を用いて調整することにより、フィルム１４上に高抵抗部１５と低抵抗部１６の蒸着膜を形成する。 - 特許庁

To provide a film deposition method and a film deposition system where, at the time of depositing a metal compound film, to a metal ultrathin film deposited on a substrate, its conversion into a compound film can be surely performed.例文帳に追加

金属化合物膜の成膜に際し、基板上に堆積した金属超薄膜に対して、これへの化合物膜変換を確実に行い得る成膜方法及び成膜装置を提供する。 - 特許庁

A metal film is deposited on the film 12 in the vapor deposition chamber 36 and a metalization film 44 on which a metal film is deposited and the support plate 16 are ejected from the vapor deposition chamber 36 through the differential pressure sealing mechanism 30 with the metalization film 44 bonded to the support plate 16.例文帳に追加

蒸着室３６内でフィルム１２に金属膜を蒸着し、金属膜が蒸着された金属化フィルム４４と支持板１６が貼り付けられた状態で、差圧シール機構３０を介し、蒸着室３６から排出する。 - 特許庁

ORGANOMETALLIC COMPOUND FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION, METHOD FOR PRODUCING ORGANOMETALLIC COMPOUND FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION, NOVEL METAL THIN FILM AND METHOD FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF NOVEL METAL COMPOUND THIN FILM例文帳に追加

化学気相蒸着用の有機金属化合物及び化学気相蒸着用の有機金属化合物の製造方法並びに貴金属薄膜及び貴金属化合物薄膜の化学気相蒸着方法 - 特許庁

To provide a metal oxide film deposition apparatus for inexpensively depositing a metal oxide film having stable film quality.例文帳に追加

安定した膜質の金属酸化物膜を低コストで成膜させる金属酸化物成膜装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a thin film deposition device where both of a halogenated metal thin film and a metal thin film as depositions can be efficiently removed.例文帳に追加

付着物であるハロゲン化金属の薄膜及び金属薄膜の両方を効率よく除去することができる薄膜作製装置とする。 - 特許庁

METHOD OF WASHING THIN FILM DEPOSITION UNIT FOR DEPOSITING Al-CONTAINING METAL FILM AND Al-CONTAINING METAL NITRIDE FILM例文帳に追加

Ａｌ含有金属膜及びＡｌ含有金属窒化膜を蒸着する薄膜蒸着装置の洗浄方法 - 特許庁

To optimize a treating process where a metal multilayered film is formed through vacuum deposition to fire the metal multilayered film, so that a magnetic thin film of satisfactory characteristics is obtained.例文帳に追加

良好な特性の磁性薄膜が得られるように、蒸着により金属多層膜を形成して焼成する処理工程を最適化する。 - 特許庁

In the adhesive sheet using the metal vapor deposition film having the metal vapor deposition layer formed on one surface of a transparent film, the adhesive agent layer is formed by the transfer method, after the metal vapor deposited surface of the metal vapor deposition film is subjected to surface treatment.例文帳に追加

透明フィルムの片面に金属蒸着層を形成した金属蒸着フィルムを用いた粘着シートにおいて、金属蒸着フィルムの金属蒸着を施した面に、表面処理を施した後、転写法により粘着剤層を形成した粘着シート。 - 特許庁

To provide a sputtering target for depositing an oxide film capable of enhancing the production efficiency of a metal oxide film and thus an optical thin film or the like by suppressing reduction of the film deposition rate of the metal oxide film when performing the sputtering film deposition of the metal oxide film suitable for the optical thin film.例文帳に追加

光学薄膜に好適な金属酸化膜をスパッタ成膜するにあたって、金属酸化膜の成膜速度の低下を抑制することによって、金属酸化膜ひいては光学薄膜等の生産効率を高めることを可能にした酸化膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a metal oxide film having excellent film deposition properties in a method of producing a metal oxide film on an object for film deposition using metal complex gas and water vapor by a chemical vapor deposition process.例文帳に追加

本発明の課題は、金属錯体ガスと水蒸気を用いて、化学気相蒸着法により、成膜対象物上に金属酸化膜を製造する方法において、上記問題点を解決し、優れた成膜性を有する金属酸化膜の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

The superconductive thin film material 1 is provided with a metal-orienting substrate 10 and an oxide superconductive film 30 formed on the metal-orienting substrate 10, in which the oxide superconductive film 30 includes a physical vapor deposition HoBCO layer 31 formed by a physical vapor deposition method and an organic metal deposition HoBCO layer 32 formed on the physical vapor deposition HoBCO layer 31 by an organic metal deposition method.例文帳に追加

超電導薄膜材料１は、金属配向基板１０と、金属配向基板１０上に形成された酸化物超電導膜３０とを備え、酸化物超電導膜３０は、物理蒸着法により形成された物理蒸着ＨｏＢＣＯ層３１と、物理蒸着ＨｏＢＣＯ層３１上に有機金属堆積法により形成された有機金属堆積ＨｏＢＣＯ層３２とを含んでいる。 - 特許庁

To provide a curable composition for a coating material which eliminates a coating film crack and peeling in a multilayer coating film including a metal deposition film, and excellent in the impact resistance and the adhesion to a metal deposition film.例文帳に追加

金属蒸着膜を含む多層塗膜での塗膜クラックや剥離を解消し、耐衝撃性、金属蒸着膜への付着性に優れた硬化型塗料用組成物を提供する。 - 特許庁

To avoid a metal thin film from being in an electostatically charged state by preventing secondary electrons or the like from reaching to a surface to be film-deposited and preventing cations from reaching to the surface to be film-deposited in the deposition of the metal thin film by means of an electronic beam vapor deposition.例文帳に追加

電子ビーム蒸着による金属薄膜の形成において、２次電子等の被成膜面への到達を防止すると共に、陽イオンの被成膜面への到達を防止して、金属薄膜が帯電状態になることを回避する。 - 特許庁

For example, a deposition method is disclosed about a chemical vapor deposition or an atomic layer deposition in a metal-containing film such as a metallic silicide film and a metallic oxynitride silicon film.例文帳に追加

例えば金属ケイ酸塩又は金属酸窒化ケイ素の膜のような金属含有膜の化学気相成長又は原子層成長による堆積法が本書に開示されている。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition apparatus capable of consistently depositing a thin film formed of a vapor deposition material consisting of a metal material of high melting point or a non-sublimation material on an object for film deposition.例文帳に追加

高融点の金属材料または非昇華性材料からなる蒸着性材料からなる薄膜を被成膜体に対して安定して形成することが可能な真空成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a composite material for vapor deposition having stable vapor deposition characteristics and capable of depositing a metal back film having high heat absorbability at a low cost.例文帳に追加

蒸着特性が安定し、低コストで熱吸収性の高いメタルバック膜を形成することができる蒸着用複合材料を提供する。 - 特許庁

PROCESS FOR PRODUCING THIN FILM OF METAL OXIDE BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION USING ALCOHOL OR ATOMIC LAYER DEPOSITION例文帳に追加

アルコールを用いた化学気相蒸着法または原子層蒸着法による金属酸化物薄膜の製造方法 - 特許庁

Further, the thin film of metal nitride is the one formed by a vapor deposition process.例文帳に追加

また、金属窒化物の薄膜が、気相成長（vapor deposition）法で形成された薄膜である、前記に記載の製造方法を提供する。 - 特許庁

To decrease the total number of metal contaminations included in a formed film when the deposition is processed on the surface of an object to be treated is treated by deposition.例文帳に追加

被処理体の表面に成膜処理を施すにあたり、成膜される膜中に含まれる金属汚染物の総量を減らすこと。 - 特許庁

The gap layer can also be formed of multilayer in situ deposition and oxidation of a metal film.例文帳に追加

ギャップ層も、金属膜の多層インサイチュ積層及び酸化から形成され得る。 - 特許庁

The metal fine particles 3 are deposited on the fullerene polymer film 2 by sputtering, vapor deposition or coating.例文帳に追加

この金属微粒子３はスパッタ、蒸着又は塗布によりフラーレン重合体膜２に担持させる。 - 特許庁

NON-POLAR a-PLANE GALLIUM NITRIDE THIN FILM GROWN BY METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

金属・有機化学気相成長によって成長した非極性ａ平面窒化ガリウム薄膜 - 特許庁

To deposit a sufficiently thick metal film with high reproducibility by an aerosol deposition method.例文帳に追加

十分に厚い金属膜をエアロゾルデポジッション法によって再現性よく成膜すること。 - 特許庁

Furthermore, the metal oxide film layers 6 and 7 are formed in a lot by a vacuum vapor deposition method.例文帳に追加

また、金属酸化物薄膜層６および７は真空蒸着法で一括に形成されている。 - 特許庁

FILM-FORMING METHOD BY METAL ORGANIC VAPOR PHASE DEPOSITION AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR LASER USING THE SAME例文帳に追加

有機金属気相成長による成膜方法及びこれを用いた半導体レーザの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING THIN FILM CONTAINING METAL RUTHENIUM BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION TECHNIQUE WITH THE USE OF OXYGEN SOURCE例文帳に追加

酸素源を用いた化学気相蒸着法による金属ルテニウム含有薄膜の製造法 - 特許庁

To provide a matte acrylic resin film excellent in vapor deposition adhesiveness with a metal.例文帳に追加

金属との蒸着密着性に優れる艶消しアクリル系樹脂フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a circulation deposition method for forming a metal oxide film on a substrate.例文帳に追加

基材上に金属酸化物膜を形成するための循環堆積法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a metal-macromolecule composite film using the electro-deposition technology.例文帳に追加

電着技術を利用した金属‐高分子コンポジット膜の形成方法を提供すること。 - 特許庁

Preferably, the material of the deposition preventive film is essentially composed of metal, and more preferably, copper is comprised.例文帳に追加

防着フィルムの材質は金属を主成分とすることが好ましく、中でも銅を含むことが好ましい。 - 特許庁

METAL DEPOSITION FILM FOR CAPACITOR, PRODUCTION THEREOF AND CAPACITOR EMPLOYING THE SAME例文帳に追加

コンデンサ用金属蒸着フィルム及びその製造方法並びにそれを用いたコンデンサ - 特許庁

ORGANOCOPPER COMPOUND FOR METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND COPPER THIN FILM PREPARED BY USING THE SAME例文帳に追加

有機金属化学蒸着法用有機銅化合物及びそれを用いて作製した銅薄膜 - 特許庁