「metal film deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

VAPOR DEPOSITION METHOD OF METAL OXIDE FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

金属酸化膜の蒸着方法及びプラズマディスプレイパネルの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING ZnO-BASED TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE FILM BY USING MOCVD (ORGANO-METAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION) PROCESS例文帳に追加

ＭＯＣＶＤ（有機金属化学蒸着）法によるＺｎＯ系透明導電膜の製造方法 - 特許庁

IN-SITU METAL FILM FORMING METHOD AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS USED THEREIN例文帳に追加

インサイチュー金属膜形成方法及びそれに使用される化学気相蒸着装置 - 特許庁

Next, the wafer is inserted into an MOCVD (metal organic chemical vapor deposition) device to form the ferrodielectric film on the wafer 20.例文帳に追加

次に、ウェハ２０をＭＯＣＶＤ装置内に入れて、ウェハ２０上に強誘電体膜を形成する。 - 特許庁

RAW MATERIAL FOR METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (MOCVD) METHOD AND METHOD FOR PRODUCING SILICON-CONTAINING FILM USING THE RAW MATERIAL例文帳に追加

有機金属化学蒸着法用原料及び該原料を用いたシリコン含有膜の製造方法 - 特許庁

After that, metal 4 of Al, Ti, or the like is formed on the surface side of the SiN film 2 by deposition, sputtering, or the like (e).例文帳に追加

その後、Al、Ti等の金属４を、SiＮ膜２の表面側に蒸着、スパッタ等により成膜する（ｅ）。 - 特許庁

To provide a laminated film for direct deposition of metal capable of forming a metal deposition layer having high adhesiveness by directly depositing the metal onto a surface of the laminated film.例文帳に追加

表面に直接金属を蒸着させて密着性の高い金属蒸着層を形成することができる金属直接蒸着用積層フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition for metal vapor deposition with high adhesion to metallic coating film or metal oxide coating film.例文帳に追加

金属被膜又は金属酸化物被膜との密着性が高い金属蒸着用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A metal deposition film 21a or a metal plating film is applied onto the upper surface 20a to acquire a glossy metallic color.例文帳に追加

また、上面２０ａは金属蒸着膜２１ａまたは金属メッキ膜を施して光沢のある金属色にする。 - 特許庁

A three-layered vapor deposition film constituted by metal oxide, silver, and metal oxide and a black transparent film are attached on the protecting surface of the cover.例文帳に追加

金属酸化物／銀／金属酸化物の３層構造皮膜蒸着フィルムと黒色透明フィルムを保護面に張り付けた面覆い。 - 特許庁

This hose is provided at least with a thin film resin layer 5 of an inner most layer, and a laminate layer 7 containing a metal foil or a metal vapor-deposition film.例文帳に追加

少くとも最内層の薄膜樹脂層５と、金属箔又は金属蒸着層を含むラミネート層７とを備える、冷媒ホース。 - 特許庁

The metal thin film is oxidized in an oxygen atmosphere, in a closed space that is maintained at a pressure that lower than the atmospheric pressure for forming the metal deposition preventing film.例文帳に追加

大気圧より低い圧力に保たれる密閉空間内で金属薄膜を酸素雰囲気で酸化させて金属蒸着防止膜を形成する。 - 特許庁

The metal is separated from the obtained metal vapor deposition film to obtain a plate-shaped metal particle having a thickness of 20 to 50 nm and an average particle size of 4 to 6 μm.例文帳に追加

得られた金属蒸着フィルムから金属を分離させ、厚さ２０〜５０ｎｍ、平均粒径が４〜６μｍの板状金属粒子を得る。 - 特許庁

To provide a method for regenerating a silicon wafer from a regeneratable wafer with a multilayer film/pattern which is subjected to miscellaneous film deposition such as deposition of a metal film, a non-metal film, a Low-k film, an organic film and another film or a multilayer film aiming at conductivity, insulation, dielectric or resistance.例文帳に追加

導電性、絶縁性、誘電性、抵抗性等を目的としたメタル膜、ノンメタル膜や、Ｌｏｗ−ｋ膜、有機膜、その他の膜や多層膜等の、多種多用な成膜が施されており、これらの再生可能な多層膜・パターン付きウェーハからシリコンウェーハを再生するための方法を提供する。 - 特許庁

To make the flow of a current in a metal deposition segment sectioned by a non-deposition slit more uniform than before, in a metal deposition film.例文帳に追加

金属蒸着フィルムにおいて、非蒸着スリットにより区画された金属蒸着セグメントにおける電流の流れを従来よりも均一化させる。 - 特許庁

The film with metal foil to be easily peeled from a film is produced by forming a release layer on the film to serve as a base material, depositing metal on the release layer by vapor-deposition or the like, and growing the vapor-deposition metal into a metal film by the electrolytic plating method.例文帳に追加

基材となるフィルムの上に離型層を形成し、該離型層の上に蒸着等で金属を載せ、蒸着金属を電解メッキ法で金属膜を成長させることで、フィルムから容易に剥離できる金属箔つきフィルムとする。 - 特許庁

To provide a metal vapor deposition film for capacitor which has preferable processability and features high voltage resistance and high reliability, and to provide a metallized film capacitor using the metal vapor deposition film for capacitor.例文帳に追加

加工性が良好で、かつ耐電圧が高く信頼性が高いコンデンサ用金属蒸着フィルム、および金属化フィルムコンデンサを提供する。 - 特許庁

To provide vapor deposition equipment capable of performing the vapor deposition of a thin film having a uniform thickness without the risk of metal contamination and by a simple means, and a method for performing the vapor deposition of the thin film.例文帳に追加

金属汚染の危険を伴わず、かつ容易な手段で、均一な膜厚の薄膜を気相成長させることのできる気相成長装置および薄膜の気相成長方法を提供する。 - 特許庁

In the deposition film, on a thin film resin layer, at least two kinds of metal oxide different in deposition film characteristics, preferably alumina indicating deposition film characteristics of high barrier properties and silica indicating deposition film characteristic of so-called barrier properties enduring stretching are deposited multi-dimensionally, and the deposition film characteristics are developed synergistically.例文帳に追加

樹脂薄膜層に、２種以上のそれぞれ蒸着膜特性の異なる金属酸化物、好ましくは高バリア性の蒸着膜特性を示すアルミナと、伸びに耐えるバリア性と言う蒸着膜特性を示すシリカとを多元蒸着し、各金属酸化物の蒸着膜特性を相乗的に発現させた蒸着膜。 - 特許庁

A metal film 4 formed on the entire surface of a wafer is formed on the surface of a protective film 3 while the metal film 4 is formed by deposition, spatter, or vapor deposition, so that an unrequired part of the metal film 4 is removed along with a part of the protective film 3.例文帳に追加

デポジション、スパッタもしくは蒸着によって金属膜４を形成しつつ、ウェハ全面に形成される金属膜４を保護膜３の表面に形成することで、保護膜３の一部と共に金属膜４のうちの不要部分を除去する。 - 特許庁

To provide a method for producing a film in which a metal vapor deposition layer with a layer for protecting the metal vapor deposition layer from oxidation formed on the surface is laminated and a metal vapor deposition film having the oxidation preventing layer by the method.例文帳に追加

金属蒸着層を酸化から守るための層をその表面にさらに設けた酸化防止層を備えた金属蒸着層を積層したフィルムの製造方法及び該方法による酸化防止層を備えた金属蒸着フィルムを提供する。 - 特許庁

This metal deposition film for a film capacitor includes a metal aluminum deposition film formed on a dielectric film base body and an aluminum oxide film formed on a surface thereof, wherein the thickness of the metal aluminum deposition film is 2.10-2.69 nm; a surface resistance value thereof is 200-1,000 Ω/square; and the thickness of the aluminum oxide film is 2-4 nm.例文帳に追加

誘電体フィルム基体上に形成された金属アルミニウム蒸着膜とその表面に形成された酸化アルミニウム膜とからなり、前記金属アルミニウム蒸着膜の膜厚が２．１０〜２．６９ｎｍであり、表面抵抗値が２００〜１０００Ω／□であり、前記酸化アルミニウムの膜厚が２〜４ｎｍであることを特徴とするフィルムコンデンサ用金属蒸着フィルム。 - 特許庁

In a thin film production method to a metal powder sintered porous body substrate, an oxide thin film 8 is deposited on a polished face of a metal powder sintered porous body substrate 6 by a CVD (Chemical Vapor Deposition) process and/or a PVD (Physical Vapor Deposition) process, and thereafter, the deposition of a film 9 is performed thereon by a liquid phase process.例文帳に追加

金属粉末焼結多孔体基板６を研磨加工した面上にＣＶＤ法および／またはＰＶＤ法にて酸化物薄膜８を成膜した後、その上に液相法により成膜９を行うことを特徴とする金属粉末焼結多孔体基板への薄膜製造方法。 - 特許庁

To suppress metal contamination in a film deposition method for forming an oxynitride film by nitriding a silicon oxide film by remote plasma processing.例文帳に追加

シリコン酸化膜をリモートプラズマ処理により窒化して酸窒化膜を形成する成膜方法において、金属汚染を抑制する。 - 特許庁

A silicon nitride film 40 and an interlayer insulating film 41 are sequentially deposition-formed, after forming a metal silicide film.例文帳に追加

金属シリサイド膜を形成後、シリコン窒化膜４０と層間絶縁膜４１を順次堆積形成する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING NiSi FILM, METHOD OF FORMING SILICIDE FILM, METHOD OF FORMING METAL FILM FOR SILICIDE ANNEAL, VACUUM PROCESSING APPARATUS, AND DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

ＮｉＳｉ膜の形成方法、シリサイド膜の形成方法、シリサイドアニール用金属膜の形成方法、真空処理装置、及び成膜装置 - 特許庁

To provide a reflection film deposition technology by which the adhesion of a metal thin film for a reflection film to the surface of a resin can be improved.例文帳に追加

樹脂表面と反射膜用の金属薄膜の密着性を向上させることができる反射膜形成技術を提供する。 - 特許庁

When a lamination film of a transparent base material of the optical disk and the reflection layer is formed by a roll system of a vacuum deposition device, the reflection layer is protected by layering a metal oxide film, a metal nitride, metal or resin film as protective layers directly after deposition of the metal reflection layer.例文帳に追加

光ディスクの透明基材と反射層の積層膜を真空成膜装置によるロール方式で形成する場合に、金属反射層の成膜直後に、保護層として、金属酸化膜、金属窒化物、金属または樹脂膜を積層することにより、反射層を保護する。 - 特許庁

The film-forming apparatus is directed for forming a first metal film on the substrate by sputtering at 300°C or lower; subsequently forming a second metal film on the first metal film by sputtering at 500 to 1,000°C; and forming a third metal film on the second metal film with a vapor deposition process.例文帳に追加

前記成膜装置は、基板上に３００℃以下の温度で第１の金属膜をスパッタリング成膜した後に、第１の金属膜上に５００℃〜１０００℃の温度で第２の金属膜をスパッタリング成膜し、蒸着法により第２の金属膜上に第３の金属膜を成膜するものである。 - 特許庁

On a silicon oxide film obtained by the formation of an insulation film containing Si and oxygen, a metal oxide film is so deposited by a chemical-vapor-deposition method, using an organic-metal raw material that the metal oxide film becomes crystalline in the state obtained, immediately after the deposition.例文帳に追加

Ｓｉと酸素を含む絶縁膜を形成されたシリコン酸化膜上に、有機金属原料を使った化学気相堆積法により、金属酸化物膜を、前記金属酸化膜が堆積直後の状態において結晶質となるように堆積する。 - 特許庁

A protective film 7 is formed on the TFT element at the deposition temperature of 200°C or lower by a metal oxide film, a silicon oxide film, a silicon nitride film, a silicon carbide film or an organic-matter film or the laminated film of the organic-matter film and a metallic film.例文帳に追加

そのＴＦＴ素子上に金属酸化物膜、シリコン酸化物膜、シリコン窒化物膜、シリコン炭化物膜、有機物膜あるいは有機物膜と金属膜の積層膜により保護膜７を２００℃以下の成膜温度で形成する。 - 特許庁

Additionally, a barrier layer 15, which is composed of at least any one of MX nylon, a vapor deposition film of a metal oxide, a vapor deposition film of a metal, and aluminum foil, is appropriately used.例文帳に追加

また、ＭＸナイロン、金属酸化物の蒸着フィルム、金属の蒸着フィルム又はアルミニウム箔の少なくともいずれか一からなるバリア層１５が好適に用いられる。 - 特許庁

The translucent gas barrier film for precluding static electricity is structured so that a metal oxide vapor-deposition layer, an organic-inorganic hybrid barrier layer, and a metal deposition layer are formed on one surface of a base film.例文帳に追加

本発明は、電子部品等を包装する包装体に適し、静電シールド性及びガスバリア性に優れ且つ低コストで製造可能な静電気防止半透明ガスバリア性フィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a system for chemical vapor deposition at ambient temperature using ECR, which can form a vapor deposition film of high quality, having superior bonding strength of a deposited complex metal film to a substrate, and provide a method for depositing metal composite using the same.例文帳に追加

基板と蒸着される複合金属膜との結合力に優れる高品質の蒸着膜を形成し得る、ＥＣＲを利用した常温化学蒸着システム及びこれを利用した複合金属膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coating film deposition method capable of enhancing the deposition efficiency of metal powder even when depositing a coating film by spraying the metal powder in a solid-phase state on a base material by using low-pressure compressed gas.例文帳に追加

低圧の圧縮ガスを用いて、金属粉末を固相状態のまま基材に吹き付けて被膜を形成する場合であっても、該金属粉末の付着効率を高めることができる被膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photocurable resin composition excellent in close bonding of a substrate with a metal deposition film and giving gloss on the surface of the metal deposition film, and a cured material of the same.例文帳に追加

基材と金属蒸着膜の密着性に優れ、金属蒸着膜の表面に光沢性を与える光硬化性樹脂組成物及びその硬化物を提供する。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet wherein an adhesion defect between a metal vapor deposition layer and an adhesive agent layer generated when the adhesive agent layer is formed on the metal vapor deposited surface of a metal vapor deposition film by a transfer method is improved.例文帳に追加

金属蒸着フィルムの金属蒸着を施した面に、転写法により粘着剤層を形成する際に生じる金属蒸着層と粘着剤層との密着不良が改善された粘着シートを提供する。 - 特許庁

The metal vapor deposition film 3 of the metallized film 1 is partitioned into unit metal vapor deposition electrodes by margins 5 and 6 without the vapor deposition metal, the fuse 7 is formed between the margins 6 and 6 of at least one side of the unit metal vapor deposition electrodes, and the narrowest part 8 of the fuse 7 is biased to the metalicon electrode side in the width direction of the margins 6 and 6.例文帳に追加

金属化フィルム１の金属蒸着膜３を蒸着金属のないマージン部５、６により単位金属蒸着電極に区分けし、かつ単位金属蒸着電極の少なくとも一辺のマージン部６、６間にヒューズ部７を形成すると共に、ヒューズ部７の最狭部８をマージン部６、６の幅方向でメタリコン電極側に偏らせた。 - 特許庁

In a step of forming the intermediate electrode 40, (a) a first metal film 41 is formed above the ferroelectric film 30 by sputtering method, and (b) a second metal film 46 is formed above the first metal film 41 by vacuum deposition method.例文帳に追加

中間電極４０の形成工程で、（ａ）強誘電体膜３０の上方に、スパッタ法によって第１の金属膜４１を形成し、（ｂ）第１の金属膜４１の上方に、蒸着法によって第２の金属膜４６を形成する。 - 特許庁

The protective film for the surface of a metal working tool is composed of a mixed film or a stacked film of the nitride of a transition metal element and carbon having an amorphous structure and deposited on a metal surface by a vapor phase thin film deposition process.例文帳に追加

気相薄膜形成法によって金属表面に形成される、遷移金属元素の窒化物と非晶質構造の炭素との混合膜又は積層膜からなる金属加工工具表面保護膜。 - 特許庁

In the birefringent plate 1, a substrate film 3 consisting of a vacuum deposition film, an oblique vapor deposition film 4 consisting of a metal oxide film of, e.g. tantalum pentoxide (Ta2O5) to which double refractivity is imparted by an oblique vapor deposition method, and an antireflection coating 5 are formed on the surface of a transparent glass substrate 2 in this order.例文帳に追加

複屈折板１では、透明なガラスの基板２の表面に、真空蒸着膜からなる下地膜３、斜め蒸着法により複屈折性が付与された五酸化タンタル（Ｔａ__2Ｏ_5）等の金属酸化膜からなる斜め蒸着膜４、および反射防止膜５がこの順に形成されている。 - 特許庁

A method of depositing a metal film on a substrate includes a supercritical preclean step, a supercritical desorb step, and a metal deposition step.例文帳に追加

金属膜を基材上に堆積させる方法は、超臨界プレクリーンステップ、超臨界脱着ステップ、および金属堆積ステップを含む。 - 特許庁

A substrate for forming a thin film such as metal on the surface can be obtained by using such means as high-vacuum metal deposition, sputtering, and ion plating.例文帳に追加

真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の手段を用いて、表面に金属等の薄膜を形成した基板を得ることができる。 - 特許庁

To provide a plasma ion metal deposition apparatus which can form plasma with high density even using a wide and shallow hollow cathode, and can stably deposit a metal film.例文帳に追加

広く浅いホローカソードであっても、密度の高いプラズマを形成することが出来、安定して金属被膜を成膜する。 - 特許庁

The noble metal or noble-metal alloy is deposited on a surface after an oxide film is removed therefrom, and the amount of deposition is preferably 5 nm or more.例文帳に追加

表面の酸化皮膜を除去した後に貴金属または貴金属の合金が付着され、その付着量が５ｎｍ以上であることが好ましい。 - 特許庁