| 例文 |
oxide layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9505件
OXIDE SEMICONDUCTOR LAYER例文帳に追加
酸化物半導体層 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING OXIDE LAYER例文帳に追加
酸化物層の製造方法 - 特許庁
ELECTRON TRANSPORT TITANIUM OXIDE LAYER例文帳に追加
電子輸送チタン酸化物層 - 特許庁
Upper electrodes 406 of TiN or TaN on an oxide layer protect the oxide from Ti reducing the oxide layer and deteriorating dielectric characteristics.例文帳に追加
最後に上部電極層が、この誘電体材料層の上に形成される。 - 特許庁
The zinc oxide layer 14 is arranged on the nickel oxide layer 12 adjacent to the nickel oxide layer 12.例文帳に追加
酸化亜鉛層14は、酸化ニッケル層12と隣接して酸化ニッケル層12上に配置されている。 - 特許庁
FORMATION OF OXIDE FILM-NITRIDE FILM-OXIDE FILM DIELECTRIC LAYER例文帳に追加
酸化膜/窒化膜/酸化膜誘電層の形成方法 - 特許庁
TITANIUM OXIDE COATING FILM LAYER FORMATION METHOD例文帳に追加
酸化チタン被膜層形成方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING METAL OXIDE LAYER例文帳に追加
金属酸化物層の製造方法 - 特許庁
The metal oxide layer may contain hafnium oxide or zirconium oxide.例文帳に追加
該金属酸化物層は、酸化ハフニウム又は酸化ジルコニウムを含んでいても良い。 - 特許庁
The multifunctional material having carbon-doped hafnium oxide layer is provided with a multifunctional layer in which at least the surface layer is made of carbon-doped hafnium oxide layer or carbon-doped hafnium alloy oxide layer.例文帳に追加
少なくとも表面層が炭素ドープ酸化ハフニウム層又は炭素ドープハフニウム合金酸化物層からなる多機能層を具備する。 - 特許庁
The multifunctional material having carbon-doped zirconium oxide layer is provided with a multifunctional layer in which at least the surface layer is made of carbon-doped zirconium oxide layer or carbon-doped zirconium alloy oxide layer.例文帳に追加
少なくとも表面層が炭素ドープ酸化ジルコニウム層又は炭素ドープジルコニウム合金酸化物層からなる多機能層を具備する。 - 特許庁
The oxide electrode layer 31 is an oxide layer having oxygen decomposition capability.例文帳に追加
酸化物電極層(31)は、酸素分解能を有する酸化物層である。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING FIRST OXIDE LAYER, AND SECOND OXIDE LAYER例文帳に追加
第1の酸化物層および第2の酸化物層を形成するための方法 - 特許庁
An oxide Mo layer is formed on an interface between the Mo layer and the Si layer.例文帳に追加
Mo層とSi層の界面に酸化Mo層を形成する。 - 特許庁
The oxide film layer 52 is protected by the alumina thermally spraying layer 53 to prevent the oxide film layer 52 from crackings and peeling offs.例文帳に追加
アルミナ溶射層53で酸化膜層52を保護し、酸化膜層52のクラックや剥離を防止する。 - 特許庁
Further, the metal-oxide layer is more preferable if it is made of a zinc-oxide layer.例文帳に追加
また、前記金属酸化物層は酸化亜鉛層からなると好適である。 - 特許庁
ZINC OXIDE LAYER AND PHOTOVOLTAIC ELEMENT例文帳に追加
酸化亜鉛層及び光起電力素子 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING OXIDE SEMICONDUCTOR LAYER例文帳に追加
酸化物半導体層の製造方法 - 特許庁
The protecting layer 10 is formed of a glaze including silicone dioxide, aluminum oxide, ferric oxide, magnesium oxide, lithium oxide, barium oxide, zinc oxide, chromium oxide, cobalt oxide, and nickel oxide.例文帳に追加
保護層10は、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化第二鉄、酸化マグネシウム、酸化リチウム、酸化バリウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化コバルトおよび酸化ニッケルを含む釉薬により形成されている。 - 特許庁
The barrier layer has a first metal oxide layer (titanium oxide layer) 30 consisting of the oxide of the metal constituting the barrier layer, a metal nitride layer (titanium nitride layer) 33 consisting of the nitride of the metal constituting the barrier layer, and a second metal oxide layer (titanium oxide layer) 34 which consists of the oxide of the metal constituting the barrier layer.例文帳に追加
バリア層は、該バリア層を構成する金属の酸化物からなる第1の金属酸化物層(酸化チタン層)30、該バリア層を構成する金属の窒化物からなる金属窒化物層(窒化チタン層)33、および該バリア層を構成する金属の酸化物からなる第2の金属酸化物層(酸化チタン層)34を有する。 - 特許庁
The method also comprises the step of reacting the oxide of the metal or the oxide of the semiconductor of the oxide layer with the oxygen of an excited state to manufacture an oxide layer (insulating layer) 106 of a second stage, and a second ferromagnetic layer (free layer) 107 on the insulating layer.例文帳に追加
その酸化物層の金属の酸化物または半導体の酸化物を励起状態にある酸素と反応させることで、第2段階の酸化物層(絶縁層)106を作製する。 - 特許庁
The first metal oxide layer 106a is made of zinc oxide (ZnO), and the second metal oxide layer 106b is made of a compound oxide of indium oxide (In) and tin oxide (Sn).例文帳に追加
第1の金属酸化物層が酸化亜鉛(ZnO)からなり、第2の金属酸化物層がインジウム(In)酸化物と錫(Sn)酸化物の複合酸化物からなる。 - 特許庁
BUFFER LAYER FOR OXIDE SUPERCONDUCTIVE THIN FILM例文帳に追加
酸化物超伝導薄膜用バッファ層 - 特許庁
Next, an additional silicon oxide layer 14 is formed on the surface of the silicon oxide layer 4.例文帳に追加
次に、酸化シリコン層4の表面に追加酸化シリコン層14を形成する。 - 特許庁
INTERMEDIATE LAYER FOR OXIDE SUPERCONDUCTING THIN FILM LAYER FORMATION, OXIDE SUPERCONDUCTING THIN FILM LAYER, AND OXIDE SUPERCONDUCTING THIN FILM WIRE MATERIAL例文帳に追加
酸化物超電導薄膜層形成用の中間層、酸化物超電導薄膜層および酸化物超電導薄膜線材 - 特許庁
The panel includes an oxide layer comprising a predetermined oxide, such as, silicon oxide and zirconium oxide between a parylene layer and a phosphor layer.例文帳に追加
パリレン層と蛍光体層との間に、酸化硅素や酸化ジルコニウム等の所定の酸化物からなる酸化物層を有することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁
The Al oxide layer 88 and Al oxide layer 90 are formed by the vapor oxidation of the AlAs layer.例文帳に追加
Al酸化層88及びAl酸化層90はAlAs層を水蒸気酸化させた層である。 - 特許庁
An oxide layer is formed on the silicon epitaxial layer, then a nitride layer is formed on a stacked oxide layers.例文帳に追加
シリコン・エピタキシャル層上に酸化層スタックを形成し、次いで、酸化層スタック上に窒化層を形成する。 - 特許庁
Alternatively, a handle layer is attached to the oxide layer and the substrate is removed until the backside of the oxide layer becomes exposed.例文帳に追加
又は、酸化物層にハンドル層を付けて、酸化物層の裏面が露出するまで基板を除去する。 - 特許庁
The electrode layer 16 is arranged on the zinc oxide layer 14 adjacent to the zinc oxide layer 14.例文帳に追加
電極層16は、酸化亜鉛層14と隣接して酸化亜鉛層14上に配置されている。 - 特許庁
A color oxide layer is formed on the surface inside the deep trench and a color liner layer is formed on the color oxide layer.例文帳に追加
次に深トレンチ内表面にカラー酸化層を、カラー酸化層上にカラーライナー層を形成する。 - 特許庁
A nitride silicon layer 16 whose dielectric ratio is higher than a silicon oxide layer 15 is laminated on the silicon oxide layer 15.例文帳に追加
酸化シリコン層15より誘電率が高い窒化シリコン層16を酸化シリコン層15上に積層させた。 - 特許庁
Further, a protection layer is provided on a surface of the metal oxide layer.例文帳に追加
更に、金属酸化物層の表面に保護層を設ける。 - 特許庁
A silicon oxide layer 4 is formed on the surface of a base layer 2.例文帳に追加
ベース層2の表面に酸化シリコン層4を形成する。 - 特許庁
The transparent electrode layer 120 is, for instance, an indium oxide layer.例文帳に追加
透明電極層120は、例えば酸化インジウム層である。 - 特許庁
COATING LIQUID FOR PROTECTIVE LAYER OF SILICON OXIDE THIN-FILM LAYER AND METHOD FOR PROTECTING SILICON OXIDE THIN-FILM例文帳に追加
酸化珪素薄膜層の保護層用塗工液および酸化珪素薄膜の保護方法 - 特許庁
Further, a mixed region is provided on an interface between the oxide semiconductor layer and the silicon oxide layer.例文帳に追加
また、酸化物半導体層と酸化シリコン層の界面に混合領域を設ける。 - 特許庁
STAINLESS STEEL HAVING TITANIUM OXIDE LAYER SURFACE例文帳に追加
酸化チタン層表面を有するステンレス鋼 - 特許庁
NONDESTRUCTIVE INSPECTION METHOD FOR OXIDE SEMICONDUCTOR LAYER, AND METHOD OF MANUFACTURING OXIDE SEMICONDUCTOR LAYER例文帳に追加
酸化物半導体層の非破壊検査方法、及び酸化物半導体層の作製方法 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|