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p-typeの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 9431



例文

The p-type organic layer forms an NP junction between the n-type organic layer and the p-type organic layer.例文帳に追加

p型有機物層は、n型有機物層とp型有機物層との間でNP接合を形成する。 - 特許庁

In this case, an n-type deep region may be interposed between a p-type partition region and a p-type well region.例文帳に追加

また、p仕切り領域とpウェル領域との間にn深部領域を挟んでも良い。 - 特許庁

A P-type source region 6 and a P-type drain region 7 are arranged in opposition in a second direction at right angles to the first direction.例文帳に追加

P形ソ−ス領域6とP形ドレイン領域7とは第1の方向に直角な第2の方向において対向配置されている。 - 特許庁

The p-type AlGaAs layer 18 is isolated by etching, and this etching is stopped in the undoped AlGaAs resistive layer 17 between the p-type AlGaAs layers 18.例文帳に追加

p型AlGaAs層18の分離はエッチングにて行われており、このエッチングがp型AlGaAs層18間のアンドープAlGaAs抵抗層17で止まっている。 - 特許庁

例文

The molar ratio of titanium oxide and the P-type semiconductor is, for example, 99:1-50:50 and, as the P-type semiconductor, for example, there is an oxide semiconductor, or a compd. semiconductor.例文帳に追加

酸化チタンとp型半導体のモル比は、例えば、99:1〜50:50の範囲であり、p型半導体は、例えば、酸化物半導体または化合物半導体である。 - 特許庁


例文

A first p type polycrystal silicon film, a tunnel oxide film and a second p type polycrystalline silicon film are sequentially laminated on a gate region.例文帳に追加

ゲート領域には第一のp型多結晶シリコン膜/トンネル酸化膜/第二のp型多結晶シリコン膜の順に積層されている。 - 特許庁

The rectifying element is the p-i-n diode comprising a p-type semiconductor layer, an n-type semiconductor layer, and an intrinsic semiconductor layer between them.例文帳に追加

整流素子は、p型半導体層、n型半導体層及びこれらの間の真性半導体層から構成されるp-i-nダイオードである。 - 特許庁

The p+ layer 3 extends in a lateral direction from a p-type electrode end, and the width Lp of the p+ layer is larger than the width of the p-type electrode.例文帳に追加

p+層3はp型電極端部から横方向に延在し、p+層の幅Lpが前記p型電極の幅よりも大きい。 - 特許庁

On the light emitting section, a p-type intermediate layer 15 composed of an AlGaInP-based semiconductor and a p-type current diffusing layer 16 are successively grown.例文帳に追加

上記発光部よりも上にAlGaInP系半導体からなるp型中間層15、p型電流拡散層16を順次成長させる。 - 特許庁

例文

The p-type semiconductor layer 12 includes: a p-type AlGaN electron block layer 16; a p-type GaN guide layer 17; a p-type AlGaN clad layer 18; and a p-type AlInGaN contact layer 19.例文帳に追加

p型半導体層12は、p型AlGaN電子ブロック層16、p型GaNガイド層17、p型AlGaNクラッド層18およびp型AlInGaNコンタクト層19を有している。 - 特許庁

例文

In the p-type semiconductor layer 5, a p-type electronic barrier layer 21, a p-type guiding layer 22, a p-type ultra-lattice clad layer 23 and a p-type contact layer 24 are successively laminated.例文帳に追加

p型半導体層5は、p型電子バリア層21、p型ガイド層22、p型超格子クラッド層23、p型コンタクト層24が順次積層されている。 - 特許庁

In an upper layer of the P-type region 7a, a P-type doped polysilicon film 12 having an impurity concentration higher than that of the P-type region 7a and equivalent to that of the P-type region 4 is formed in contact with the P-type region 7a.例文帳に追加

P型領域7aの上層には、不純物濃度はP型領域7aより高く、P型領域4と同程度のP型ドープトポリシリコン膜12がP型領域7aに接触して形成されている。 - 特許庁

A p-type contact layer 16 is formed of a three-layered structure stacked from the side of a p-type clad layer 15 in the order of a first p-type contact layer 16a, a second p-type contact layer 16b, and a third p-type contact layer 16c.例文帳に追加

p型コンタクト層16は、p型クラッド層15側から第1p型コンタクト層16a、第2p型コンタクト層16b、第3p型コンタクト層16cの順に積層された3層構造である。 - 特許庁

All of a p-type cap layer 6, a p-type clad layer 7, a p^--type contact layer 8, and a p^+-type contact layer 9 which consist of a crystalline nitride semiconductor, already contain a p-type dopant, and are formed in this order.例文帳に追加

予めp型不純物を含有する状態で、結晶性の窒化物半導体からなるp型キャップ層6,p型クラッド層7,p^-型コンタクト層8、およびp^+型コンタクト層9を、この順に成膜する。 - 特許庁

Type p to display your disk's current partition configuration: 例文帳に追加

現在のディスクのパーティション情報を表示するにはpを入力します。 - Gentoo Linux

Omit the -p if the user does not have a password.Otherwise, when prompted, type the password. 例文帳に追加

ユーザーにパスワードがない場合は -p を省略します。 - NetBeans

The p-type semiconductor layer includes a p-side contact layer contacting the electrode.例文帳に追加

p形半導体層は、電極に接するp側コンタクト層を含む。 - 特許庁

By these processes, hydrogen content in a clad layer 506 of p-type (Al0.7Ga0.3)0.5In0.5P is lowered.例文帳に追加

これにより、p型(Al_0.7Ga_0.3)_0.5In_0.5Pクラッド層506中の水素含有量を低減する。 - 特許庁

A p-side electrode 15 is formed on a p-type GaN layer.例文帳に追加

p型GaN層13上にp側電極15を形成する。 - 特許庁

A P well 4 is formed on the surface of a P-type semiconductor substrate 7.例文帳に追加

P型半導体基板7の表面にPウェル4が形成されている。 - 特許庁

The p-side electrode 17p is provided on the p-type region.例文帳に追加

p側電極17pは、p型領域の上に設けられている。 - 特許庁

The p-type semiconductor regions 40 are exposed on bottom surfaces 6c of the grooves 2.例文帳に追加

p型半導体領域40は、溝2の底面6cにおいて露出している。 - 特許庁

To provide a p-type wide gap semiconductor having a new structure.例文帳に追加

新規な構成を有するp型ワイドギャップ半導体を提供する。 - 特許庁

A p-side electrode is electrically connected to the p-type contact layer 14.例文帳に追加

p型コンタクト層14にはp側電極が電気的に接続される。 - 特許庁

Si of 1×1016 cm^-3 to 1×1018 cm^-3 is contained in a p-type layer.例文帳に追加

p型層にはSiが1×1016cm-3以上1×1018cm-3未満含有されている。 - 特許庁

The p-side electrode 15 is connected to the p-type surface 20ap.例文帳に追加

p側電極15は、p型表面20apに接続されている。 - 特許庁

An p-side electrode 22 is connected to the p-type doping region 20.例文帳に追加

p型ドーピング領域20にp側電極22が接続されている。 - 特許庁

To provide a method for epitaxially growing a p-type compound semiconductor thin film.例文帳に追加

pタイプ化合物半導体薄膜の結晶成長させる方法。 - 特許庁

N-type diffusion areas 53 are formed on the P-well area 21.例文帳に追加

P-型ウェル領域21の上層にはN型拡散領域53が設けられている。 - 特許庁

An n-type buffer layer, an n-type first clad layer, an active layer, a p-type first second clad layer, a p-type etch stop layer, a p-type second second clad layer, and a p-type contact layer are laminated on an n-type semiconductor substrate.例文帳に追加

n型半導体基板上にn型バッファ層,n型第1クラッド層,活性層,p型の第1の第2クラッド層,p型エッチストップ層,p型の第2の第2クラッド層,p型コンタクト層が積層されている。 - 特許庁

An n-type buffer layer, an n-type first clad layer, an active layer, a p-type first second-clad layer, a p-type etch stop layer, a p-type second second-clad layer, and a p-type contact layer, are laminated on an n-type semiconductor substrate.例文帳に追加

n型半導体基板上にn型バッファ層,n型第1クラッド層,活性層,p型の第1の第2クラッド層,p型エッチストップ層,p型の第2の第2クラッド層,p型コンタクト層が積層されている。 - 特許庁

A P-type layer 20, having lower resistance than the P wells 11 and 12, is formed in a surface 50 while the P-type layer 20 is being laid across the P wells 11 and 12, and both the P wells 11 and 12 are electrically connected via the P-type layer 20.例文帳に追加

表面50内にPウエル11,12に跨って、Pウエル11,12よりも低抵抗のP型層20が形成されており、両Pウエル11,12はP型層20を介して電気的に接続される。 - 特許庁

A buried layer is formed by selective growth, and the structure of a p-type clad layer has an inverse trapezoidal shape, so that the resistance of the p-type clad layer and the resistance of the p-type contact layer can be reduced.例文帳に追加

埋め込み層を選択成長により形成し、p型クラッド層の構造を逆台形状とすることにより、p型クラッド層の抵抗、p型コンタクト層の抵抗を低減する。 - 特許庁

A P+ type layer 3 is the P+ type diffusion layer formed by ion-implanting P-type impurities from a main surface of the semiconductor layer 3.例文帳に追加

P+型層4は、半導体層3の主表面からP型の不純物をイオン注入することで形成したP+型の拡散層である。 - 特許庁

The p-type gallium nitride-based semiconductor layer 37 includes, for example, a p-type AlGAn electron block layer and a p-type GaN contact layer.例文帳に追加

p型窒化ガリウム系半導体層37は、例えばp型AlGAn電子ブロック層及びp型GaNコンタクト層を含む。 - 特許庁

The p-type window layer 8 is made of a conductive p-type GaP transmitting an infrared ray and doped with zinc as a p-type dopant.例文帳に追加

p型ウインドウ層8は、赤外線を透過でき、p型のドーパントとして亜鉛がドープされた導電性のp型GaPからなる。 - 特許庁

P-TYPE OXIDE, P-TYPE OXIDE MANUFACTURING COMPOSITION, P-TYPE OXIDE MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR ELEMENT, DISPLAY ELEMENT, IMAGE DISPLAY DEVICE AND SYSTEM例文帳に追加

p型酸化物、p型酸化物製造用組成物、p型酸化物の製造方法、半導体素子、表示素子、画像表示装置、及びシステム - 特許庁

To provide a nitride semiconductor device being capable of reducing a contact resistance between a p-type contact layer and a p-type electrode and having the p-type electrode.例文帳に追加

P型コンタクト層とP型電極との間のコンタクト抵抗を低減し得るP型電極を有する窒化物半導体装置を提供する。 - 特許庁

The field effect transistor is formed on a p-type silicon carbide substrate 11 or a p-type silicon carbide substrate, having a p-type silicon carbide buffer layer 12.例文帳に追加

p型炭化珪素基板11またはp型炭化珪素バッファ層12を有する炭化珪素基板上に形成してなる電界効果トランジスタ。 - 特許庁

The buried layer 70A includes a p-type first buried layer 70a_1, a p-type fourth buried layer 70b_2 and a p-type second buried layer 70b_1.例文帳に追加

埋め込み層70Aは、p型第1埋め込み層70a_1、p型第4埋め込み層70b_2及びp型第2埋め込み層70b_1を含む。 - 特許庁

To improve carrier concentration of a p-type semiconductor layer much more than a conventional case and to promote p-type activation of the p-type semiconductor layer.例文帳に追加

p型半導体層のキャリヤー濃度を従来よりも高めて、p型半導体層のp型活性化を促進させること。 - 特許庁

A p-type well 22 of a photoelectric conversion part and a p-type well 24 of a signal scanning circuit part in a photodiode are formed on a p-type substrate 20.例文帳に追加

p型基板20上にフォトダイオードの光電変換部のp型ウェル22と、信号走査回路部のp型ウェル24が形成される。 - 特許庁

A p-type AlAs layer 165 which always gives a strain in a constant amount is inserted between a p-type clad layer 150 and a p-type heterobuffer layer 160.例文帳に追加

p型クラッド層150とp型ヘテロバッファ層160の間に、常に一定量の歪みを与えるp型AlAs層165を挿入する。 - 特許庁

A ridge Ri is formed which comprises the p-type clad layer 104, the p-type contact layer 105, and the p-type ohmic electrode 106.例文帳に追加

p型クラッド層104、p型コンタクト層105およびp型オーミック電極106からなるリッジ部Riが形成されている。 - 特許庁

The p-type back gate region 1 comprises a p-type diffusion region 1a which is relatively shallow and a p-type diffusion region 1b which is relatively deep.例文帳に追加

p型バックゲート領域1は、比較的浅いp型拡散領域1aと比較的深いp型拡散領域1bとを有している。 - 特許庁

The ridge 12 includes a stack of a second p-type cladding layer 9, a p-type band-discontinuity relaxation layer 10, and a p-type cap layer 11.例文帳に追加

リッジ12は第2のp型クラッド層9、p型バンド不連続緩和層10、p型キャップ層11が積層されている。 - 特許庁

A p-type contact layer 7 of the film thickness of about 1,200made of an Mg doped p-type GaN is formed on the p-type cladding layer 6.例文帳に追加

p型クラッド層6の上にはMgドープのp型GaNから成る膜厚約1200Åのp型コンタクト層7が形成されている。 - 特許庁

The p-type guide layer 16 has a super lattice structure wherein a p-type AlGaN layer and p-type GaN layer are alternatively repeatedly stacked a plurality of times.例文帳に追加

p型ガイド層16は、p型AlGaN層およびp型GaN層を交互に複数回繰り返し積層した超格子構造を有している。 - 特許庁

A (P^+)-type embedded layer 55 in contact with the bottom of the P-type well area 52C is formed, and a MOS transistor is formed in the P-type well area 52C.例文帳に追加

P型ウエル領域52Cの底部に接するP+型埋め込み層55を設け、P型ウエル領域52Cの中にMOSトランジスタを設ける。 - 特許庁

例文

A gate electrode 11 is electrically connected with the p-type upper epitaxial layer 5 through the p-type lower epitaxial layer 3 and a p^+-type area 6.例文帳に追加

ソース領域7およびドレイン領域9は、n型エピタキシャル層4に接続されている。 - 特許庁

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