「pattern composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X RAY OR EUV RAY, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide an ink composition for repairing easily and efficiently a photomask having a microscopic pattern.例文帳に追加

微細なパターンを有するフォトマスクを簡便にかつ効率良く補修できるインキ組成物を提供する。 - 特許庁

INORGANIC POWDER-CONTAINING RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRODE FOR FLAT PANEL DISPLAY例文帳に追加

無機粉体含有樹脂組成物、パターン形成方法およびフラットパネルディスプレイ用電極の製造方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING INTERMEDIATE LAYER INCLUDING SILYLPHENYLENE-BASED POLYMER, AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

シリルフェニレン系ポリマーを含有する中間層形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING DIELECTRIC FILM AND METHOD FOR FORMING DIELECTRIC FILM OR DIELECTRIC FILM PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

絶縁膜形成用組成物及びこれを用いた絶縁膜または絶縁膜パターンの形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

RESIN COMPOSITION SENSITIVE TO ACTIVE ENERGY RADIATION AND POLYMER PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性エネルギー線樹脂組成物、及び、該樹脂組成物を用いてなる高分子パターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING SAME, AND COMPOUND IN SAME例文帳に追加

感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける化合物 - 特許庁

To provide a negative radiation-sensitive resin composition excellent in resolution, pattern profile and dimensional fidelity.例文帳に追加

解像性、パターン形状、寸法忠実性に優れるネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PHOTOSENSITIVE LAMINATE, PERMANENT PATTERN FORMING METHOD AND PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板 - 特許庁

SILICON-CONTAINING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM PATTERN USING THE SAME, AND PROTECTIVE FILM FOR ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

シリコン含有感光性組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜 - 特許庁

HEXAARYLBIIMIDAZOLE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION USING THE SAME AND PRODUCTION OF PATTERN AND ELECTRONIC PART例文帳に追加

ヘキサアリールビイミダゾール化合物、これを用いた感光性組成物及びパターンの製造法並びに電子部品 - 特許庁

To provide a clay composition with excellent conveniency capable of making a pattern of hand or foot simply and clearly.例文帳に追加

簡易且つ明瞭な手形や足型の採取が可能な利便性に優れた粘土組成物を提供する。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERFILM, RESIST UNDERFILM, METHOD FOR FORMING THE RESIST UNDERFILM, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜、レジスト下層膜の形成方法、及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND PERMANENT RESIST USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びそれを用いた永久レジスト。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition or the like that is excellent in insulation performance, plating resistance, and smoothness of a resist pattern side face.例文帳に追加

絶縁性、耐メッキ性、及びレジストパターン側面の平滑性に優れる感光性組成物などの提供。 - 特許庁

POSITIVE CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF RESIST PATTERN AND PRODUCTION OF ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

ポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造法及び電子装置の製造法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物およびそれを用いた半導体装置の製造方法、パターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME, AND FLUORINE-CONTAINING COMPOUND例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに含フッ素化合物 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV RAY, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER, METHOD FOR PRODUCING THE POLYMER, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE PLATE FORMED WITH PATTERN例文帳に追加

重合体、重合体の製造方法、レジスト組成物、およびパターンが形成された基板の製造方法 - 特許庁

To provide a top coating composition for a photoresist, and a method of forming a photoresist pattern using the same.例文帳に追加

フォトレジスト用のトップコーティング組成物、及びそれを用いたフォトレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE METAL COMPLEX, COATING LIQUID, AND METHOD FOR MANUFACTURING METAL OXIDE THIN FILM PATTERN例文帳に追加

感光性組成物、感光性金属錯体、塗布液、及び金属酸化物薄膜パターンの製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE SOLDER RESIST COMPOSITION AND FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD OF FORMING SAME例文帳に追加

感光性ソルダーレジスト組成物及び感光性ソルダーレジストフイルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

HIGH SENSITIVITY PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING SOLUBLE FILM FORMING DENDRIMER AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

可溶性膜形成デンドリマーを含む高感度フォトレジスト組成物およびそれを使用したパターン形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST POLYMER, PRODUCTION PROCESS THEREFOR, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁

PHOTORESIST MONOMER, PHOTORESIST POLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト単量体、フォトレジスト重合体、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, EUV LIGHT OR X-RAY AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子線、ＥＵＶ光又はＸ線用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a resist composition with which a pattern having excellent line width roughness(LWR) can be obtained.例文帳に追加

優れたラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE POLYBENZOXAZOLE PRECURSOR COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PART USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性ポリベンゾオキサゾール前駆体組成物、パターンの製造方法及びこれを用いた電子部品 - 特許庁

HEAT-RESISTANT PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN USING SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

耐熱性感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターン製造方法並びに電子部品 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition having new thermal flow aptitude to obtain a finer pattern.例文帳に追加

新規なサーマルフロー適性を有するポジ型フォトレジスト組成物を提供し、より微細なパターンを実現する。 - 特許庁

The base resin composition 4 is prepared by kneading and mixing a pattern material 6 with a resin material 5.例文帳に追加

樹脂材料５に柄材６を練り込んで混合することによってベース樹脂組成物４を調製する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having good alkali solubility, and to provide a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

良好なアルカリ溶解性を有するネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法が提供する。 - 特許庁

POLYAMIC ESTER, ITS PRODUCTION, PHOTOPOLYMER COMPOSITION, PRODUCTION OF PATTERN THEREFROM, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポリアミド酸エステル、その製造法、感光性樹脂組成物、それを用いたパターン製造法及び電子部品 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING POLYMER, NEGATIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

含フッ素化合物、含フッ素高分子化合物、ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The composition forms a prescribed pattern through the alkali development after exposure, by the action of a photosensitive agent contained therein.例文帳に追加

本発明は、感光剤を有することで、露光後のアルカリ現像によって所定のパターンを形成できる。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, RESIST UNDERLAYER FILM, METHOD FOR FORMING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜、レジスト下層膜の形成方法、及びパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER CONTAINING DIOL STRUCTURE, NEGATIVE RESIST COMPOSITION USING IT AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

ジオール構造を含有してなる重合体、それを用いたネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER FOR RESIST, RESIST COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE ON WHICH PATTERN IS FORMED, AND POLYMERIZABLE MONOMER例文帳に追加

レジスト用重合体、レジスト組成物、パターンが形成された基板の製造方法、および重合性モノマー - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM INCLUDING IONIC POLYMER AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

イオン性重合体を含むレジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

ELEMENT FOR ELECTROCHROMIC DIMMING GLASS AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND AUXILIARY ELECTRODE PATTERN FORMING PAINT COMPOSITION例文帳に追加

エレクトロクロミック調光ガラス用素子、その製造方法ならびに補助電極パターン形成塗料組成物 - 特許庁

ALKALI-DEVELOPABLE NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION METHOD OF CURED RELIEF PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

アルカリ現像可能なネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法及び半導体装置 - 特許庁