「pattern composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索

This composition of the coating agent for the lost pattern contains ores whose endothermic peak temperature (°C) of DTA is within a specified range.例文帳に追加

ＤＴＡの吸熱ピーク温度（℃）が特定範囲にある鉱石を含有する消失模型用塗型剤組成物。 - 特許庁

To provide a color filter composition and a color filter transfer film having excellent transfer properties and pattern formation properties.例文帳に追加

優れた転写性及びパターン形成性を有するカラーフィルター組成物及びカラーフィルター転写フィルムを提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, FORMING METHOD FOR RIB PATTERN, FORMING METHOD FOR HOLLOW STRUCTURE, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性フィルム、リブパターンの形成方法、中空構造の形成方法及び電子部品 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHODS FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND FLEXIBLE WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、及びこれを用いたレジストパターンの製造方法並びにフレキシブル配線板の製造方法 - 特許庁

To provide a photosensitive composition with which a black matrix having excellent pattern precision and hardness is obtained by using nanoimprint lithography.例文帳に追加

ナノインプリントリソグラフィを用い、パターン精度、硬さに優れたブラックマトリックスが得られる感光性組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, MANUFACTURE OF RESIST PATTERN AND PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in depth-of-focus (DOF) characteristics and a resist pattern forming method.例文帳に追加

焦点深度幅（ＤＯＦ）特性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a resist composition which forms a pattern having an excellent shape and DOF.例文帳に追加

優れた形状及びＤＯＦを有するパターンを形成するレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resist composition that can form a pattern having an excellent resolution and line edge roughness.例文帳に追加

優れた解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition that forms a pattern having excellent exposure margin and focus margin.例文帳に追加

優れた露光マージン及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resin for a photoresist composition capable of forming a pattern having satisfactory resolution and exposure margin.例文帳に追加

優れた解像度及び露光マージンを有するパターンを形成できるフォトレジスト組成物用の樹脂の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is superior in weatherability, light and heat resistances and enables a fine pattern to be formed.例文帳に追加

耐候性、耐光性、耐熱性に優れ、微細パターンの形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, LOW-MOLECULAR COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物およびその製造方法、低分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a colored positive radiation-sensitive resin composition having high resolution in a colored cured resin pattern.例文帳に追加

着色硬化樹脂パターンにおいて、解像度の高いポジ型着色感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The present invention provides the optical film pattern-printed with a white pigment composition containing titanium oxide on a surface of a base material.例文帳に追加

基材の表面に酸化チタンを含む白色顔料組成物をパターン印刷してなる光学フィルムである。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition in which a resist pattern having a high resolution and a high aspect ratio is formed.例文帳に追加

高解像度、高アスペクト比であるレジストパターンを形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

COMPOSITION FORMING ANTIREFLECTIVE LIGHT ABSORBING FILM AND METHOD FOR FORMING PATTERN IN SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

反射防止用光吸収膜形成組成物及びこれを利用した半導体素子のパターン形成方法 - 特許庁

WATER-SOLUBLE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING SAME AND PRODUCTION OF COLOR CATHODE-RAY TUBE例文帳に追加

水溶性感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法並びにカラー陰極線管の製造方法 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming a pattern exhibiting sufficient resolution and having high transmittance.例文帳に追加

十分な解像度を示す、高い透過率のパターンを形成し得る感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

ORGANOSILOXANE POLYMERIC COMPOUND, PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD AND SUBSTRATE PROTECTIVE FILM例文帳に追加

オルガノシロキサン系高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板保護用皮膜 - 特許庁

To provide a colored alkali developable photosensitive resin composition giving a pattern of a forward tapered shape.例文帳に追加

順テーパー形状となるパターンを与える着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR DISPLAY PANEL例文帳に追加

フォトレジスト組成物、及びこれを利用したパターンの形成方法、並びに薄膜トランジスタ表示板の製造方法 - 特許庁

CONDENSATE, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PRODUCTION METHOD THEREOF, AND METHOD FOR FORMING NEGATIVE RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

縮合物、感光性組成物およびその製造方法、およびそれを用いたネガ型レジストパターンの形成方法 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION, METHOD OF FORMING METAL PATTERN USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING THIN-FILM TRANSISTOR DISPLAY PANEL例文帳に追加

エッチング液組成物、これを用いた金属パターンの形成方法及び薄膜トランジスタ表示板の製造方法 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition with the excellent coating property so as to form a pattern with the excellent resolution.例文帳に追加

塗布性に優れ、かつ解像性に優れたパターンを形成し得る感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a cement composition with a joint-like pattern bringing about a tiled texture, and the like.例文帳に追加

タイル張りの質感を醸し出す目地状模様を有したセメント組成体の製造方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition with which a pattern which is excellent in terms of adhesion to a substrate is obtained.例文帳に追加

本発明の感光性樹脂組成物によれば、基板との密着性に優れたパターンを得ることができる。 - 特許庁

To provide a salt for an acid generator of a resist composition capable of forming a pattern having excellent resolution.例文帳に追加

優れた解像度を有するパターンを得ることができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition that allows formation of a pattern having a good shape and line edge roughness.例文帳に追加

形状及びラインエッジラフネスが良好なパターンを形成できるレジスト組成物フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING POLYMERIZABLE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND PERMANENT PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

重合性組成物の製造方法、感光性フィルム及びその製造方法、並びに、永久パターンの形成方法 - 特許庁

To obtain a pattern having superior CD uniformity by using resin in a resist composition.例文帳に追加

この樹脂をレジスト組成物に用いることにより、優れたＣＤ均一性を有するパターンを得ることを目的とする。 - 特許庁

To provide a chemically amplified photoresist composition providing a resist pattern having an excellent shape and the like.例文帳に追加

優れた形状等を有するレジストパターンを得ることができる化学増幅型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a curable resin composition which can form a pattern or a coated film excellent in NMP resistance and heat resistance.例文帳に追加

耐ＮＭＰ性、耐熱性に優れたパターンや塗膜を形成できる硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide resist composition having satisfactory defocusing latitude, profiles, and a side lobe margin in preparing the pattern of contact holes.例文帳に追加

コンタクトホールパターン作製の際、デフォーカスラチチュード、プロファイル、サイドローブマージンが良好なレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

ACTIVE ENERGY LINE SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTIVE ENERGY LINE SENSITIVE RESIN FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE FILM例文帳に追加

感活性エネルギー線樹脂組成物、感活性エネルギー線樹脂フィルム及び該フィルムを用いるパターン形成方法 - 特許庁

A transfer pattern to be imprinted is formed by the composition of two or more apertures which penetrate the mask membrane.例文帳に追加

マスクメンブレンを貫通する複数の開口で構成された転写すべき被転写パターンが形成されている。 - 特許庁

ELASTOMER, PHOTOSENSITIVE SOLDER RESIST COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE SOLDER RESIST FILM, PERMANENT PATTERN, AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

エラストマー、感光性ソルダーレジスト組成物及び感光性ソルダーレジストフィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

NEW COMPOUND, ACID GENERATOR, CHEMICAL AMPLIFICATION-TYPE PHOTORESIST COMPOSITION, RESIST LAYER LAMINATE, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

新規な化合物、酸発生剤、化学増幅型ホトレジスト組成物、レジスト層積層体およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED-WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING STEPPED PATTERN USING SAME, AND METHOD FOR PRODUCING INK-JET HEAD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、ならびにこれを用いた段差パターンの製造方法及びインクジェットヘッドの製造方法 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION-TYPE NEGATIVE-WORKING PHOTORESIST COMPOSITION FOR LOW-TEMPERATURE DRY ETCHING AND METHOD FOR PHOTORESIST PATTERN FORMATION USING THE SAME例文帳に追加

低温ドライエッチング用化学増幅型ネガ型ホトレジスト組成物及びこれを用いたホトレジストパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM USING THE SAME, RESIST COATED MASK BLANK, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a photosensitive coating material composition sensitive even to visible light and capable of forming a detailed pattern.例文帳に追加

可視光にも感光し、細密なパターンを形成することができる感光性塗料組成物を提供すること。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁