「pattern composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(42ページ目) - Weblio英語例文検索

When the convex part forming composition-applied layer is irradiated with ultraviolet rays, the convex resin film (a projecting part 20) having the desired pattern can be obtained.例文帳に追加

これに紫外線を照射すると、所望パターンの凸状の樹脂膜(凸部２０)を得ることができる。 - 特許庁

ACTIVE RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, PATTERN FORMING PROCESS USING THE SAME, AND RESIN例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、それを用いたパターン形成方法、及び樹脂 - 特許庁

ACID-MODIFIED POLYESTERIMIDE RESIN, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, PRINTED CIRCUIT BOARD AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

酸変性ポリエステルイミド樹脂、感光性樹脂組成物、レジストパターンの形成方法、プリント配線板及び半導体素子。 - 特許庁

PRINTING INK COMPOSITION, METHOD FOR LETTERPRESS REVERSED OFFSET, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC COMPONENT AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

印刷インキ組成物、凸版反転オフセット法、レジストパターンの形成法、電子部品の製造法及び電子部品 - 特許庁

PHOTO-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF POLYAMIC ACID DERIVATIVE, FORMATION OF POLYIMIDE FILM PATTERN AND ELECTRONIC PART例文帳に追加

感光性樹脂組成物、ポリアミド酸誘導体の製造方法、ポリイミド膜パターン形成方法及び電子部品 - 特許庁

PRINTING METHOD, PATTERN FILM FORMED BY USING THE PRINTING METHOD, AND INK COMPOSITION USED FOR THE PRINTING METHOD例文帳に追加

印刷方法、この印刷方法を用いて形成されたパターン膜、および、この印刷方法に用いるインク組成物 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING FLEXIBLE WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、それを用いたレジストパターンの製造方法及びフレキシブル配線板の製造方法 - 特許庁

MONOMER FOR CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST, POLYMER FOR CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

化学増幅レジスト用単量体、化学増幅レジスト用重合体、化学増幅レジスト組成物、パターン形成方法 - 特許庁

A chemical mechanical polishing composition is useful for chemically mechanically polishing a semiconductor wafer with a pattern containing a nonferrous metal.例文帳に追加

非鉄金属を含有するパターン付き半導体ウェーハのケミカルメカニカルポリッシングに有用なケミカルメカニカル研磨組成物。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR OPTICAL WAVEGUIDE, MANUFACTURING OF THE SAME, AND FORMATION OF HIGH POLYMER OPTICAL WAVEGUIDE PATTERN例文帳に追加

光導波路用感光性組成物およびその製造方法および高分子光導波路パタ—ン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND FLUORINE-CONTAINING POLYMER COMPOUND例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに含フッ素高分子化合物 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME, AND MANUFACTURES OF RESIST PATTERN AND PRINTED CIRCUIT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

To obtain a positive type photoresist composition excellent in shelf stability and giving a resist pattern free from development defects.例文帳に追加

保存安定性に優れ、現像欠陥のないレジストパターンを与えるポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative curable composition having excellent developability at high sensitivity and capable of forming a fine rectangular pattern.例文帳に追加

高感度で現像性に優れ、矩形な微細パターン形成が可能なネガ型硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a high-sensitivity black photosensitive resin composition capable of forming a colored pattern with a large development margin.例文帳に追加

広い現像マージンで着色パターンを形成し得る、高感度の黒色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition for forming a colored pattern and coating film which have excellent sensitivity.例文帳に追加

感度に優れた着色パターン及び塗膜を形成することができる着色感光性組成物を提供する。 - 特許庁

The cover 6 is formed by injecting a resin composition into a molded pattern from an injection molding machine.例文帳に追加

このカバー６は、射出成形機から樹脂組成物を成形型に射出することにより形成されている。 - 特許庁

TOPCOAT COMPOSITION, ALKALI DEVELOPER-SOLUBLE TOPCOAT FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

トップコート組成物、それを用いたアルカリ現像液可溶性トップコート膜及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ANTIREFLECTION POLYMER, ITS PRODUCTION, ANTIREFLECTION FILM COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

反射防止用重合体とその製造方法、反射防止膜組成物、パターン形成方法および半導体素子 - 特許庁

COPOLYMER FOR PHOTORESIST AND ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト用共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び、半導体素子 - 特許庁

PHOTORESIST CROSSLINKING MONOMER, PHOTORESIST CROSSLINKING AGENT, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMATION, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト架橋単量体、フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁

POLYMERIZABLE FLUORINE-CONTAINING SULFONATES, FLUORINE-CONTAINING SULFONATE RESIN, RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

重合性含フッ素スルホン酸塩類、含フッ素スルホン酸塩樹脂、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST MONOMER, PHOTORESIST COPOLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト単量体、フォトレジスト共重合体、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターンの形成方法及び半導体素子 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING POLYMER, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, RESIST PROTECTIVE FILM COMPOSITION CONTAINING THE SAME AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

含フッ素ポリマーとその製造方法、及びそれを含むレジスト保護膜組成物ならびにレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a thermosetting silicon-containing film-forming composition enabling good pattern formation of a photoresist film.例文帳に追加

フォトレジスト膜の良好なパターン形成が可能である熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION FOR DEVELOPMENT WITH BASIC AQUEOUS SOLUTION AND PRODUCTION OF PATTERN USING SAME例文帳に追加

塩基性水溶液現像用ネガ型感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターン製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD AND DISPLAY SUBSTRATE PRODUCTION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物並びにこれを用いたフォトレジストパターンの形成方法及び表示基板の製造方法 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING PHENYLMALEIMIDE DERIVATIVE, POLYMER, CHEMICAL AMPLIFYING RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD USING IT例文帳に追加

フッ素含有フェニルマレイミド誘導体、重合体、化学増幅レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR SANDBLAST RESIST, SANDBLAST RESIST FILM USING THE SAME, AND SANDBLAST RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

サンドブラストレジスト用感光性組成物、及びこれを用いたサンドブラストレジストフィルム、並びにサンドブラストレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR FORMING POLYMER OPTICAL WAVEGUIDE, OPTICAL WAVEGUIDE, AND METHOD FOR FORMING OPTICAL WAVEGUIDE PATTERN例文帳に追加

ポリマー光導波路形成用感光性樹脂組成物、光導波路及び光導波路パターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION AND ADHESIVE FILM USING IT, ADHESIVE SHEET, ADHESIVE PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

感光性接着剤組成物、及びそれを用いた接着フィルム、接着シート、接着剤パターン、並びに半導体装置 - 特許庁

ENERGY LINE-SENSITIVE POLYMERIZABLE COMPOSITION, NEGATIVE RESIST USING THE SAME AND PICTORIAL PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感エネルギー線重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。 - 特許庁

COPOLYMER FOR PHOTORESIST AND ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト用共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having high sensitivity and capable of forming a pattern having high resolution and a high aspect ratio.例文帳に追加

高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度である感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法、プリント配線板の製造法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, THIN-FILM PATTERN FORMING METHOD USING SAME, PROTECTIVE FILM FOR ELECTRONIC EQUIPMENT, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた薄膜パターン形成方法、電子機器用保護膜及び液晶表示素子 - 特許庁

RADIATION CURABLE RESIN COMPOSITION FOR FORMING FINE PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING FINE STRUCTURE USING THE SAME例文帳に追加

微細パターン形成用放射線硬化性樹脂組成物、及び該組成物を用いた微細構造体の製造方法 - 特許庁

To provide a developing solution composition which can form a satisfactory thick-film resist pattern and has less in foaming.例文帳に追加

良好な厚膜レジストパターンを形成できるとともに、泡立ちが少ない現像液組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type radiation-curable composition which has good sensitivity and excellent development performance and with which rectangular fine pattern formation can be performed.例文帳に追加

高感度で現像性に優れ、矩形な微細パターン形成が可能なネガ型硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME, METHOD FOR MAKING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

To provide a radiation sensitive positive composition having a resolution capable of microfabricating a subquarter micron pattern and high sensitivity.例文帳に追加

サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method by which, even when patterning with a second resist composition is performed without using a freezing material in the formation of a resist pattern by double patterning, a fine resist pattern can be formed while retaining the good shape of a first resist pattern.例文帳に追加

ダブルパターニングによるレジストパターンの形成において、フリージング材を用いることなく第二のレジスト組成物によりパターニングした場合でも、第一のレジストパターンの形状を良好に保持したまま微細なレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having improved edge roughness of a pattern and an improved trailing shape on an inorganic substrate and giving an excellent resist pattern profile.例文帳に追加

パターンのエッジラフネスが改良され、無機基板上での裾引き形状も改良された、優れたレジストパターンプロファイルが得られるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

PHOSPHOR-CONTAINING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF PHOSPHOR PATTERN, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USED IN SAME, PHOSPHOR PATTERN AND BACKBOARD FOR PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

蛍光体を含有する感光性樹脂組成物、蛍光体パターンの製造法、これに用いられる感光性エレメント、蛍光体パターン及びプラズマディスプレイパネル用背面板 - 特許庁

To provide a resist treatment method that, in a multi-patterning method, can very finely and highly accurately form a pattern obtained by a resist composition for first resist pattern formation.例文帳に追加

マルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供する。 - 特許庁