「pattern composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(46ページ目) - Weblio英語例文検索

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

INORGANIC PARTICLE-CONTAINING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING FLAT PANEL DISPLAY例文帳に追加

無機粒子含有感光性樹脂組成物、感光性フィルム、パターン形成方法、およびフラットパネルディスプレイの製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN, AND PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、並びに、プリント配線板及びその製造方法 - 特許庁

The bilayer film for pattern formation is obtained by forming a coating film comprising the radiation-sensitive resin composition on the underlayer film.例文帳に追加

パターン形成用多層膜は、該下層膜上に該感放射線性樹脂組成物からなる被膜を形成してなる。 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING RESIN, RESIN USING THE SAME, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD, COMPOUND USED FOR THE SAME例文帳に追加

樹脂の製造方法、それを用いた樹脂、ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法、それに用いられる化合物 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

PHOTO-POLYMERIZATION INITIATOR, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PHOTOSENSITIVE LAYERED PRODUCT, PERMANENT PATTERN FORMING METHOD, AND PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

光重合開始剤、感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、並びにプリント配線板及びその製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION TO BE USED FOR ORGANIC SUBSTANCE LAYER HAVING SURFACE RUGGED PATTERN ON SUBSTRATE, AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT例文帳に追加

基板上に表面凹凸形状を有する有機物層に用いられる感光性樹脂組成物及び感光性エレメント - 特許庁

To provide a resist composition that forms a pattern having good resolution, line width roughness, and line edge roughness.例文帳に追加

優れた解像度、ラインウィドゥスラフネス又はラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition, forming a pattern having excellent shape, focus margin (DOF) and mask error factor (MEF).例文帳に追加

優れた形状、ＤＯＦ及びＭＥＦを有するパターンを形成するレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition which can form a coating film, a pattern and a color filter with high heat resistance.例文帳に追加

高耐熱性の塗膜、パターン及びカラーフィルタを得ることができる着色感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist-modifying composition suitably used in a pattern forming process for enabling a double patterning process.例文帳に追加

ダブルパターニングプロセスを可能にするためのパターン形成方法に好適に用いられるレジスト変性用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an etchant composition for a copper-containing material, which can form a fine pattern without causing a defect in the shape.例文帳に追加

形状不良なしに微細な回路パターンを形成し得る銅含有材料用エッチング剤組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in depth of field (DOF) characteristics, and also to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

焦点深度幅（ＤＯＦ）特性に優れたポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition capable of forming a coating film, a pattern and a color filter with excellent heat resistance.例文帳に追加

耐熱性に優れた塗膜、パターン及びカラーフィルタを形成し得る着色感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, THICK-FILM PHOTORESIST LAYERED BODY, METHOD FOR MANUFACTURING THICK-FILM RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING CONNECTING TERMINAL例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物、厚膜ホトレジスト積層体、厚膜レジストパターンの製造方法および接続端子の製造方法 - 特許庁

PEELING LIQUID FOR REMOVING THICK-FILM PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION LAYER, METHOD FOR REMOVING RESIST PATTERN AND PRODUCTION OF PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

厚膜感光性樹脂組成物層除去用剥離液、レジストパターンの除去方法及びプラズマディスプレイパネルの製造法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION, THICK FILM PHOTORESIST LAMINATED BODY, METHOD FOR MANUFACTURING THICK FILM RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING CONNECTING TERMINAL例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物、厚膜ホトレジスト積層体、厚膜レジストパターンの製造方法および接続端子の製造方法 - 特許庁

To provide a negative type resist composition having high sensitivity, excellent also in resolution and capable of forming a fine pattern.例文帳に追加

高感度で解像性にも優れた微細パターンを形成することができるネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法およびプリント配線板の製造法 - 特許庁

To provide a chemically amplified type photoresist composition for obtaining a pattern having an excellent shape and line edge roughness.例文帳に追加

優れた形状及びラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができる化学増幅型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION, ADHESIVE FILM OBTAINED BY USING THIS, ADHESION SHEET, ADHESIVE PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

感光性接着剤組成物、これを用いて得られる接着フィルム、接着シート、接着剤パターン、及び半導体装置 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、パターン並びにその製造方法、有機ＥＬ表示装置、液晶表示装置及び半導体素子 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

To provide a photosensitive composition for manufacturing a resin pattern which endures an oscillation of high frequency.例文帳に追加

周波数の高い振動に対しても耐えることができる樹脂パターン作製するための感光性組成物の提供。 - 特許庁

The pattern material 4 is added to the resin compound 3 for manufacturing the artificial marble and the resulting composition is molded to manufacture the artificial marble.例文帳に追加

人造大理石製造用樹脂コンパウンド３に柄材４を入れて成形する人造大理石の製造方法である。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

To obtain a photosensitive resin composition having high sensitivity and capable of forming a pattern having high resolution and a high aspect ratio.例文帳に追加

高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度な感光性樹脂組成物を得ることを課題とする。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法およびプリント配線板の製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

RESIST FILM, RESIST COATED MASK BLANK USING RESIST FILM, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION例文帳に追加

レジスト膜、該レジスト膜を用いたレジスト塗布マスクブランクス及びレジストパターン形成方法、並びに、化学増幅型レジスト組成物 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which enables to form a pattern in film thickness uniformity on an uneven substrate.例文帳に追加

段差のある基板上に膜厚均一性に優れたパターンを形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED CIRCUIT BOARD BY USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, pattern shape, etc., and ensuring small line edge roughness.例文帳に追加

感度、解像度、パターン形状等に優れ、かつラインエッジラフネスの小さい感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOCURABLE RESIN, PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, METHOD OF FORMING FINE CONCAVE-CONVEX PATTERN, TRANSFER FOIL, OPTICAL ARTICLE, AND STAMPER例文帳に追加

光硬化性樹脂、光硬化性樹脂組成物、微細凹凸パターン形成方法、転写箔、光学物品及びスタンパー - 特許庁

POLYVINYL ACETATE SAPONIFICATION PRODUCT-BASED PHOTOSENSITIVE RESIN, AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND FORMATION OF PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポリ酢酸ビニルケン化物系感光性樹脂及び感光性樹脂組成物並びにそれを用いたパタ—ン形成方法 - 特許庁

To provide an excellent solvent composition without any collapse of a fine resist pattern when being dried after removing a rinsing agent.例文帳に追加

リンス剤を除去、乾燥させる際に、微細なレジストパターンが倒壊する問題のない優れた溶剤組成物の提供。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, PROCESS FOR PRODUCING RESIST PATTERN, AND PROCESS FOR PRODUCING PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT OBTAINED BY USING THE SAME, PROCESS FOR PRODUCING RESIST PATTERN, AND PROCESS FOR PRODUCING PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THESE AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性エレメント、これらを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a curable resin composition from which a coating film or a pattern with high transmittance can be formed by a printing method.例文帳に追加

印刷法によって、高い透過率の塗膜またはパターンを形成し得る硬化性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁