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ring patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 209件
The photosensitive polymer composition contains (a) a polyimide precursor or polyimide soluble with an alkali aqueous solution, (b) a compound which produces acid by light and (c) a compound having at least one tertiary alcohol having a hydroxyl group on the carbon atom directly bonded with an aromatic ring, and the composition is used for the method for manufacturing a pattern and for the electronic parts.例文帳に追加
(a)アルカリ水溶液可溶性のポリイミド前駆体又はポリイミド、(b)光により酸を発生する化合物、並びに、(c)芳香環に直接結合した炭素上に水酸基を有する三級アルコールを少なくとも1つ以上有する化合物を含有してなる感光性重合体組成物及びパターン製造法及び電子部品。 - 特許庁
A substrate holder suits a small wafer to the wafer table of the lithographic apparatus for receiving a large wafer and comprises a large silicon wafer having a bar pattern for arranging the small wafer, a positioning pin for accurately arranging the small wafer, and a clamp formed by a magnet mounted to a clamp ring and the larger wafer.例文帳に追加
大きなウェハを受けるようにされたリソグラフィ装置のウェハテーブルに小さいウェハを適合させるための基板ホルダは、小さいウェハを配置するバールパターンを備えた大きなシリコンウェハと、小さいウェハを正確に配置するための位置決めピンと、クランプリングと大きなウェハに取り付けされた磁石により形成されたクランプとから構成される。 - 特許庁
A semiconductor device 1 includes a substrate 10, a transistor 20b having a ring-shaped gate electrode 21 formed on the substrate 10, a plurality of external dummy patterns 40 which are disposed outside the gate electrode 21, and are formed in the same layer as for the gate electrode 21, and at least one internal dummy pattern 41 which are disposed inside the gate electrode 21, and are formed in the same layer as for the gate electrode 21.例文帳に追加
半導体装置1は、基板10と、基板10上に形成されたリング形状のゲート電極21を有するトランジスタ20bと、ゲート電極21の外側に配置され、ゲート電極21と同層に設けられる複数の外部ダミーパターン40と、ゲート電極21の内側に配置され、ゲート電極21と同層に設けられる少なくとも1つの内部ダミーパターン41とを備える。 - 特許庁
In this structure electrically connecting the solder ball 2 serving as a connection electrode of the semiconductor IC 1 to a land pattern 4 formed on a inspection circuit base board 3, contacts 5 each formed of a ring-shaped coil spring are arranged in correspondence to the respective solder balls 2, and the solder balls 2 are forcibly pressed to the contacts 5.例文帳に追加
半導体IC1の接続電極としての半田ボール2を検査回路基板3上に形成されたランドパターン4に電気的に接続する構造であって、検査回路基板3のランドパターン4上には、半田ボール2に個別に対応してコイルばねをリング状に形成してなる接触子5が設けられており、これらの接触子5に対して半田ボール2が圧接されている。 - 特許庁
The projection aligner comprises an optical system for illuminating a reticle, and an optical system for projecting the pattern of the reticle onto a wafer wherein the illumination optical system comprises an optical deflection element for converting a light incident to an optical integrator into a ring-like light and the optical deflection element has a variable position in the direction perpendicular to the optical axis in the optical path.例文帳に追加
レチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンをウエハ上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記照明光学系は、オプティカルインテグレータに入射する光を輪帯状の光に変換する光偏向素子を有し、該光偏向素子は光路内における光軸に垂直な方向の位置が可変であること。 - 特許庁
The surface treating agent contains at least one compound having at least one structure in which adjacent carbon atoms on a benzene ring have a group expressed by X and a group expressed by -CH_2-OR_1 (X indicates univalent organic group, hydroxyl group, amino group or mercapto group. R_1 indicates a hydrogen atom or univalent organic group), and the pattern forming method uses the surface treating agent.例文帳に追加
ベンゼン環上の隣り合う炭素原子に、Xで表される基と−CH_2−OR_1で表される基とを有する構造(Xは1価の有機基、水酸基、アミノ基、メルカプト基を表す。R_1は、水素原子、または、1価の有機基を表す。)を少なくとも一つ有する化合物を含有することを特徴とする表面処理剤、及び、当該表面処理剤を用いたパターン形成方法。 - 特許庁
A lithography device comprising a substrate table that holds a substrate, a projection system so configured as to project a radiation beam whose pattern is formed on the substrate, a liquid feed system so configured as to feed liquid into a space among the projection system, the substrate and the substrate table, and a ring so disposed as to cover a gap between the substrate and the substrate table and to come into contact with the substrate and the substrate table.例文帳に追加
基板を保持する基板テーブルと、基板上にパターン形成された放射ビームを投影するように構成された投影システムと、投影システムと基板と基板テーブルとの間の空間に液体を提供するように構成された液体供給システムと、基板と基板テーブルとの間のギャップを覆うように設けられ、基板および基板テーブルと接触するリングとを含むリソグラフィ装置。 - 特許庁
To provide a new method for efficiently producing monomer useful for introducing a construction unit having a specific butyrolactone ring into an acrylic resin so as to obtain a chemical amplification type photoresist composition having good transparency to ArF excimer laser, exhibiting excellent sensitivity, resist pattern forms, dry etching resistance and adhesiveness and having high affinity to alkalis.例文帳に追加
ArFエキシマレーザーに対して良好な透明性を有し、優れた感度、レジストパターン形状、耐ドライエッチング性及び密着性を示し、アルカリに対し高い親和性を有する化学増幅型ホトレジスト組成物を得るため、アクリル系樹脂に、特定のブチロラクトン環をもつ構成単位を導入するが、その導入のために有用な単量体を効率よく製造するための新規な製造方法を提供する。 - 特許庁
The midway part of each gold wire of these gold wire brushes 4 touches the gold pattern 12, 17 to configure a gold contact slip ring.例文帳に追加
一実施形態によれば、軸周りに回転可能に支持される軸体2と、それぞれこの軸体2に空隙を介して回転可能に積層配置され、各内周壁の上に金パターン17が周回形成された複数の電極リング7と、各外周壁の上に金パターン12が周回形成された複数の電極リング8と、これらの電極リング7、8ごとに設けられ、それぞれが複数本の金ワイヤを有する複数段の金ワイヤブラシ4と、を備え、これらの金ワイヤブラシ4の各金ワイヤの途中部が金パターン12、17と接触し金接点スリップリングを構成することを特徴とするスリップリング装置1が提供される。 - 特許庁
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