| 例文 |
wavelength modificationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 10件
LATTICE MODIFICATION TYPE PHOTONIC CRYSTAL WAVELENGTH FILTER, ARRAY TYPE WAVELENGTH MULTIPLEXER/DEMULTIPLEXER USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING THEM例文帳に追加
格子変調型フォトニック結晶波長フィルタ及びこれを用いたアレイ型波長合分波器並びにこれらの製造方法 - 特許庁
To improve detection sensitivity and wavelength resolution, by simple modification in an existing wavelength dispersive X-ray analyzer using a Johansson type X-ray spectroscope.例文帳に追加
ヨハンソン型Ｘ線分光器を用いた既存の波長分散型Ｘ線分析装置に対し、簡単な改造で以て検出感度及び波長分解能を改善させる。 - 特許庁
To provide a manufacturing technology of a semiconductor device using a defective modification technology of a reflective mask which lets extreme ultraviolet (EUV) light having the wavelength of near 13.5 nm be an exposure light source.例文帳に追加
波長が１３．５ｎｍ付近の極端紫外(Extreme Ultra Violet：ＥＵＶ)光を露光光源とする反射型マスクの欠陥修正技術を利用した半導体装置の製造技術を提供する。 - 特許庁
In a ceramic green sheet containing a glass powder for laser processing, metal ions having an absorption band in wavelength region of the laser beam are added to the glass powder as modification ions.例文帳に追加
ガラス粉末を含むレーザ加工用のセラミックグリーンシートにおいて、該ガラス粉末に、レーザ光の有する波長領域に吸収帯を有する金属イオンを修飾イオンとして添加する。 - 特許庁
To provide a manufacturing technique of a semiconductor integrated circuit apparatus utilizing a defect modification technique of a reflection-type mask which uses an extreme ultra violet light (EUV) with a wavelength near 13.5 nm as an exposure light source.例文帳に追加
波長が１３．５ｎｍ付近の極端紫外(Extreme Ultra Violet：ＥＵＶ)光を露光光源とする反射型マスクの欠陥修正技術を利用した半導体集積回路装置の製造技術を提供する。 - 特許庁
To provide a new modification method for glass having UV cut off performance by which the adverse effect of an alkali component can be decreased while keeping excellent transmission characteristics with sharp cut off property against UV rays at specified wavelength or shorter.例文帳に追加
紫外線遮断性能を有するガラスについて、特定波長以下の紫外線のみをシャープに遮断する優れた透過特性を維持した上で、アルカリ成分による悪影響を低減することができる新規な改質方法を提供する。 - 特許庁
In a pattern formation method in which a photosensitive composition containing a photochromic compound showing photochromism by inserting modification groups into a basic skeleton with rings reversibly opening and closing by light and/or heat, the base skeleton has a structure represented by formula I, and the photosensitive composition is irradiated with a ring-opening wavelength light so that the substance migration of the photosensitive composition is performed.例文帳に追加
光及び／又は熱によって可逆的に開環−閉環する環を有する基本骨格に修飾基が導入されてフォトクロミズムを示すフォトクロミック化合物を含む感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、基本骨格は、式Ｉ - 特許庁
An OUT2-IF card 20 of wavelength (λ2 in Fig.) that differs from a modification target is prepared, and the input terminal of a non-connection SEL 15 of a 2.4G client IF card 14 and the output terminal of a DIS16 are connected to one set of I/O terminals of the OUT2-IF card 20.例文帳に追加
変更対象とは異なる波長（図では、λ２）のＯＴＵ２−ＩＦカード２０を準備し、２．４ＧクライアントＩＦカード１４の未接続のＳＥＬ１５の入力端子、ＤＩＳ１６の出力端子とＯＴＵ２−ＩＦカード２０の１組の入出力端子を接続する。 - 特許庁
For example, the molecular extinction coefficient can be increased to ≥1,500 by chemical modification by irradiating a biodegradable aliphatic polyester film with ultraviolet rays and easiness to tear and twist fixing properties appear in the film though the molecular extinction coefficient of a film obtained by usual film formation at 205 nm wavelength is <1,500.例文帳に追加
例えば、生分解性脂肪族ポリエステルフィルムに紫外線を照射することにより、通常の製膜で得たフィルムの波長２０５ｎｍにおける分子吸光係数は１５００未満であるが、化学変性によって、該分子吸光係数を１５００以上に増加させることができ、フィルムに易引裂き性とひねり固定性が発現する。 - 特許庁
The print data distribution and modification system converts the page layout data of PostScript form, which are generated by an imaging device 1, into PDF data using a PDF converter and transmits the page layout data to the downstream side terminals via a high-speed large capacity communication line 10 that consist of optical fiber and a wavelength division multiplexer.例文帳に追加
光ファイバと波長分割多重装置によって構築されたマルチプロトコルの高速大容量回線１０を用いて、センター側のイメージング装置１で生成したＰｏｓｔＳｃｒｉｐｔのページレイアウトデータをＰＤＦ変換装置がＰＤＦデータに変換して高速大容量回線１０を介して下流の端末側に送信する。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
検索履歴を保存できる！
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
