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バイアススパッタリングの英語
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英訳・英語 bias sputtering
「バイアススパッタリング」を含む例文一覧
該当件数 : 10件
バイアススパッタリング装置例文帳に追加
BIAS SPUTTERING APPARATUS - 特許庁
バイアススパッタリング装置例文帳に追加
BIAS SPUTTERING DEVICE - 特許庁
バイアススパッタリング方法及び弾性波装置の製造方法例文帳に追加
BIAS SPUTTERING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING ELASTIC WAVE APPARATUS - 特許庁
高周波バイアススパッタリングにより絶縁耐圧の良い絶縁膜を基板に成膜すること例文帳に追加
To form an insulating film good in insulating pressure-resistance on a substrate by high frequency bias sputtering. - 特許庁
第１の導電膜１８を覆うように圧電基板１０の上に誘電体層２０をバイアススパッタリング法により形成する。例文帳に追加
A dielectric layer 20 is formed by a bias-sputtering method on the piezoelectric substrate 10 to cover the first conductive film 18. - 特許庁
安定した膜質で薄膜を形成し得るバイアススパッタリング方法及びそれを利用した弾性波装置の製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a bias sputtering method which can form a thin film with stable film quality and to provide a method for producing an elastic wave apparatus using the same. - 特許庁
絶縁基板1 上に発熱抵抗体層3 及び一対の導電層4,4 を順次被着させるとともに、これらを保護層5 にて被覆して成るサーマルヘッドの製造方法であって、前記保護層5 は少なくとも３層構造を有し、上層5c及び下層5aをノンバイアススパッタリング法で、中層5bをバイアススパッタリングで形成する。例文帳に追加
In a method for manufacturing a thermal head by forming a resistor layer 3 and a pair of conductive layers 4, 4 sequentially on an insulating substrate 1 and coating them with a protective layer 5, the protective layer 5 has at least three layer structure including upper and lower layers 5c, 5a formed by non-bias sputtering and an intermediate layer 5b formed by bias sputtering. - 特許庁
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「バイアススパッタリング」を含む例文一覧
該当件数 : 10件
供給された電力の総和である積算電力の異なる複数種類のターゲット１２ａ〜１２ｃを用いてバイアススパッタリングすることにより薄膜を形成する。例文帳に追加
A thin film is formed by performing bias sputtering by using a plurality of types of targets 12a to 12c which differ in integral electric power being the total sum of supplied electric powers. - 特許庁
基板前面外周部にシャドーを形成する方式のバイアススパッタにおいて、バイアス電力印加時の不安定要因を排除し、安定的なバイアス電力印加が可能であって、信頼性の向上されたバイアススパッタリング装置を提供する。例文帳に追加
To provide a bias sputtering apparatus with enhanced reliability, which can make a bias power stable by eliminating unstable factors of the applied bias power, when forming a shadow on the front periphery of a substrate with the bias sputtering method. - 特許庁
少なくとも一方が酸化物であり、且つ互いに異なる材料からなる第１及び第２の領域を有する基板を用意する工程、及びバイアススパッタリング法により、該第１及び第２の領域のいずれか一方に選択的に成膜する工程を有する膜の製造方法。例文帳に追加
The method for producing a film comprises: a stage where a substrate having first and second regions in which at least either is made of oxide, and also, which are made of mutually different materials is prepared; and a stage where a film is selectively deposited on either the first region or the second region by a bias sputtering process. - 特許庁
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