Z-measurementとは 意味・読み方・使い方

To prevent unbalanced load generated by the probe pressure of a probe unit from acting on a measurement stage by raising a Z-stage by means of a Z-drive source provided on the outside of the measurement stage, by not incorporating the drive mechanism of the Z-stage in the measurement stage.例文帳に追加

Ｚステージの駆動機構を測定ステージに組み込まないようにして、測定ステージの外部にあるＺ駆動源によってＺステージを上昇させることで、プローブユニットの針圧による偏荷重が測定ステージに作用しないようにする。 - 特許庁

A measurement beam LB is projected on a measurement surface (scale) 39Y_2 provided partially on an upper surface of a stage WST from a Z head 72a, and a reflected beam from the measurement surface is received to measure Z-axial surface position information on the measurement surface at a projection point of the measurement beam LB.例文帳に追加

Ｚヘッド７２ａからステージＷＳＴの上面の一部に設けられた計測面（スケール）３９Ｙ_2に計測ビームＬＢを投射し、その計測面からの反射ビームを受光して、計測ビームＬＢの投射点における計測面のＺ軸方向に関する面位置情報を計測する。 - 特許庁

The vibrator 11A which uses measurement of physical quantities corresponding to a predetermined detection axis Z, is provided.例文帳に追加

所定の検出軸Ｚに対応する物理量を測定するのに用いる振動子１１Ａを提供する。 - 特許庁

The correspondence between an m/z value and a (q, CID) value pair is set by preliminary measurement.例文帳に追加

ｍ／ｚ値と（ｑ，ＣＩＤ）値対との間の対応は、予備測定検量によって設定可能である。 - 特許庁

LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD UTILIZING FLAT PANEL DISPLAY (FPD) CHUCK Z POSITION MEASUREMENT例文帳に追加

リソグラフィ装置及びＦＰＤチャックＺ位置測定を利用したデバイス製造方法 - 特許庁

The measurement device includes a Z-axis guide mechanism 30Z guiding a Z-spindle 17 relative to a Y-slider 16 so that the Z-spindle 17 can move in a direction perpendicular to the movement directions of an X-slider 14 and the Y-slider 16.例文帳に追加

Yスライダ１６に対して、Ｚスピンドル１７をXスライダ１４およびYスライダ１６の移動方向に対して直交する方向へ移動可能にガイドするＺ軸ガイド機構３０Ｚを有する測定装置。 - 特許庁

To effectively suppress the occurrence of the measurement error of a head (for example, an encoder and a Z sensor) caused by abnormality in a measurement surface, and further the occurrence of operation abnormality.例文帳に追加

計測面の異常に起因するヘッド（例えばエンコーダ、Ｚセンサなど）の計測誤差、さらに動作異常の発生を効果的に抑制する。 - 特許庁

A calibration device is configured to measure the Ry of the object support with the X interferometer measurement system in at least two different Z positions, measure the Ry of the object support with the Z interferometer measurement system in at least two different Z positions, calibrate the linear Z dependency of the Ry on the basis of the measurements, and calibrating the linear X dependency of Z on the basis of the previous calibration.例文帳に追加

較正デバイスは、Ｘ干渉計測定システムを使用して、少なくとも２つの異なるＺ位置で対象物支持体のＲｙを測定し、Ｚ干渉計測定システムを使用して、少なくとも２つの異なるＺ位置で対象物支持体のＲｙを測定し、測定した測値に基づいてＲｙの一次Ｚ依存性を較正し、且つ、該較正に基づいてＺの一次Ｘ依存性を較正するようになされている。 - 特許庁