extreme ultraviolet wavelengthとは 意味・読み方・使い方

The plurality of multilayer film reflecting mirrors are arranged along the optical path of electromagnetic waves, and reflection wavelength characteristics differ at a wavelength region other than the extreme ultraviolet region in at least two multilayer film reflecting mirrors.例文帳に追加

複数の前記多層膜反射鏡は、前記電磁波の光路に沿ってそれぞれ配置され、少なくとも２つの前記多層膜反射鏡の前記極端紫外域以外の波長域における反射波長特性が相互に異なる。 - 特許庁

To enable an ultra-microfabrication exceeding the conventional techniques and using a resist material having low absorption in the wavelength region of extreme-ultraviolet radiation (EUV) while ensuring etching resistance by using a specified polymeric material.例文帳に追加

特定の高分子材料を用いることにより、エッチング耐性を確保しつつ極紫外線（ＥＵＶ）の波長領域での吸収の小さいレジスト材料を用い、これまで以上の極微細加工を可能とする。 - 特許庁

This resist film 11 is selectively irradiated with extreme-ultraviolet radiation 12 having a wavelength of 1 to 30 nm band to carry out patternwise exposure and the patternwise exposed resist film 11 is developed to form the objective resist pattern 14.例文帳に追加

レジスト膜１１に対して、１ｎｍ帯〜３０ｎｍ帯の波長を持つ極紫外線１２を選択的に照射してパターン露光を行なった後、パターン露光されたレジスト膜１１を現像してレジストパターン１４を形成する。 - 特許庁

To provide a reflective mask blank for extreme ultraviolet (EUV) lithography in which the mask has low reflectance in a wavelength range of EUV light and pattern inspection light and has an absorbent layer that is easily controlled to a desired film composition and a film thickness.例文帳に追加

ＥＵＶ光およびパターン検査光の波長域の反射率が低く、かつ該所望の膜組成および膜厚に制御することが容易な吸収体層を有するＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクの提供。 - 特許庁

The low fuel consumption for the high combustible output is attempted by burning the circulating air-fuel mixture and air by ionizing it in high density by arranging an extreme ultraviolet radiation radiator capable of radiating extreme ultraviolet radiation central wavelength of which is 184.9 nm uniformly in the air-fuel mixture or the air circulating in the gasoline engine or in the inside of an intake manifold of the diesel engine.例文帳に追加

ガソリンエンジン若しくはディーゼルエンジンのインテークマニホールド内を流通する混合気若しくは空気に、均等に且その中心波長が１８４．９ｎｍの遠紫外線を放射しえる遠紫外線放射体を配設せしめ、流通する混合気や空気を高密度にイオン化させて燃焼させることにより、高燃焼性出力に伴う低燃費化を図る。 - 特許庁

When the radiation intensity distribution of light having a wavelength longer than the extreme ultraviolet light varies, positioning (alignment) or the like of a discharge portion and the condenser mirror is carried out by recognizing the shift of an optical axis as a cause of the variation of the radiation intensity distribution.例文帳に追加

また、極端紫外光よりも長波長の光の放射強度分布も変化している場合は、放射強度分布変化の原因は光軸のずれが生じているためであるとして、放電部と集光鏡の位置合せ（アライメント）等を行なう。 - 特許庁

To find new possibility for generating extreme ultraviolet rays based on plasma radiating radiant rays wherein technical and financial loads for plasma generation are not practically increased, and the radiation output of an EUV source is increased in a wavelength region higher than the L absorption edge of silicon.例文帳に追加

プラズマ発生のための技術的及び金銭的な負担が実質的に増加されず、ＥＵＶ源の放出出力がシリコンのＬ吸収端よりも高い波長領域内で増加される、放射線放出するプラズマを基礎にして極紫外放射線を発生させるための新たな可能性を見つけること。 - 特許庁

The method includes the steps of: accommodating the reflecting optical member deposited with the carbon contamination and reflecting an extreme ultraviolet ray having a wavelength of 100 nm or shorter in a processing chamber; and exposing the reflecting optical member to an atmosphere containing an active species generated by reacting unsaturated hydrocarbon with ozone gas in the processing chamber.例文帳に追加

炭素汚染物が付着し、波長が１００ｎｍ以下の極端紫外線を反射する反射光学部材を、処理室内に収容する工程と、前記処理室内において前記反射光学部材を不飽和炭化水素とオゾンガスとを反応させて発生させた活性種を含む雰囲気中に曝す工程とを設ける。 - 特許庁