けんまくりゅうの英語

さらに、気孔を介して研磨空隙内に加圧流体の流れを発生させた状態のもとで被加工面Ｗａを加工面Ｇａにより研磨加工し、気孔を介して研磨空隙内に負圧流体の流れを発生させた状態のもとで被加工面Ｗａを加工面Ｇａにより研磨加工する。例文帳に追加

Additionally, the worked surface Wa is polished and worked by the working surface Ga under a state causing a flow of pressure fluid in the grinding cavity through the pores and the worked surface Wa is polished and worked by the working surface Ga under a state of causing a flow of negative pressure fluid in the grinding cavity through the pores. - 特許庁

研磨もしくは洗浄廃液中の研磨屑、凝集粒子を効果的に除去し、研磨材もしくは洗浄剤となる粒子を効率良く回収し再利用することのできる半導体装置の製造方法及び製造装置を実現する。例文帳に追加

To effectively remove abrasive scraps in a polishing or cleaning waste liquor and agglomerated particles, to efficiently recover particles, which are used as an abrasive material or a cleaning agent, and to contrive to make it possible to reutilize the particles. - 特許庁

ポリッシング後の表面に残留する砥粒、研磨屑等を効率的に洗浄除去し、さらに、除去された該砥粒、研磨屑の再付着を防止する性能を有し、研磨砥粒を含むスラリーの飛散した個化付着物を効率的に除去出来る洗浄剤を提供すること。例文帳に追加

To provide a detergent which effectively removes polishing chips, abrasive grains or the like remaining on the surface after polishing, has performance capabile of preventing the removed polishing chips or abrasive grains from reattaching, and can effectively remove a solidified deposit over which slurry containing polished abrasive grains is scattered. - 特許庁

形成した流水膜６によって、飛散したスラリーＳや研磨屑をスラリー飛散防止カバー５の内壁に到達させることなく流し去ることができるので、スラリーＳや研磨屑が飛散防止カバー５から跳ね返ること、そして研磨パッド２へ再付着することを防止できる。例文帳に追加

Scattering slurry S and abrasive waste can be washed away without reaching the inner wall of the slurry scattering preventive cover 5 by the formed flowing water film 6, so that the slurry S and the abrasive waste can be prevented from bounding from the scattering preventive cover 5 and again adhering to the polishing pad 2. - 特許庁

ポリッシング装置１０１は、定盤２と、被研磨物である半導体ウェハ３が貼り付けられたウェハ保持治具４を定盤２の研磨面に押しつけるフィクスチャー５と、研磨砥液６を供給する研磨剤供給部１０２と、研磨屑１１を含む研磨砥液６を洗い流す流体噴射部１０３とで構成され、研磨剤供給部１０２を定盤２の回転方向に対しウェハ保持治具４の上流側でかつ定盤２の半径方向に配置し、研磨により生じる研磨屑１１を含む研磨砥液６を定盤２上から洗い流すための流体を噴射する流体噴射部１０３をウェハ保持治具４の下流側でかつ定盤２の半径方向に配置する。例文帳に追加

The fluid jet part 103 ejecting fluid for washing away the abrasive fluid 6 including the polishing chips 11 generated by the polishing is disposed in the downstream of the wafer retainer jig 4 and in the radius direction of the surface plate 2. - 特許庁

また、低圧流路に氷結トラップ３３を設置し、試験膜を透過した試験ガス中の水蒸気を氷結トラップにより氷に凝縮するものである。例文帳に追加

A freezing trap 33 is installed in the low-pressure flow channel, and the steam in the test gas transmitted through the test membrane is condensed to ice by the freezing trap. - 特許庁

研磨装置において、従来から設けられてあるモータによりドレッシング中に検出された電流値とドレッサの使用時間とに基づいて研磨クロスの交換時期を判定する。例文帳に追加

In this polishing device, the replacement timing of the polishing cloth is determined based on a current value and the operating time of a dresser detected in the course of dressing by a motor provided before. - 特許庁

種々の仕上げ塗装工程が不要となり、極めて簡単な構成で、仕上げ処理時間を大幅に短縮させ、また、処理中に、研磨屑や塗料微粒子を一切排出させず、作業環境を良好に維持する。例文帳に追加

Besides, it is possible to bring about neither polishing waste nor coating particles in processing and to excellently maintain a working environment. - 特許庁