ささいな点の英語

元の経路候補における出発点から目標点までの間の長さ（最小順番Ｐ）と、求めた部分補正経路の長さ（再検索順番Ｑ）とを比較する。例文帳に追加

The method compares a length (minimum order P) of the starting point to the end point of an original candidate with the length (re-retrieval order Q) of the partially substituted path. - 特許庁

画像読取装置において、原稿読み取りに必要なランプ点灯を副走査サイズ判定に必要な時間幅だけ行う。例文帳に追加

In the image reader, a lamp is lit for a time width required for determining the vertical scanning size which is required for reading an original. - 特許庁

誤差最小色度検出回路２２は検出された領域の中の３原色再現点をＲＯＭ１１ｆから読出す。例文帳に追加

The error minimum chromaticity detection circuit 22 reads a primary color reproduction point in the detected area from a ROM 11f. - 特許庁

ほんの些細な点でもそれを満さない行動することは、私の社会的権利を侵害することであり、その不満を除去するよう立法府に求める要求を与えることになるです。例文帳に追加

that whosoever fails thereof in the smallest particular, violates my social right, and entitles me to demand from the legislature the removal of the grievance.発音を聞く  - John Stuart Mill『自由について』

ハウジングに挿入可能な異なるタイプのストレージデバイスに共通の取出し点を提供するために、スタンドオフまたは他の長さ差異化機構が配置され、サイズ設定されてもよい。例文帳に追加

Stand-offs or other length differentiating features may be disposed and sized to provide a common pick point among storage devices of different types insertable in the housing. - 特許庁

ここで、突起部ＰＬＡ、ＰＬＢ、ＰＬＣの基板１１表面からの高さ（最高点の高さ）は、画素形成領域Ｒpx内の他の素子（特にトランジスタＴｒ１１、Ｔｒ１２）部分の高さよりも高くなるように形成されている。例文帳に追加

Here, a height (a height of the highest point) of the projections PLA, PLB, and PLC from the surface of a substrate 11 is formed to be higher than that of the other element (transistors Tr11, Tr12 in particular) parts in the pixel formation area Rpx. - 特許庁

しかし慶長11年（1606年）の川中島12万石の太守であった時点で、弟の義直（7歳）は甲斐国府中25万石、頼宣（5歳）は常陸国水戸藩25万石、頼房（4歳）には常陸下妻藩10万石を与えている。例文帳に追加

At the time Tadateru was the governor-general of 120,000 koku (crop yield) in Kawanakajima, on the other hand, Ieyasu gave 250,000 koku (crop yield) of Fuchu, Kai Province to his brother Yoshinao (7 years old), 25,000 koku (crop yield) of Mito Domain, Hitachi Province to Yorinobu (5 years old) and 10,000 koku (crop yield) of Shimotsuma Domain, Hitachi Province to Yorifusa (4 years old).発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

また、２層目の重ね合わせ検査マークのパターン２と、２層目の本番パターン１とが、段差（最大でも上下０．６μｍずつ）を有して形成される場合にも、焦点深度（１．２μｍ）を確保することが可能となる。例文帳に追加

Also, even when the overlap inspection mark pattern 2 in the second layer and the production pattern 1 in the second layer are formed with differences in levels (0.6 μm up and down respectively at the maximum), it is possible to ensure the depth of focus (1.2 μm). - 特許庁