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せれーしょんぶろーちの英語
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「せれーしょんぶろーち」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 9243件
基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を含む。例文帳に追加
The substrate processor 500 includes an indexer block 9, antireflective film processing block 10, resist film processing block 11, developing processing block 12, resist cover film processing block 13, resist cover film removing block 14, cleaning/drying processing block 15, and interface block 16. - 特許庁
分析装置２が得た分析データはデータ解析処理部６に送信され、データ解析処理部６で分析データの解析が行なわれる。例文帳に追加
Analysis data acquired by the analysis device 2 are transmitted to the data analyzing processing part 6, and analysis of the analysis data is performed by the data analyzing processing part 6. - 特許庁
ジョブローテーションは職務再設計の典型的な一例である。例文帳に追加
Job rotation is a typical example of job redesign. - Weblio英語基本例文集
押出ブロー成形用の高耐衝撃性ポリオキシメチレン例文帳に追加
HIGH IMPACT RESISTANT POLYOXYMETHYLENE FOR EXTRUSION BLOW MOLDING - 特許庁
所定のエラー訂正コードをもつ入力データをエラー訂正ブロック内でインタリーブし、ブロック内でインタリーブされたデータを出力するブロック内インタリーバ１０４と、ブロック内でインタリーブされたデータを所定数のエラー訂正ブロック単位でブロック間インタリーブし、ブロック間インタリーブされたデータを出力するブロック間インタリーバ１０６とを含むインタリーブ回路。例文帳に追加
This interleaving circuit includes an intra-block interleaver 104 which interleaves input data having a prescribed error-correcting code in an error-correcting block and outputs the data interleaved in the block, and an intra-block interleaver 106 which interleaves the data interleaved in the block in prescribed number of error-correcting blocks among blocks and which outputs the data interleaved among blocks. - 特許庁
診断支援処理実行プログラム８０は、画像入力・管理ブロック８１、 データベース管理ブロック８２、仮ＲＯＩ設定ブロック８３，特徴量算出ブロック８４、ＲＯＩ設定ブロック８ ５、 判別分類ブロック８６、レポート作成ブロック８７及び画像処理ブロック８８からなっている。例文帳に追加
The diagnostic supporting process implementation program 80 consists of image input-control block 81, data base control block 82, provisional ROI set-up block 83, exceptionally small amount calculation block 84, ROI set-up block 85, distinguishing classification block 86, report preparation block 87 and image processing block 88. - 特許庁
基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、洗浄処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を備える。例文帳に追加
The substrate processing equipment 500 comprises an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a cleaning block 13, and an interface block 14. - 特許庁
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「せれーしょんぶろーち」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 9243件
装飾シート材３０は、ブロー成形体２１のブロー成形と同時に同ブロー成形体２０の表面の一部に貼り付けられる。例文帳に追加
The decorative sheet material 30 is pasted to part of the surface of the blow molding body 20 concurrently with the blow molding of the blow-molded body 21. - 特許庁
着色顔料マスターバッチ及びこれを用いたブロー成形法例文帳に追加
COLORED PIGMENT MASTER BATCH AND METHOD FOR BLOW- MOLDING USING THE SAME - 特許庁
残少ウェブロール１のウェブ６が、ペースタローラ３によって回転状態の新ウェブロール１の最外周に押し付けられることで、残少ウェブロール１のウェブ６と新ウェブロール１のウェブ６とが両面テープ７で接合される。例文帳に追加
The web 6 of the exhausting web roll 1 is joined to the web 6 of the new web roll 1 with a double-sided adhesive tape 7 by pressing the web 6 of the exhausting web roll 1 against the outermost periphery of the new web roll 1 in the state of being rotated by a paster roller 3. - 特許庁
データブロックが論理チェックをパスすると、データブロックは不揮発性メモリに書込まれ得る（４１０）。例文帳に追加
The data block is written into a nonvolatile memory, when the data block passes the logical check (410). - 特許庁
絶縁ゲージブロック５はショルダー３に対し位置規制されている。例文帳に追加
The insulating gauge block is positionally regulated to the shoulder 3. - 特許庁
高感度画像データＨｉｇｈは、ＯＢ処理部６１ａ、ＬＭＴＸ６２ａ、ＷＢ処理部６３ａ、ガンマ補正部６４ａによる処理を経て乗算部６６ａに入力される。例文帳に追加
High sensitivity image data High is subjected to processing performed by an OB processing part 61a, an LMTX 62a, a WB processing part 63a and a gamma correcting part 64a and then inputted to a multiplying part 66a. - 特許庁
水晶チップ５の右上端部５ａに水晶に吸収されるレーザビーム４を照射して段階的に水晶チップ５の高さを変化させ、第１段部６_1、第２段部６_2、第３段部６_3、第４段部６_4をそれぞれ形成する。例文帳に追加
A first step 6_1, a second step 6_2, a third step 6_3, and a fourth step 6_4 are formed by changing the height of a quartz chip 5 stepwise by irradiating a laser beam 4 absorbed by a quartz to the right upper end 5a of the quartz chip 5. - 特許庁
基板処理装置５００においては、インデクサブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、洗浄／乾燥処理ブロック１２、現像処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４が、この順で並設される。例文帳に追加
The substrate processing apparatus 500 is juxtaposed with an indexer block 10, a treatment block 11 for resist films, a cleaning/drying treatment block 12, a development processing block 13, and an interface block 14 in this order. - 特許庁
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