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せれーしょんぶろーちの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 9241



例文

基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、レジストカバー膜用処理ブロック13、レジストカバー膜除去ブロック14、洗浄/乾燥処理ブロック15およびインターフェースブロック16を含む。例文帳に追加

The substrate processor 500 includes an indexer block 9, antireflective film processing block 10, resist film processing block 11, developing processing block 12, resist cover film processing block 13, resist cover film removing block 14, cleaning/drying processing block 15, and interface block 16. - 特許庁

分析装置2が得た分析データはデータ解析処理部6に送信され、データ解析処理部6で分析データの解析が行なわれる。例文帳に追加

Analysis data acquired by the analysis device 2 are transmitted to the data analyzing processing part 6, and analysis of the analysis data is performed by the data analyzing processing part 6. - 特許庁

ジョブローテーションは職務再設計の典型的な一例である。例文帳に追加

Job rotation is a typical example of job redesign. - Weblio英語基本例文集

押出ブロー成形用の高耐衝撃性ポリオキシメチレン例文帳に追加

HIGH IMPACT RESISTANT POLYOXYMETHYLENE FOR EXTRUSION BLOW MOLDING - 特許庁

例文

所定のエラー訂正コードをもつ入力データをエラー訂正ブロック内でインタリーブし、ブロック内でインタリーブされたデータを出力するブロック内インタリーバ104と、ブロック内でインタリーブされたデータを所定数のエラー訂正ブロック単位でブロック間インタリーブし、ブロック間インタリーブされたデータを出力するブロック間インタリーバ106とを含むインタリーブ回路。例文帳に追加

This interleaving circuit includes an intra-block interleaver 104 which interleaves input data having a prescribed error-correcting code in an error-correcting block and outputs the data interleaved in the block, and an intra-block interleaver 106 which interleaves the data interleaved in the block in prescribed number of error-correcting blocks among blocks and which outputs the data interleaved among blocks. - 特許庁


例文

診断支援処理実行プログラム80は、画像入力・管理ブロック81、 データベース管理ブロック82、仮ROI設定ブロック83,特徴量算出ブロック84、ROI設定ブロック8 5、 判別分類ブロック86、レポート作成ブロック87及び画像処理ブロック88からなっている。例文帳に追加

The diagnostic supporting process implementation program 80 consists of image input-control block 81, data base control block 82, provisional ROI set-up block 83, exceptionally small amount calculation block 84, ROI set-up block 85, distinguishing classification block 86, report preparation block 87 and image processing block 88. - 特許庁

基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、洗浄処理ブロック13およびインターフェースブロック14を備える。例文帳に追加

The substrate processing equipment 500 comprises an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a cleaning block 13, and an interface block 14. - 特許庁

装飾シート材30は、ブロー成形体21のブロー成形と同時に同ブロー成形体20の表面の一部に貼り付けられる。例文帳に追加

The decorative sheet material 30 is pasted to part of the surface of the blow molding body 20 concurrently with the blow molding of the blow-molded body 21. - 特許庁

着色顔料マスターバッチ及びこれを用いたブロー成形法例文帳に追加

COLORED PIGMENT MASTER BATCH AND METHOD FOR BLOW- MOLDING USING THE SAME - 特許庁

例文

残少ウェブロール1のウェブ6が、ペースタローラ3によって回転状態の新ウェブロール1の最外周に押し付けられることで、残少ウェブロール1のウェブ6と新ウェブロール1のウェブ6とが両面テープ7で接合される。例文帳に追加

The web 6 of the exhausting web roll 1 is joined to the web 6 of the new web roll 1 with a double-sided adhesive tape 7 by pressing the web 6 of the exhausting web roll 1 against the outermost periphery of the new web roll 1 in the state of being rotated by a paster roller 3. - 特許庁

例文

データブロックが論理チェックをパスすると、データブロックは不揮発性メモリに書込まれ得る(410)。例文帳に追加

The data block is written into a nonvolatile memory, when the data block passes the logical check (410). - 特許庁

絶縁ゲージブロック5はショルダー3に対し位置規制されている。例文帳に追加

The insulating gauge block is positionally regulated to the shoulder 3. - 特許庁

高感度画像データHighは、OB処理部61a、LMTX62a、WB処理部63a、ガンマ補正部64aによる処理を経て乗算部66aに入力される。例文帳に追加

High sensitivity image data High is subjected to processing performed by an OB processing part 61a, an LMTX 62a, a WB processing part 63a and a gamma correcting part 64a and then inputted to a multiplying part 66a. - 特許庁

水晶チップ5の右上端部5aに水晶に吸収されるレーザビーム4を照射して段階的に水晶チップ5の高さを変化させ、第1段部6_1、第2段部6_2、第3段部6_3、第4段部6_4をそれぞれ形成する。例文帳に追加

A first step 6_1, a second step 6_2, a third step 6_3, and a fourth step 6_4 are formed by changing the height of a quartz chip 5 stepwise by irradiating a laser beam 4 absorbed by a quartz to the right upper end 5a of the quartz chip 5. - 特許庁

基板処理装置500においては、インデクサブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、洗浄/乾燥処理ブロック12、現像処理ブロック13およびインターフェースブロック14が、この順で並設される。例文帳に追加

The substrate processing apparatus 500 is juxtaposed with an indexer block 10, a treatment block 11 for resist films, a cleaning/drying treatment block 12, a development processing block 13, and an interface block 14 in this order. - 特許庁

また、同様に低感度画像データLowは、OB処理部61b、LMTX62b、WB処理部63b、ガンマ補正部64bによる処理を経て、乗算部66bに入力される。例文帳に追加

In addition, low sensitivity image data Low is similarly subjected to processing performed by an OB processing part 61b, an LMTX 62b, a WB processing part 63b and a gamma correcting part 64b and then inputted to a multiplying part 66b. - 特許庁

また、同様に低感度画像データLowは、OB処理部61b、LMTX62b、WB処理部63b、ガンマ補正部64bによる処理を経て、乗算部66bに入力される。例文帳に追加

In addition, low sensitivity image data Low is similarly subjected to processing performed by an OB processing part 61b, an LMTX 62b, a WB processing part 63b and a gamma correcting part 64b, and then inputted to a multiplying part 66b. - 特許庁

スイッチ部63は分離部61からのデータのうち選択されたオブジェクトのデータのみを対象物符号化部641〜64nに入力させる。例文帳に追加

A switch section 63 gives only the data of a object selected from among data from the separation section 61 to the object cording section 641-64n. - 特許庁

文書登録ブロック200から文書管理ブロック100に電子ファイル化された文書が送られ、データベースに蓄積される。例文帳に追加

A document which is electronically filed is sent from the document registration block 200 to the document management block 100 and stored in a database. - 特許庁

データブロックの書き込み中に書込エラーが発生した場合、ブロックの空き間隔を設定する所定規格長のイレーズパターンを書込エラーを起こしたデータブロックのブロック長に設定してイレーズパターンを書き込んだ後に、データブロックを再度書き込む。例文帳に追加

When a write-in error is caused during writing of a data block, an erase-pattern of the prescribed standard length setting interval of blocks is set to block length of a data block in which a write-in error is caused, after the erase-pattern is written, the data block is written again. - 特許庁

基板処理装置500は、インデクサブロック8、端面洗浄処理ブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、レジストカバー膜用処理ブロック13、レジストカバー膜除去ブロック14、洗浄/乾燥処理ブロック15およびインターフェースブロック16を備える。例文帳に追加

The substrate processor 500 comprises an indexer block 8, end-face cleaning processing block 9, anti-reflection film processing block 10, resist film processing block 11, developing processing block 12, resist cover film processing block 13, resist cover film removing block 14, cleaning/drying processing block 15, and interface block 16. - 特許庁

第1のマスク60、所定の方向に延在する第1のアーム部61及び第2のアーム部62と、第1のアーム部61と第2のアーム部62との間に設けられ第1のアーム部61と第2のアーム部62とを接続する第1のブリッジ部63及び第2のブリッジ部64とを有する。例文帳に追加

The first mask 60 comprises: a first arm part 61 and a second arm part 62 that extend in a predetermined direction; and a first bridge part 63 and a second bridge part 64 that are provided between the first arm part 61 and the second arm part 62 and connect the first arm part 61 and the second arm part 62. - 特許庁

また、文書1A、1Bにはそれぞれ自文書情報のブロードキャスト機能が持たせられている。例文帳に追加

Furthermore, the document 1A, 1B includes a broadcast function of its own document information, respectively. - 特許庁

本発明にかかる耐圧容器1は、プリフォーム6を該耐圧容器1よりも大きな1次ブロー成形品7にブロー成形し、該1次ブロー成形品7を熱処理して収縮させ、収縮した1次ブロー成形品7を最終ブロー型12内で再度ブロー成形して得られる。例文帳に追加

The pressure vessel 1 is obtained by blow-molding a preform 6 into a primary blow-molded article 7 larger than the pressure vessel 1, shrinking the article 7 by thermal treatment, and again blow-molding the primary blow-molded article 7 which has been shrunk in a final blow mold 12. - 特許庁

差分データ生成部16、符号化対象フレームの各ブロックと一フレーム前の対応ブロックとの画素値の差分データを生成する。例文帳に追加

The differential data generating part 16 generates differential data in a pixel value between each block of an encoding target frame and a corresponding block of a frame ahead by one. - 特許庁

サーバ装置は、選択された文書ブロックをクライアント装置へ送信する。例文帳に追加

The server apparatus transmits the selected document block to the client apparatus. - 特許庁

ヒレ部61のシート接触面には上下方向に延びる複数の凸部63が形成されている。例文帳に追加

A plurality of projecting parts 63 extending in the vertical direction are formed on a sheet contact surface of the fin part 61. - 特許庁

ゴム変性スチレン系樹脂組成物とインジェクショブロー成形品例文帳に追加

RUBBER-MODIFIED STYRENIC RESIN COMPOSITION AND ITS INJECTION BLOW MOLDED ITEM - 特許庁

ゴム変性スチレン系樹脂組成物およびインジェクショブロー成形品例文帳に追加

RUBBER-MODIFIED STYRENIC RESIN COMPOSITION AND ITS INJECTION BLOW MOLDED ITEM - 特許庁

ゴム変性スチレン系樹脂組成物及びインジェクショブロー成形品例文帳に追加

RUBBER-MODIFIED STYRENIC RESIN COMPOSITION AND ITS INJECTION BLOW MOLDED ITEM - 特許庁

ゴム変性スチレン系樹脂組成物とそのインジェクショブロー成形品例文帳に追加

RUBBER-MODIFIED STYRENIC RESIN COMPOSITION AND ITS INJECTION BLOW MOLDED ARTICLE - 特許庁

基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、洗浄/現像処理ブロック12およびインターフェースブロック13を備える。例文帳に追加

The substrate processing equipment 500 comprises an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a cleaning/developing processing block 12, and an interface block 13. - 特許庁

ブロックは、両側面がプーリ面と接触するベースブロック1aと両側面がプーリ面と接触しないダミーブロック1bとからなり、ベースブロック1aの中にダミーブロック1bが20%以上の比率で分散して混入されている。例文帳に追加

The block is composed of a base block 1a kept into contact with the pulley face at its both side faces and a dummy block 1b not kept into contact with the pulley face at its both side faces, and the dummy block 1b is dispersed and mixed in the base block 1a by a ratio of 20 % or more. - 特許庁

通信処理部61により受信した、電子メールやファクシミリの文書ファイルは、定期実行部65の制御により蓄積処理部62、転送処理部63、印刷処理部64で処理される。例文帳に追加

A storage processing section 62, a transfer processing section 63, and a print processing section 64 process files such as electronic mail and facsimile documents received by a communication processing section 61 under the control of a periodic execution section 65. - 特許庁

第一位置決めブロック21a及び第二位置決めブロック21bには、所定の溝深さとなるアース線挿入溝21eがそれぞれ形成されている。例文帳に追加

The first and second positioning blocks 21a, 21b each have an earth wire insertion groove 21e having a predetermined groove depth. - 特許庁

ブロックエラーレートを向上させるレートマッチ処理を行う移動無線装置を提供する。例文帳に追加

To provide a mobile radio apparatus employing rate matching for improving a block error rate. - 特許庁

洗浄乾燥処理ブロック14Aおよび搬入搬出ブロック14Bにより、インターフェイスブロック14が構成される。例文帳に追加

An interface block 14 is constituted of a washing and drying processing block 14A and a carry-in/carry-out block 14B. - 特許庁

長いロールシート3Aは、ロールシート受け部64の上端縁部64Aと、規制部材62の搬送方向下流側における上端縁部62Dと、突出部61の下端部61Aの三箇所で固定される。例文帳に追加

The long roll sheet 3A is fixed at three points of the upper end edge 64A of a roll sheet receiving part 64, an upper end edge 62D on the conveyance direction downstream side of a regulating member 62, and the lower end 61A of a projecting part 61. - 特許庁

メモリセルブロックの一部を消去するサブブロック消去(S2)が実行された後、サブブロック消去ベリファイリードが実行される(S4)。例文帳に追加

The sub-block erase verify read is executed (S4) after the sub-block erase (S2) for erasing a part of a memory cell block is executed. - 特許庁

データ記憶部14には、所定のデータが記憶され、記憶された所定のデータがグループ分けされて、複数のデータブロック20が生成される。例文帳に追加

A data memory unit 14 stores a specified data, wherein a stored data is divided and grouped into a plurality of data blocks 20. - 特許庁

BEP装置600の合成部625は、第1及び第2伸張処理部622,623で伸張処理された画像データを合成する。例文帳に追加

A composing part 625 of a BEP device 600 composes the image data extended by first and second extension processing parts 622, 623. - 特許庁

エアブローでビーム照射を妨げることを防止するため、エキシマレーザLを照射されるビーム照射位置より手前側に、窒素ブローのガスライン24のノズル25のブロー吹付位置を位置させる。例文帳に追加

A polycrystalline semiconductor manufacturing device is set up, in such a way that the blowing position of a nozzle 25 of a nitrogen blowing gas line 24 is positioned on this side of the projecting position of an excimer laser beam L, so as to prevent the disturbance of the projected laser beam L by a blown nitrogen gas. - 特許庁

そして、優先処理回路6により、入力インタフェースブロック1,FCS付加ブロック2,インサーショブロック3,フラグ付加ブロック4及び出力インタフェースブロック5のそれぞれのブロックの動作を、より後段にあるブロック程優先して行わせるようにする。例文帳に追加

A priority processing circuit 6 is made to proceed with the operation of each block, the input interface block 1, the FCS attachment block 2, the insertion block 3, the flag attachment block 4, and the output interface block 5, by raising the priority level to a block which is at farther back stage. - 特許庁

電子線照射装置の付帯設備に使用する窓冷却ブロワー、排気ブロワー、にインバータを設け、窓冷却ブロワー、排気ブロワーの出力X、Yを出力電流Ibに合わせ調整する。例文帳に追加

In this structure, inverters are provided on a window cooling blower and an exhaust blower used for the incidental equipment of the electron beam irradiation device, and the outputs X and Y of the window cooling blower and the exhaust blower are regulated according to an output current Ib. - 特許庁

ブロック線図に基づいて作成されたシミュレーションデータを用いて行うシミュレーションにおいて、シミュレーションを効率化する。例文帳に追加

To make efficient simulation which is carried out by using simulation data generated according to a block diagram. - 特許庁

そして、制御時には、データブロックの配置数から最大参照数を特定し、変動パターンに配置されたデータブロックを参照する。例文帳に追加

Then, the number of maximum references is specified from the number of arranged data blocks under the control, the data block arranged for the varying pattern is referred to. - 特許庁

ベースポリマは、ポリマーの末端相1と、柔軟な中間ブロック相2により形成される。例文帳に追加

A base polymer is formed of a polymer end phase 1 and a soft intermediate block phase 2. - 特許庁

処置計画ブロック9は、決定した処置および処置の実施計画を処置知識データベース5に蓄積すると共に、事象分析ブロック8および外部インターフェースブロック7を介してディスプレイ10に表示する。例文帳に追加

The processing scheme block 9 stores the decided processing and the decided processing execution scheme to the processing intelligence database 5 and allows a display device 10 to display them via the event analysis block 8 and the external interface block 7. - 特許庁

色成分結合部5は、それぞれのワークメモリ4から回転処理後の色成分ブロックの画像データを読み出してデータフォーマットに結合し、1ブロック単位分の回転処理結果としてブロック結合部6に渡す。例文帳に追加

A color component connecting part 5 reads the image data of the color component block after performing the rotation processing from each work memory 4, connects is to the data format, and gives it to a block connecting part 6 as a rotation processing result for the portion of one block unit. - 特許庁

例文

該総和が、対象データブロックの再生開始時刻から記録フォーマットにより定められた所定時間後の時点が注目データブロックの再生期間に含まれることを示すとき、注目データブロックの再生位置を示す情報を対象データブロックのフォーワード位置情報として生成する。例文帳に追加

When it is shown that the point after the predetermined time determined by a recording format from the reproduction start time of object data block is included in reproduction period of attention data block, information indicating reproduction position of attention data block is generated as forward position information of object data block. - 特許庁

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