ろくろくびの英語

各取付けリング６８には、一対の被洗浄物支持部６６（６６ａａ〜６６ｅｂ）がヒンジ７４を介して取り付けてある。例文帳に追加

Each attaching ring 68 is provided with a pair of washed-object supporting portions 66 (66aa to 66eb) via a hinge 74. - 特許庁

溝６６ｃはローラ６６の上下端には達しておらず、また、その深さＤｍは、ローラ６６の外周面６６ａと内周面６６ｂとの距離Ｄｒの１／２以上であるが、内周面６６ｂまで貫通はしていない。例文帳に追加

The groove 66c does not reach to upper and lower ends of the roller 66, and further, the depth Dm is 1/2 or more of a distance Dr of the outer peripheral surface 66a of the roller 66 and an inner peripheral surface 66, however, it is not penetrated to the inner peripheral surface 66b. - 特許庁

また、ビス６１と背板部４１の間には、パッキン６６，６６が介在されており、このためビス６１とパッキン６６，６６とで構成される取付部材６０が支持具本体４０内で突出した状態となる。例文帳に追加

Packings 66 and 66 are interposed between the screw 61 and the back board section 41, and a mounting member 60 consisting of the screw 61 and the packing 66 and 66 is thereby in a state to project inside of the supporting device body 40. - 特許庁

凹部付き舌片５６ａ（６６ａ）および凸部付き舌片５６ｂ（６６ｂ）は、可撓性を有している。例文帳に追加

The recessed tongues 56a (66a) and protruded tongues 56b (66b) have flexibility. - 特許庁

そして、第１バンプ部６３ａ〜６６ａと第２バンプ部６３ｂ〜６６ｂとは、バイパス層６３ｃ〜６６ｃの延び方向における位置が異なる。例文帳に追加

And positions in extending direction of the bypass layers 63c-66c are different in the first vamp parts 63a-66a and the second vamp parts 63b-66b. - 特許庁

高抵抗率の抵抗層６６Ｃと、それよりも抵抗率の低い抵抗層６６Ａ及び６６Ｂを同一の膜４２から形成できる。例文帳に追加

A high-resistivity resistance layer 66C and resistance layers 66A and 66B of lower resistivity can be formed from the same film 42. - 特許庁

スタック部６２は、各カセッテが載置される第１受け板６６ａ、第２受け板６６ｂ及び第３受け板６６ｃを備える。例文帳に追加

The stack part 62 is equipped with a first support plate 66a, a second support plate 66b and a third support plate 66c on which the respective cassettes are placed. - 特許庁

外側供給孔部６６ａ及び内側供給孔部６６ｂの使用本数に対し、供給孔部６６ｃの使用本数が少なく設定される。例文帳に追加

The number of the used supply hole parts 66c is set less against the number of the outside supply hole parts 66a and the inside supply hole parts 66b in use. - 特許庁