スプレー設備の英語

スプレー缶３１の噴射ノズル３６からインクを設備の漏洩位置に噴射することにより、漏洩位置に目印を簡単に付けることができる。例文帳に追加

Ink is sprayed to the leakage position of the facility from the injection nozzle 36 of the spray can 31, whereby the leakage position can be easily marked. - 特許庁

半導体基板、ガラスプレート等の基板を製造するための製造設備における基板キャリア搬送システムを提供する。例文帳に追加

To provide a substrate carrier transporting system in a manufacturing facility for manufacture a semiconductor substrate and a substrate such as a glass plate, etc. - 特許庁

ベースプレートを大型化することなく、固定部材の打ち込み位置の自由度を高めることができる軌道固定設備を提供する。例文帳に追加

To provide a track fixing facility capable of enhancing a degree of freedom of a driving position of a fixing member without enlarging a baseplate. - 特許庁

処理コストの低減、設備の小型化、スプレー距離を短縮化、回転ドラム内の温度低下および排気風量増大を抑制する。例文帳に追加

To reduce a treatment cost, to miniaturize an apparatus, to shorten a spray distance and to suppress the lowering of temperature in a rotary drum and the increase of exhaust gas quantity. - 特許庁

廃棄物焼却炉設備の解体作業前に、廃棄物焼却炉設備にスプレーノズル３及びヘッダ管４を取り付けて、酸類により化学洗浄する。例文帳に追加

Before the waste incinerator plant is dismantled, a spray nozzle 3 and a header pipe 4 are attached to the waste incinerator plant to chemically wash the system with acids. - 特許庁

この方法は、スプレーノズルや真空設備等を必要とせず大気下で成膜可能であり、簡易設備での高品位な導電性酸化スズ膜の製造を可能にする。例文帳に追加

The method is enabled to form a film under an atmosphere without the need of a spray nozzle, a vacuum equipment or the like, and to manufacture a conductive tin oxide film of high quality with a simple equipment. - 特許庁

前後方向寸法が異なる種々の便器上面設備に対し、共通のベースプレートを採用し、コストダウンを図ることが可能となる便器上面設備を提供する。例文帳に追加

To provide equipment on a top surface of a toilet stool, which enables cost reduction by adopting a standardized base plate to various types of pieces of the equipment on the top surface of the toilet stool, different in longitudinal dimension. - 特許庁

連続焼鈍炉出側の水スプレー設備２および／またはウォータークェンチ設備３内部の雰囲気中の酸素濃度を、１０００ｐｐｍ以下に制御して通板する。例文帳に追加

This manufacturing method includes passing the sheet while controlling oxygen concentration in an atmosphere in a water spraying facility 2 and/or a water quenching facility 3 in the outlet side of a continuous annealing furnace to 1,000 ppm or lower. - 特許庁