テーパエッチングの英語

高い安定性と工程マージンを保障し、銅を含む金属層を均等にテーパエッチングすることができる優れたエッチング液を提供する。例文帳に追加

To provide a superior etching liquid which can secure high stability and process margin, and which can uniformly taper-etch a metal layer, including copper. - 特許庁

これにより、該エッチング液組成物は、過酸化水素を含有しないので、安定性と工程上マージンとを確保することができ、優秀なテーパエッチングプロファイルを得ることができる。例文帳に追加

Thereby, since the etchant composition contains no hydrogen peroxide, stability and a margin on a process can be secured, and an excellent taper etching profile can be obtained. - 特許庁

本発明のエッチング液組成物は過酸化水素を含有しないので安定性と工程上マージンを確保することができ、優れたテーパエッチングプロファイルを得ることができる。例文帳に追加

Since the etching liquid composition does not contain hydrogen peroxide, the stability and the process margin can be secured, and superior taper etching profile can be obtained. - 特許庁

非磁性層に溝部１２ａを形成する工程は、ＢＣｌ_３、Ｃｌ_２、Ｎ_２のうち少なくともＢＣｌ_３とＮ_２を含むエッチングガスを用いた反応性イオンエッチングによって、非磁性層をテーパエッチングする工程を含む。例文帳に追加

The step of forming the groove 12a in the nonmagnetic layer includes the step of taper-etching the nonmagnetic layer by reactive ion etching with an etching gas containing at least BCl_3 and N_2 among BCl_3, Cl_2 and N_2. - 特許庁

非磁性層に溝部１２ａを形成する工程は、ＢＣｌ_３、Ｃｌ_２、Ｎ_２のうち少なくともＢＣｌ_３とＮ_２を含むエッチングガスを用いた反応性イオンエッチングによって、非磁性層をテーパエッチングする工程を含む。例文帳に追加

The process for forming the groove 12a in the non-magnetic layer includes a process for executing taper etching to the non-magnetic layer by reactive ion etching which uses an etching gas including at least BCl_3 and N_2 out of BCl_3, Cl_2, and N_2. - 特許庁

サイドシールド材をテーパエッチングしてＡＢＳ面から見た形状が逆台形状或いは逆三角形状のいずれかの形状の凹部５を形成する工程と、凹部５に非磁性絶縁膜及びめっきベース層７を介して主磁極材料８を電解めっきする工程とを有する。例文帳に追加

The manufacturing method includes steps of: forming a recess 5 having either an inverted trapezoid shape or an inverse triangle shape viewed from an ABS face by taper-etching a side shield material; and electrolytically plating a main pole material 8 through a non-magnetic dielectric film and plating base layer 7 in the recess 5. - 特許庁

基板上の第１クラッド層を等方エッチングまたはテーパエッチングを施してこのクラッド層に３次元のエッチング曲面を形成する工程と、前記第１クラッド層にコア層を前記エッチング曲面に沿って形成する工程と、少なくとも前記コア層上に第２クラッド層を形成する工程とを含むことを特徴とする例文帳に追加

The manufacturing an optical device comprises the step of forming a three-dimensional etching curved surface on a clad layer by isotropically etching or taper etching a first clad layer on a board, the step of forming a core layer along the curved surface on the first clad layer, and the step of forming a second clad layer on at least the core layer. - 特許庁